JP2013126654A - 可視光応答型酸化チタン微粒子分散液、その製造方法及び該分散液を用いて形成される光触媒薄膜を表面に有する部材 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】原料チタン化合物、バナジウム化合物、スズ化合物、塩基性物質、過酸化水素及び水性分散媒からバナジウムとスズ化合物を含有したペルオキソチタン酸溶液を製造し、これを高圧下に水熱反応させ、次いでこれに銅化合物を混合し可視光応答型酸化チタン微粒子分散液等を得る。
【選択図】なし
Description
この光触媒作用を持った酸化チタン微粒子を基材表面に塗布し、光触媒薄膜を形成すると、励起光を照射することで、吸着した有害有機物を分解させることができることから、基材表面の清浄化、脱臭、抗菌等の用途に多用されている。光触媒活性を高めるために、光触媒粒子と分解対象物質との接触面積を広くとることが、また、塗布対象基材の意匠性を維持するために、膜の透明性が要求されている。これらの要求を満たすためには、酸化チタン分散液中の酸化チタン微粒子の平均粒子径が50nm以下であることが必要である。
また、各種部材表面に酸化チタン微粒子分散液を塗布し易くすると共に該微粒子を接着し易いようにするためにはバインダー成分の添加が好ましく、該バインダー成分として、一般的には、光触媒活性の影響を受け難い、無機系化合物、シリコーン樹脂、テフロン(登録商標)樹脂などの使用が考えられるが、本発明の可視光応答型酸化チタン微粒子分散液には、酸化チタン微粒子の分散安定性、光触媒活性の発現、光触媒薄膜の透明性及び耐久性の観点から、ケイ素系化合物の使用が好ましいことも分かった。
〔1〕
水性分散媒中に、ペルオキソチタン成分、バナジウム成分及びスズ成分を含有した酸化チタン微粒子が分散されていると共に、銅成分が含有されていることを特徴とする可視光応答型酸化チタン微粒子分散液。
〔2〕
前記バナジウム成分の含有量が、酸化チタンとのモル比(Ti/V)で100〜10,000であることを特徴とする〔1〕に記載の可視光応答型酸化チタン微粒子分散液。
〔3〕
前記ペルオキソチタン成分の含有量が、酸化チタンに対して0.05〜2質量%であることを特徴とする〔1〕又は〔2〕に記載の可視光応答型酸化チタン微粒子分散液。
〔4〕
前記スズ成分の含有量が、酸化チタンとのモル比(Ti/Sn)で10〜1,000であることを特徴とする〔1〕〜〔3〕のいずれかに記載の可視光応答型酸化チタン微粒子分散液。
〔5〕
前記銅成分の金属銅換算での含有量が、酸化チタンに対して0.01〜1質量%であることを特徴とする〔1〕〜〔4〕のいずれかに記載の可視光応答型酸化チタン微粒子分散液。
〔6〕
前記可視光応答型酸化チタン微粒子の分散径が、レーザー光を用いた動的散乱法により測定される体積基準の50%累積分布径(D50)で5〜30nmであることを特徴とする〔1〕〜〔5〕のいずれかに記載の可視光応答型酸化チタン微粒子分散液。
〔7〕
更にバインダーを添加したことを特徴とする〔1〕〜〔6〕のいずれかに記載の可視光応答型酸化チタン微粒子分散液。
〔8〕
バインダーがケイ素化合物系バインダーであることを特徴とする〔7〕に記載の可視光応答型酸化チタン微粒子分散液。
〔9〕
〔1〕〜〔8〕のいずれかに記載の酸化チタン微粒子分散液を用いて形成される光触媒薄膜を表面に有する部材。
〔10〕
(1)原料チタン化合物、バナジウム化合物、スズ化合物、塩基性物質、過酸化水素及び水性分散媒から、バナジウム化合物とスズ化合物を含有したペルオキソチタン酸溶液を製造する工程、
(2)前記バナジウム化合物とスズ化合物を含有したペルオキソチタン酸溶液を高圧下、80〜250℃で加熱し、ペルオキソチタン成分、バナジウム成分及びスズ成分を含有した酸化チタン微粒子分散液を得る工程、及び
(3)前記酸化チタン微粒子分散液に銅化合物を混合する工程
を有することを特徴とする〔1〕〜〔6〕のいずれかに記載の可視光応答型酸化チタン微粒子分散液の製造方法。
〔11〕
前記工程(3)の後に、バインダーを添加することを特徴とする〔10〕に記載の可視光応答型酸化チタン微粒子分散液の製造方法。
〔12〕
バインダーがケイ素化合物系バインダーであることを特徴とする〔11〕に記載の可視光応答型酸化チタン微粒子分散液の製造方法。
〔13〕
〔10〕〜〔12〕のいずれかに記載の酸化チタン微粒子分散液の製造方法によって得られる酸化チタン微粒子分散液を用いて形成される光触媒薄膜を表面に有する部材。
<可視光応答型酸化チタン微粒子分散液の製造方法>
本発明の可視光応答型酸化チタン微粒子分散液の製造方法は、
(1)原料チタン化合物、バナジウム化合物、スズ化合物、塩基性物質、過酸化水素及び水性分散媒から、バナジウム化合物とスズ化合物を含有したペルオキソチタン酸溶液を製造する工程、
(2)上記工程(1)で得られたバナジウム化合物とスズ化合物を含有したペルオキソチタン酸溶液を高圧下、80〜250℃で加熱し、ペルオキソチタン成分、バナジウム成分及びスズ成分を含有した酸化チタン微粒子分散液を得る工程、及び
(3)上記工程(2)で得られた酸化チタン微粒子分散液に銅化合物を混合する工程
を有する製造方法により製造することができる。
工程(1)では、原料チタン化合物、バナジウム化合物、スズ化合物、塩基性物質及び過酸化水素を水性分散媒中で反応させることにより、バナジウム化合物、スズ化合物を含有したペルオキソチタン酸溶液を製造する。
反応方法としては、水性分散媒中の原料チタン化合物に塩基性物質を添加して水酸化チタンとし、含有する金属イオン以外の不純物イオンを除去し、過酸化水素を添加してペルオキソチタン酸とした後にバナジウム化合物及びスズ化合物を添加して、バナジウム、スズ含有ペルオキソチタン酸とする方法でも、水性分散媒中の原料チタン化合物にバナジウム化合物及びスズ化合物を添加した後に塩基性物質を添加してバナジウム、スズ含有水酸化チタンとし、含有する金属イオン以外の不純物イオンを除去し、過酸化水素を添加してバナジウム、スズ含有ペルオキソチタン酸とする方法でもよい。
塩基性物質は、上記水性分散媒と共に適当な濃度の水溶液にして使用してもよい。
