JP2013136538A5 - - Google Patents
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請求項３に係る発明においては、第１反応器の反応温度を、同反応器への水素供給量を調整することに加えて、同反応器へ水蒸気を供給することにより調整するので、反応器内の触媒層の急激な温度上昇を一層効果的に避けることができる。
第１反応器Ｒ１から排出されたガスは、冷却器Ｃ１により第２反応器Ｒ２の反応に必要な温度まで冷却されたあと第２反応器Ｒ２へ供給される。第２反応器Ｒ２の反応温度は第１反応器Ｒ１の反応温度より低く設定（例えば、１５０〜２２０℃）され、ガス組成中のメタン含有量を化学平衡的に増やす。第２反応器Ｒ２への水素量は、原料ガス流量と第１反応器への水素流量から計算して調整される。具体的には、第２反応器Ｒ２への水素流量を、原料ガス流量からの二酸化炭素流量および第１反応器Ｒ１への水素流量から、化学量論的に供給された二酸化炭素をメタネーション反応するために必要な水素量（化学量論的にはモル比にて、二酸化炭素の４倍の水素が必要である。）の不足分を計算してこの流量で水素を供給する。
実施例２
メタネーション反応装置の別の実施例の全体フローを図２に示す。この実施例では、原料ガス供給ライン２に、ガス流量を計測するための流量計Ｆ４と、原料ガス供給ライン２と水素供給ライン１の合流点との間に、水蒸気調整弁Ｖ４を備えた水蒸気供給ライン９が接続されている。水蒸気調整弁Ｖ４は温度計Ｔ１の計測温度に従って制御される。
メタネーション反応装置の別の実施例の全体フローを図２に示す。この実施例では、原料ガス供給ライン２に、ガス流量を計測するための流量計Ｆ４と、原料ガス供給ライン２と水素供給ライン１の合流点との間に、水蒸気調整弁Ｖ４を備えた水蒸気供給ライン９が接続されている。水蒸気調整弁Ｖ４は温度計Ｔ１の計測温度に従って制御される。
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