このようなバナジウム化合物は、酸化チタンとのモル比(Ti/V)で100〜10,000含有されていることが好ましく、より好ましくは500〜10,000、更に好ましくは1,000〜5,000である。上記モル比が、100未満の場合、酸化チタン結晶の含有割合が低下し光触媒効果が十分発揮されないことがあり、10,000超過の場合、可視光応答性が不十分となることがある。
尚、上記バナジウム成分の存在状態は、少なくともその一部は酸化チタン微粒子内部にドープ若しくは酸化チタン微粒子表面に吸着されていることが好ましく、他の部分は分散液中に溶解及び/又は分散していることが好ましい。
このようなスズ化合物は、酸化チタンとのモル比(Ti/Sn)で10〜1,000含有されていることが好ましく、より好ましくは10〜500、更に好ましくは20〜100である。上記モル比が、10未満の場合、酸化チタンの含有割合が低下し光触媒効果が十分発揮されないことがあり、1,000超過の場合、可視光応答性が不十分となることがある。
尚、上記スズ成分の存在状態は、少なくともその一部は酸化チタン微粒子内部にドープ若しくは酸化チタン微粒子表面に吸着されていることが好ましく、他の部分は分散液中に溶解及び/又は分散していることが好ましい。
過酸化水素の添加量は、Ti、V及びSnの合計モル数の1.5〜10倍モルとすることが好ましい。また、この過酸化水素を添加して原料チタン化合物又は水酸化チタンをペルオキソチタン酸にする反応における反応温度は、5〜60℃とすることが好ましく、反応時間は、30分〜24時間とすることが好ましい。
ここでいう、アルカリ性物質としては、例えば、アンモニア、水酸化ナトリウム、水酸化カルシウム等が挙げられ、酸性物質としては、例えば、硫酸、硝酸、塩酸、炭酸、リン酸、過酸化水素等の無機酸及び蟻酸、クエン酸、蓚酸、乳酸、グリコール酸等の有機酸が挙げられる。
この場合、得られたバナジウム化合物及びスズ化合物を含有したペルオキソチタン酸溶液のpHは、1〜7、特に4〜7であることが取り扱いの安全性の点で好ましい。
工程(2)では、上記工程(1)で得られたバナジウム及びスズ含有ペルオキソチタン酸溶液を高圧下、80〜250℃、好ましくは100〜250℃の温度において水熱反応に供する。反応温度は、反応効率と反応の制御性の観点から80〜250℃が適切であり、その結果、バナジウム、スズ含有ペルオキソチタン酸はペルオキソチタン、バナジウム及びスズ含有酸化チタン微粒子に変換されていく。
この場合、圧力は、0.01〜4.5MPa程度、特に0.15〜4.5MPa程度の高圧であることが好ましく、反応時間は、1分〜24時間であることが好ましい。
この工程(2)により、ペルオキソチタン成分、バナジウム成分及びスズ成分を含有する酸化チタン微粒子分散液が得られる。
尚、ここで、ペルオキソチタン成分とは、Ti−O−O−Ti結合を含む酸化チタン化合物を意味し、ペルオキソチタン酸及びTi(VI)と過酸化水素との反応によって生成するペルオキソチタン錯体を包含するものである。
また、バナジウム成分とは、金属バナジウムを含むバナジウム系化合物を意味し、上述のバナジウム化合物を包含するものである。
また、スズ成分とは、金属スズを含むスズ系化合物を意味し、上述のスズ化合物を包含するものである。
工程(3)では、上記工程(2)で得られた酸化チタン微粒子分散液に銅化合物を混合する。
混合方法としては、酸化チタン微粒子分散液に銅化合物を混合して撹拌機で撹拌する方法でも、超音波分散機で分散させる方法でもよい。混合時の温度は20〜250℃、時間は、1分〜3時間であることが好ましい。
更には、20〜60℃、1分〜1時間であることが取り扱いの容易さの点で好ましい。
銅化合物は、上記水性分散媒と共に適当な濃度の水溶液にして使用してもよい。
銅化合物は、金属銅換算で、酸化チタン微粒子に対して0.01〜1質量%含有されていることが好ましく、特には0.1〜1質量%が好ましい。上記含有量が、0.01質量%未満の場合又は1質量%超過の場合、光触媒薄膜の分解活性が十分に発揮されないことがあり、また十分に混合・分散せずに光触媒薄膜の透明性が落ちることがある。
尚、上記銅成分の存在状態は、分散液中に分散及び/又は溶解していることが好ましい。
また、分散液中の酸化チタン微粒子の濃度は、所要の厚さの光触媒薄膜の作製し易さの点で、該分散液中、0.01〜20質量%が好ましく、特に0.5〜10質量%が好ましい。
尚、上記ペルオキソチタン成分の存在状態は、少なくともその一部は酸化チタン微粒子内部若しくは酸化チタン微粒子表面に存在していることが好ましく、他の部分は分散液中に溶解及び/又は分散していることが好ましい。
このようにして得られる可視光応答型酸化チタン微粒子分散液は、室内冷暗所に長期放置しても酸化チタン微粒子の分散安定性に優れるものである。
尚、ここでいう冷暗所とは、10〜25℃程度の冷所であって、かつ直射日光や室内照明の直接光が当たらない暗所を指し、具体的には、冷蔵庫、薬品庫、地下収納庫等が挙げられる。
本発明の可視光応答型酸化チタン微粒子分散液は、このような室内冷暗所で、特に6ヶ月程度放置しても、酸化チタン微粒子の平均粒子径が製造当初から3割超過で増加することを抑制し得るものであり、酸化チタン微粒子の分散安定性が極めて優れたものである。
本発明の可視光応答型酸化チタン微粒子分散液は、各種部材の表面に光触媒膜を形成させるために使用することができる。
ここで、各種部材は、特に制限されないが、部材の材料としては、例えば、有機材料、無機材料が挙げられ、無機材料には、例えば、非金属無機材料、金属無機材料が包含される。これらは、それぞれの目的、用途に応じた様々な形状を有することができる。
これらは、フィルム、シート、繊維材料、繊維製品、その他の成型品、積層体等の所要の形状、構成に製品化されていてもよい。
尚、上記可視光応答型酸化チタン微粒子分散液に、上記各種部材表面に該分散液を塗布し易くすると共に該微粒子を接着し易いようにする目的で、バインダー、特にはケイ素化合物系バインダーを配合比(ケイ素化合物と酸化チタンの質量比)1:99〜99:1、より好ましくは10:90〜90:10、更に好ましくは30:70〜70:30の範囲で添加して使用してもよい。
ここで、ケイ素化合物系バインダーとは、固体状又は液体状のケイ素化合物を水性分散媒中に含んでなるケイ素化合物の、コロイド分散液、溶液又はエマルジョンであって、具体的には、コロイダルシリカ;シリケート等のケイ酸塩類溶液;シラン、シロキサン加水分解物エマルジョン;シリコーン樹脂エマルジョン;シリコーン−アクリル樹脂共重合体、シリコーン−ウレタン樹脂共重合体等のシリコーン樹脂と他の樹脂との共重合体のエマルジョン等を挙げることができる。
このようにして形成される光触媒膜は、透明であり、従来のように紫外領域の光(10〜400nm)において良好な光触媒作用を与えるばかりでなく、従来の光触媒では十分な光触媒作用を得ることができなかった、可視領域の光(400〜800nm)のみでも優れた光触媒作用が得られるものであり、該光触媒膜が形成された各種部材は、酸化チタンの光触媒作用により表面に吸着した有機物を分解することから、該部材表面の清浄化、脱臭、抗菌等の効果を発揮することができるものである。
分散液中の酸化チタン微粒子の平均粒子径(D50)は、粒度分布測定装置(商品名“ナノトラック粒度分析計UPA−EX”、日機装(株))を用いて測定した。
酸化チタン微粒子分散液中の酸化チタン微粒子の分散安定性は、上記粒度分布測定装置により、製造当日の平均粒子径と室内冷暗所に6ヶ月間放置したあとの平均粒子径を次の基準で比較し、評価した。
やや不良(△と表示)・・・ 差が+30%を超え、+50%以下。
不良(×と表示) ・・・ 差が+50%を超える、若しくは粒子が容器底部に沈澱。
酸化チタン微粒子に含有されるペルオキソチタン成分の存在は、ペルオキソ基中のO−O結合の存在の有無によって確認した。具体的には、得られた酸化チタン微粒子分散液を室温で自然乾燥することで得た酸化チタン微粒子の粉末を、赤外分光光度計(商品名“SYSTEM2000”、PerkinElmer社)で測定し、900cm-1付近のO−O結合のピークの有無を確認した。
酸化チタン微粒子分散液中のペルオキソチタン成分濃度は、過酸化水素吸光光度法によって測定した。具体的には酸化チタン微粒子分散液を硫酸酸性としてペルオキソチタン成分と反応、呈色させた後、紫外可視近赤外分光光度計(商品名“LAMBDA 950”、Perkin Elmer社)を用いて410nmの波長の強度を測定し、Ti標準液との相対強度から算出した。
基材であるガラス板のHAZE値(%)を測定する。次に、分散液を該ガラス上に塗布、乾燥することで光触媒薄膜を作製し、該薄膜を作製した状態のガラス板のHAZE値を測定する。その差から光触媒薄膜のHAZE値を求める。HAZE値の測定はHAZEメーター(商品名“デジタルヘイズメーターNDH−200”、日本電色工業(株))を用いた。光触媒薄膜の透明性を求められたHAZE値の差から次の基準で評価した。
やや不良(△と表示)・・・ 差が+1%を超え、+3%以下。
不良(×と表示) ・・・ 差が+3%を超える。
分散液を塗布、乾燥することで作製した光触媒薄膜の活性を、アセトアルデヒドガスの分解反応により評価した。評価はバッチ式ガス分解性能評価法により行った。
具体的には、容積5Lの石英ガラス窓付きステンレス製セル内にA4サイズのPETフィルム上に50mgの光触媒薄膜を形成した評価用サンプルを設置したのち、該セルを湿度50%に調湿した濃度5ppmのアセトアルデヒドガスで満たし、該セル上部に設置したLED(商品名“TH−211×200SW”、シーシーエス(株)、分光分布:400〜800nm)で照度30,000LUXになるように光を照射した。薄膜上の光触媒によりアセトアルデヒドガスが分解すると、該セル中のアセトアルデヒドガス濃度が低下する。そこで、その濃度を測定することで、アセトアルデヒドガス分解量を求めることができる。アセトアルデヒドガス濃度は光音響マルチガスモニタ(商品名“INNOVA1412”、LumaSense社製)を用いて測定し、12時間照射後の残存アセトアルデヒドガス濃度を比較することで評価した。
36質量%の塩化チタン(IV)水溶液に硫酸バナジル(IV)をTi/V(モル比)が2,000、塩化スズ(IV)をTi/Sn(モル比)が20となるように添加し、これを純水で10倍に希釈した後、この水溶液に10質量%のアンモニア水を徐々に添加して中和、加水分解することによりバナジウム、スズを含有する水酸化チタンの沈殿物を得た。このときの溶液のpHは8であった。得られた水酸化チタンの沈殿物を、純水の添加とデカンテーションを繰り返して脱イオン処理した。この脱イオン処理後のバナジウム、スズを含有する水酸化チタン沈殿物に過酸化水素/水酸化チタン(モル比)が2.5以上となるように30質量%過酸化水素水を添加し、その後室温で一昼夜撹拌して十分に反応させた。その後、純水を添加して濃度調整を行うことにより、黄色透明のバナジウム、スズ含有ペルオキソチタン酸溶液(a)(固形分濃度1質量%)を得た。
60質量%の硫酸チタニル(IV)水溶液にオキシ三塩化バナジウム(V)をTi/V(モル比)が200、スズ酸カリウム(IV)をTi/Sn(モル比)が20となるように添加し、これを純水で10倍に希釈した後、この水溶液に10質量%のアンモニア水を徐々に添加して中和、加水分解することによりバナジウム、スズを含有する水酸化チタンの沈殿物を得た。このときの溶液のpHは8.5であった。得られた水酸化チタンの沈殿物を、純水の添加とデカンテーションを繰り返して脱イオン処理した。この脱イオン処理後のバナジウム、スズを含有する水酸化チタン沈殿物に過酸化水素/水酸化チタン(モル比)が3以上となるように30質量%過酸化水素水を添加し、その後室温で一昼夜撹拌して十分に反応させた。その後、純水を添加して濃度調整を行うことにより、黄色透明のバナジウム、スズ含有ペルオキソチタン酸溶液(b)(固形分濃度1質量%)を得た。
塩化スズ(IV)をTi/Sn(モル比)が500となるように添加した以外は実施例1と同様にして、本発明の可視光応答型酸化チタン微粒子分散液(γ)を得た。得られた分散液中の酸化チタン微粒子の平均粒子径は15nmであった。また、6ヶ月間室内冷暗所に放置した酸化チタン微粒子分散液の平均粒子径は17nmであった(良好:○)。
尚、途中、水熱処理後であって硫酸銅水溶液(i)添加前の酸化チタン微粒子分散液中の酸化チタン微粒子にペルオキソ基の存在が確認され、ペルオキソチタン成分の濃度を求めたところ0.12%であった。
また、実施例1と同様に、酸化チタン微粒子分散液(γ)から、評価用コーティング液を作製し、該評価用コーティング液を用いて、光触媒薄膜の透明性(基材のガラス板と光触媒コートガラス板のHAZE値の差)、光触媒薄膜のアセトアルデヒドガス分解性能(ガス分解率)を測定したところ、それぞれHAZE値の差は0.7%(良好:○)、ガス分解率は28%であった。
酸化チタン微粒子分散液(A)に硫酸銅水溶液(i)を0.5質量%となるように添加した以外は実施例1と同様にして、本発明の可視光応答型酸化チタン微粒子分散液(δ)を得た。得られた分散液中の酸化チタン微粒子の平均粒子径は11nmであった。また、6ヶ月間室内冷暗所に放置した酸化チタン微粒子分散液の平均粒子径は12nmであった(良好:○)。
また、実施例1と同様に、酸化チタン微粒子分散液(δ)から、評価用コーティング液を作製し、該評価用コーティング液を用いて、光触媒薄膜の透明性(基材のガラス板と光触媒コートガラス板のHAZE値の差)、光触媒薄膜のアセトアルデヒドガス分解性能(ガス分解率)を測定したところ、それぞれHAZE値の差は0.4%(良好:○)、ガス分解率は48%であった。
水熱処理時間を150分間とした以外は実施例1と同様にして、本発明の可視光応答型酸化チタン微粒子分散液(ε)を得た。得られた分散液中の酸化チタン微粒子の平均粒子径は9nmであった。また、6ヶ月間室内冷暗所に放置した酸化チタン微粒子分散液の平均粒子径は11nmであった(良好:○)。
尚、途中、水熱処理後であって硫酸銅水溶液(i)添加前の酸化チタン微粒子分散液中の酸化チタン微粒子にペルオキソ基の存在が確認され、ペルオキソチタン成分の濃度を求めたところ1.20%であった。
また、実施例1と同様に、酸化チタン微粒子分散液(ε)から、評価用コーティング液を作製し、該評価用コーティング液を用いて、光触媒薄膜の透明性(基材のガラス板と光触媒コートガラス板のHAZE値の差)、光触媒薄膜のアセトアルデヒドガス分解性能(ガス分解率)を測定したところ、それぞれHAZE値の差は0.4%(良好:○)、ガス分解率は40%であった。
塩化スズ(IV)を添加しなかったこと以外は実施例1と同様にして、酸化チタン微粒子分散液(ζ)を得た。得られた分散液中の酸化チタン微粒子の平均粒子径は27nmであった。また、6ヶ月間室内冷暗所に放置した酸化チタン微粒子分散液の平均粒子径は30nmであった(良好:○)。
尚、途中、水熱処理後であって硫酸銅水溶液(i)添加前の酸化チタン微粒子分散液中の酸化チタン微粒子にペルオキソ基の存在が確認され、ペルオキソチタン成分の濃度を求めたところ0.09%であった。
また、実施例1と同様に、酸化チタン微粒子分散液(ζ)から、評価用コーティング液を作製し、該評価用コーティング液を用いて、光触媒薄膜の透明性(基材のガラス板と光触媒コートガラス板のHAZE値の差)、光触媒薄膜のアセトアルデヒドガス分解性能(ガス分解率)を測定したところ、それぞれHAZE値の差は1.0%(良好:○)、ガス分解率は3%であった。
オキシ三塩化バナジウム(V)を添加しなかったこと以外は実施例2と同様にして、酸化チタン微粒子分散液(η)を得た。得られた分散液中の酸化チタン微粒子の平均粒子径は12nmであった。また、6ヶ月間室内冷暗所に放置した酸化チタン微粒子分散液の平均粒子径は14nmであった(良好:○)。
尚、途中、水熱処理後であって硫酸銅水溶液(i)添加前の酸化チタン微粒子分散液中の酸化チタン微粒子にペルオキソ基の存在が確認され、ペルオキソチタン成分の濃度を求めたところ0.29%であった。
また、実施例1と同様に、酸化チタン微粒子分散液(η)から、評価用コーティング液を作製し、該評価用コーティング液を用いて、光触媒薄膜の透明性(基材のガラス板と光触媒コートガラス板のHAZE値の差)、光触媒薄膜のアセトアルデヒドガス分解性能(ガス分解率)を測定したところ、それぞれHAZE値の差は0.5%(良好:○)、ガス分解率は0%であった。
オキシ三塩化バナジウム(V)をTi/V(モル比)が10となるように添加した以外は実施例2と同様にして、酸化チタン微粒子分散液(θ)を得た。得られた分散液中の酸化チタン微粒子の平均粒子径は3nmであった。また、6ヶ月間室内冷暗所に放置した酸化チタン微粒子分散液の平均粒子径は3nmであった(良好:○)。
尚、途中、水熱処理後であって硫酸銅水溶液(i)添加前の酸化チタン微粒子分散液中の酸化チタン微粒子にペルオキソ基の存在が確認され、ペルオキソチタン成分の濃度を求めたところ0.30%であった。
また、実施例1と同様に、酸化チタン微粒子分散液(θ)から、評価用コーティング液を作製し、該評価用コーティング液を用いて、光触媒薄膜の透明性(基材のガラス板と光触媒コートガラス板のHAZE値の差)、光触媒薄膜のアセトアルデヒドガス分解性能(ガス分解率)を測定したところ、それぞれHAZE値の差は0.2%(良好:○)、ガス分解率は0%であった。
オキシ三塩化バナジウム(V)をTi/V(モル比)が50,000となるように添加した以外は実施例2と同様にして、酸化チタン微粒子分散液(ι)を得た。得られた分散液中の酸化チタン微粒子の平均粒子径は12nmであった。また、6ヶ月間室内冷暗所に放置した酸化チタン微粒子分散液の平均粒子径は14nmであった(良好:○)。
尚、途中、水熱処理後であって硫酸銅水溶液(i)添加前の酸化チタン微粒子分散液中の酸化チタン微粒子にペルオキソ基の存在が確認され、ペルオキソチタン成分の濃度を求めたところ0.31%であった。
また、実施例1と同様に、酸化チタン微粒子分散液(ι)から、評価用コーティング液を作製し、該評価用コーティング液を用いて、光触媒薄膜の透明性(基材のガラス板と光触媒コートガラス板のHAZE値の差)、光触媒薄膜のアセトアルデヒドガス分解性能(ガス分解率)を測定したところ、それぞれHAZE値の差は0.5%(良好:○)、ガス分解率は1%であった。
塩化スズ(IV)をTi/Sn(モル比)が1となるように添加した以外は実施例1と同様にして、酸化チタン微粒子分散液(κ)を得た。得られた分散液中の酸化チタン微粒子の平均粒子径は4nmであった。また、6ヶ月間室内冷暗所に放置した酸化チタン微粒子分散液の平均粒子径は4nmであった(良好:○)。
尚、途中、水熱処理後であって硫酸銅水溶液(i)添加前の酸化チタン微粒子分散液中の酸化チタン微粒子にペルオキソ基の存在が確認され、ペルオキソチタン成分の濃度を求めたところ1.05%であった。
また、実施例1と同様に、酸化チタン微粒子分散液(κ)から、評価用コーティング液を作製し、該評価用コーティング液を用いて、光触媒薄膜の透明性(基材のガラス板と光触媒コートガラス板のHAZE値の差)、光触媒薄膜のアセトアルデヒドガス分解性能(ガス分解率)を測定したところ、それぞれHAZE値の差は0.3%(良好:○)、ガス分解率は6%であった。
塩化スズ(IV)をTi/Sn(モル比)が5,000となるように添加した以外は実施例1と同様にして、酸化チタン微粒子分散液(λ)を得た。得られた分散液中の酸化チタン微粒子の平均粒子径は25nmであった。また、6ヶ月間室内冷暗所に放置した酸化チタン微粒子分散液の平均粒子径は29nmであった(良好:○)。
尚、途中、水熱処理後であって硫酸銅水溶液(i)添加前の酸化チタン微粒子分散液中の酸化チタン微粒子にペルオキソ基の存在が確認され、ペルオキソチタン成分の濃度を求めたところ0.05%であった。
また、実施例1と同様に、酸化チタン微粒子分散液(λ)から、評価用コーティング液を作製し、該評価用コーティング液を用いて、光触媒薄膜の透明性(基材のガラス板と光触媒コートガラス板のHAZE値の差)、光触媒薄膜のアセトアルデヒドガス分解性能(ガス分解率)を測定したところ、それぞれHAZE値の差は0.7%(良好:○)、ガス分解率は4%であった。
硫酸銅水溶液(i)を加えなかったこと以外は実施例1と同様にして、酸化チタン微粒子分散液(μ)を得た。得られた分散液中の酸化チタン微粒子の平均粒子径は11nmであった。また、6ヶ月間室内冷暗所に放置した酸化チタン微粒子分散液の平均粒子径は12nmであった(良好:○)。
また、実施例1と同様に、酸化チタン微粒子分散液(μ)から、評価用コーティング液を作製し、該評価用コーティング液を用いて、光触媒薄膜の透明性(基材のガラス板と光触媒コートガラス板のHAZE値の差)、光触媒薄膜のアセトアルデヒドガス分解性能(ガス分解率)を測定したところ、それぞれHAZE値の差は0.5%(良好:○)、ガス分解率は2%であった。
酸化チタン微粒子分散液(A)に硫酸銅水溶液(i)を酸化チタンに対して金属銅成分が0.001質量%となるように添加したこと以外は実施例1と同様にして、酸化チタン微粒子分散液(ν)を得た。得られた分散液中の酸化チタン微粒子の平均粒子径は11nmであった。また、6ヶ月間室内冷暗所に放置した酸化チタン微粒子分散液の平均粒子径は13nmであった(良好:○)。
また、実施例1と同様に、酸化チタン微粒子分散液(ν)から、評価用コーティング液を作製し、該評価用コーティング液を用いて、光触媒薄膜の透明性(基材のガラス板と光触媒コートガラス板のHAZE値の差)、光触媒薄膜のアセトアルデヒドガス分解性能(ガス分解率)を測定したところ、それぞれHAZE値の差は0.3%(良好:○)、ガス分解率は8%であった。
酸化チタン微粒子分散液(A)に硫酸銅水溶液(i)を酸化チタンに対して金属銅成分が5.0質量%となるように添加したこと以外は実施例1と同様にして、酸化チタン微粒子分散液(ξ)を得た。得られた分散液中の酸化チタン微粒子の平均粒子径は15nmであった。また、6ヶ月間室内冷暗所に放置した酸化チタン微粒子分散液の平均粒子径は7nmであった(良好:○)。
また、実施例1と同様に、酸化チタン微粒子分散液(ξ)から、評価用コーティング液を作製し、該評価用コーティング液を用いて、光触媒薄膜の透明性(基材のガラス板と光触媒コートガラス板のHAZE値の差)、光触媒薄膜のアセトアルデヒドガス分解性能(ガス分解率)を測定したところ、それぞれHAZE値の差は7.2%(不良:×)、ガス分解率は0%であった。
水熱処理時間を720分間としたこと以外は実施例1と同様にして、酸化チタン微粒子分散液(ο)を得た。得られた分散液中の酸化チタン微粒子の平均粒子径は85nmであり、3日間室内冷暗所に放置したところ、酸化チタン微粒子は容器の底に沈澱していた(不良:×)。
尚、途中、水熱処理後であって硫酸銅水溶液(i)添加前の酸化チタン微粒子分散液中の酸化チタン微粒子にペルオキソ基の存在が確認されず、ペルオキソチタン成分の濃度を求めたところ0.01%であった。
また、実施例1と同様に、酸化チタン微粒子分散液(ο)から、評価用コーティング液を作製し、該評価用コーティング液を用いて、光触媒薄膜の透明性(基材のガラス板と光触媒コートガラス板のHAZE値の差)、光触媒薄膜のアセトアルデヒドガス分解性能(ガス分解率)を測定したところ、それぞれHAZE値の差は5.1%(不良:×)、ガス分解率は22%であった。
水熱処理時間を60分間としたこと以外は実施例1と同様にして、酸化チタン微粒子分散液(π)を得た。得られた分散液中の酸化チタン微粒子の平均粒子径は10nmであった。また、6ヶ月間室内冷暗所に放置した酸化チタン微粒子分散液の平均粒子径は11nmであった(良好:○)。
尚、途中、水熱処理後であって硫酸銅水溶液(i)添加前の酸化チタン微粒子分散液中の酸化チタン微粒子にペルオキソ基の存在が確認され、ペルオキソチタン成分の濃度を求めたところ3.50%であった。
また、実施例1と同様に、酸化チタン微粒子分散液(π)から、評価用コーティング液を作製し、該評価用コーティング液を用いて、光触媒薄膜の透明性(基材のガラス板と光触媒コートガラス板のHAZE値の差)、光触媒薄膜のアセトアルデヒドガス分解性能(ガス分解率)を測定したところ、それぞれHAZE値の差は0.4%(良好:○)、ガス分解率は0%であった。
Claims (13)
- 水性分散媒中に、ペルオキソチタン成分、バナジウム成分及びスズ成分を含有した酸化チタン微粒子が分散されていると共に、銅成分が含有されていることを特徴とする可視光応答型酸化チタン微粒子分散液。
- 前記バナジウム成分の含有量が、酸化チタンとのモル比(Ti/V)で100〜10,000であることを特徴とする請求項1に記載の可視光応答型酸化チタン微粒子分散液。
- 前記ペルオキソチタン成分の含有量が、酸化チタンに対して0.05〜2質量%であることを特徴とする請求項1又は2に記載の可視光応答型酸化チタン微粒子分散液。
- 前記スズ成分の含有量が、酸化チタンとのモル比(Ti/Sn)で10〜1,000であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の可視光応答型酸化チタン微粒子分散液。
- 前記銅成分の金属銅換算での含有量が、酸化チタンに対して0.01〜1質量%であることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の可視光応答型酸化チタン微粒子分散液。
- 前記可視光応答型酸化チタン微粒子の分散径が、レーザー光を用いた動的散乱法により測定される体積基準の50%累積分布径(D50)で5〜30nmであることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載の可視光応答型酸化チタン微粒子分散液。
- 更にバインダーを添加したことを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載の可視光応答型酸化チタン微粒子分散液。
- バインダーがケイ素化合物系バインダーであることを特徴とする請求項7に記載の可視光応答型酸化チタン微粒子分散液。
- 請求項1〜8のいずれか1項に記載の酸化チタン微粒子分散液を用いて形成される光触媒薄膜を表面に有する部材。
- (1)原料チタン化合物、バナジウム化合物、スズ化合物、塩基性物質、過酸化水素及び水性分散媒から、バナジウム化合物とスズ化合物を含有したペルオキソチタン酸溶液を製造する工程、
(2)前記バナジウム化合物とスズ化合物を含有したペルオキソチタン酸溶液を高圧下、80〜250℃で加熱し、ペルオキソチタン成分、バナジウム成分及びスズ成分を含有した酸化チタン微粒子分散液を得る工程、及び
(3)前記酸化チタン微粒子分散液に銅化合物を混合する工程
を有することを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載の可視光応答型酸化チタン微粒子分散液の製造方法。 - 前記工程(3)の後に、バインダーを添加することを特徴とする請求項10に記載の可視光応答型酸化チタン微粒子分散液の製造方法。
- バインダーがケイ素化合物系バインダーであることを特徴とする請求項11に記載の可視光応答型酸化チタン微粒子分散液の製造方法。
- 請求項10〜12のいずれか1項に記載の酸化チタン微粒子分散液の製造方法によって得られる酸化チタン微粒子分散液を用いて形成される光触媒薄膜を表面に有する部材。
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Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015010172A (ja) * | 2013-06-28 | 2015-01-19 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | 可視光応答性組成物とこれを用いた光電極、光触媒、光センサー |
WO2015056556A1 (ja) * | 2013-10-16 | 2015-04-23 | 信越化学工業株式会社 | 酸化チタン・酸化タングステン複合光触媒微粒子分散液、その製造方法、及び光触媒薄膜を表面に有する部材 |
JP2016041429A (ja) * | 2012-09-19 | 2016-03-31 | 信越化学工業株式会社 | 可視光応答型光触媒微粒子分散液の製造方法 |
WO2016152487A1 (ja) * | 2015-03-23 | 2016-09-29 | 信越化学工業株式会社 | 可視光応答型光触媒酸化チタン微粒子分散液、その製造方法、及び光触媒薄膜を表面に有する部材 |
WO2018012240A1 (ja) * | 2016-07-14 | 2018-01-18 | 信越化学工業株式会社 | 可視光応答型光触媒活性を有する表面層を有する内装材及びその製造方法 |
JP2019063143A (ja) * | 2017-09-29 | 2019-04-25 | 信越化学工業株式会社 | 消臭・抗菌・抗カビ剤、その製造方法、及び消臭・抗菌・抗カビ剤を表面に有する部材 |
JP2019063712A (ja) * | 2017-09-29 | 2019-04-25 | 信越化学工業株式会社 | 抗菌・抗カビ性を有する光触媒・合金微粒子分散液、その製造方法、及び光触媒・合金薄膜を表面に有する部材 |
CN110314676A (zh) * | 2019-07-24 | 2019-10-11 | 大连交通大学 | 高水量直接溶液氧化法制备Sn掺杂TiO2纳米粉体及其应用 |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2018047694A1 (ja) * | 2016-09-12 | 2018-03-15 | 信越化学工業株式会社 | 可視光応答型光触媒酸化チタン微粒子混合物、その分散液、分散液の製造方法、光触媒薄膜、及び光触媒薄膜を表面に有する部材 |
CN106830076B (zh) * | 2016-12-23 | 2018-10-30 | 句容亿格纳米材料厂 | 一种玻璃用纳米热反射复合功能材料的制备方法 |
JP7328165B2 (ja) * | 2020-03-11 | 2023-08-16 | シャープ株式会社 | 光触媒分散液、光触媒被覆部材、光触媒フィルタ及び光触媒層の形成方法 |
US11253842B1 (en) * | 2021-04-02 | 2022-02-22 | TiCoat, Inc. | Titanium dioxide containing peroxo titanium complex and methods of manufacturing and application of the same |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2010125690A1 (ja) * | 2009-05-01 | 2010-11-04 | サスティナブル・テクノロジー株式会社 | 光透過性基体の透過可視光量増加剤及びそれを用いた高光透過性基体の製造方法 |
WO2010137337A1 (ja) * | 2009-05-29 | 2010-12-02 | サスティナブル・テクノロジー株式会社 | 気体の除去又は無害化方法 |
JP2011136879A (ja) * | 2009-12-28 | 2011-07-14 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | 可視光応答型酸化チタン系微粒子分散液およびその製造方法 |
JP2011136297A (ja) * | 2009-12-28 | 2011-07-14 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | 可視光応答型酸化チタン系微粒子分散液およびその製造方法 |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0733255B2 (ja) | 1986-09-22 | 1995-04-12 | 石原産業株式会社 | チタニアゾル及びその製造方法 |
JP2820251B2 (ja) | 1986-10-29 | 1998-11-05 | 触媒化成工業株式会社 | 酸化チタンゾル |
JP2783417B2 (ja) | 1989-03-30 | 1998-08-06 | 触媒化成工業株式会社 | ルチル型酸化チタンゾルの製造法 |
JPH06279725A (ja) | 1993-03-24 | 1994-10-04 | Mitsubishi Paper Mills Ltd | 酸化チタン分散液の製造方法 |
JP2852487B2 (ja) | 1994-03-15 | 1999-02-03 | 石原産業株式会社 | 二酸化チタン水性分散体 |
JP2875993B2 (ja) | 1996-05-07 | 1999-03-31 | 佐賀県 | アナターゼ分散液およびその製造方法 |
JP4483172B2 (ja) | 2002-12-05 | 2010-06-16 | 住友化学株式会社 | 酸化チタン分散液 |
JP4540971B2 (ja) | 2003-12-05 | 2010-09-08 | 石原産業株式会社 | 中性酸化チタンゾルおよびその製造方法 |
JP5161555B2 (ja) | 2007-12-20 | 2013-03-13 | 住友化学株式会社 | 酸化タングステン光触媒体の製造方法 |
JP4977051B2 (ja) | 2008-01-30 | 2012-07-18 | テイカ株式会社 | 中性領域で安定な酸化チタン分散液 |
-
2012
- 2012-08-30 JP JP2012189409A patent/JP5655827B2/ja active Active
- 2012-10-10 CN CN201280055787.0A patent/CN103930209B/zh active Active
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- 2012-10-10 KR KR1020147014557A patent/KR101822528B1/ko active IP Right Grant
- 2012-10-10 US US14/357,320 patent/US9555399B2/en active Active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2010125690A1 (ja) * | 2009-05-01 | 2010-11-04 | サスティナブル・テクノロジー株式会社 | 光透過性基体の透過可視光量増加剤及びそれを用いた高光透過性基体の製造方法 |
WO2010137337A1 (ja) * | 2009-05-29 | 2010-12-02 | サスティナブル・テクノロジー株式会社 | 気体の除去又は無害化方法 |
JP2011136879A (ja) * | 2009-12-28 | 2011-07-14 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | 可視光応答型酸化チタン系微粒子分散液およびその製造方法 |
JP2011136297A (ja) * | 2009-12-28 | 2011-07-14 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | 可視光応答型酸化チタン系微粒子分散液およびその製造方法 |
Cited By (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016041429A (ja) * | 2012-09-19 | 2016-03-31 | 信越化学工業株式会社 | 可視光応答型光触媒微粒子分散液の製造方法 |
US9604198B2 (en) | 2012-09-19 | 2017-03-28 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Visible light-responsive photocatalytic nanoparticle dispersion liquid, method for producing same, and member having photocatalytic thin film on surface |
JP2015010172A (ja) * | 2013-06-28 | 2015-01-19 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | 可視光応答性組成物とこれを用いた光電極、光触媒、光センサー |
US9833776B2 (en) | 2013-10-16 | 2017-12-05 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Dispersion liquid of titanium oxide-tungsten oxide composite photocatalytic fine particles, production method for same, and member having photocatalytic thin film on surface thereof |
WO2015056556A1 (ja) * | 2013-10-16 | 2015-04-23 | 信越化学工業株式会社 | 酸化チタン・酸化タングステン複合光触媒微粒子分散液、その製造方法、及び光触媒薄膜を表面に有する部材 |
CN105636689A (zh) * | 2013-10-16 | 2016-06-01 | 信越化学工业株式会社 | 氧化钛-氧化钨复合光催化微粒分散液、其制造方法、及在表面具有光催化薄膜的构件 |
KR20160071420A (ko) * | 2013-10-16 | 2016-06-21 | 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 | 산화티탄·산화텅스텐 복합 광촉매 미립자 분산액, 그 제조 방법 및 광촉매 박막을 표면에 가지는 부재 |
KR102170489B1 (ko) * | 2013-10-16 | 2020-10-28 | 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 | 산화티탄·산화텅스텐 복합 광촉매 미립자 분산액, 그 제조 방법 및 광촉매 박막을 표면에 가지는 부재 |
JPWO2015056556A1 (ja) * | 2013-10-16 | 2017-03-09 | 信越化学工業株式会社 | 酸化チタン・酸化タングステン複合光触媒微粒子分散液、その製造方法、及び光触媒薄膜を表面に有する部材 |
JPWO2016152487A1 (ja) * | 2015-03-23 | 2017-08-03 | 信越化学工業株式会社 | 可視光応答型光触媒酸化チタン微粒子分散液、その製造方法、及び光触媒薄膜を表面に有する部材 |
WO2016152487A1 (ja) * | 2015-03-23 | 2016-09-29 | 信越化学工業株式会社 | 可視光応答型光触媒酸化チタン微粒子分散液、その製造方法、及び光触媒薄膜を表面に有する部材 |
US11446640B2 (en) | 2015-03-23 | 2022-09-20 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Visible-light-responsive photocatalytic-titanium- oxide-particulate dispersion liquid, manufacturing method therefor, and member having thin photocatalytic film on surface thereof |
WO2018012240A1 (ja) * | 2016-07-14 | 2018-01-18 | 信越化学工業株式会社 | 可視光応答型光触媒活性を有する表面層を有する内装材及びその製造方法 |
JPWO2018012240A1 (ja) * | 2016-07-14 | 2018-12-27 | 信越化学工業株式会社 | 可視光応答型光触媒活性を有する表面層を有する内装材及びその製造方法 |
US11590479B2 (en) | 2016-07-14 | 2023-02-28 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Interior material having surface layer having visible light-responsive photocatalytic activity, and method for manufacturing same |
JP2019063143A (ja) * | 2017-09-29 | 2019-04-25 | 信越化学工業株式会社 | 消臭・抗菌・抗カビ剤、その製造方法、及び消臭・抗菌・抗カビ剤を表面に有する部材 |
JP2019063712A (ja) * | 2017-09-29 | 2019-04-25 | 信越化学工業株式会社 | 抗菌・抗カビ性を有する光触媒・合金微粒子分散液、その製造方法、及び光触媒・合金薄膜を表面に有する部材 |
US11590251B2 (en) | 2017-09-29 | 2023-02-28 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Deodorizing/antibacterial/antifungal agent, method of preparation thereof, and member having deodorizing/antibacterial/antifungal agent on surface |
CN110314676A (zh) * | 2019-07-24 | 2019-10-11 | 大连交通大学 | 高水量直接溶液氧化法制备Sn掺杂TiO2纳米粉体及其应用 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
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