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  1. 第1の電極層と、
    前記第1の電極層上の有機化合物を含む層と、
    前記有機化合物を含む層上の第2の電極層と、を有し、
    前記第2の電極層は、銀と、1atoms%以上10atoms%以下のスズを含み、
    前記第1の電極層、前記有機化合物を含む層、及び前記第2の電極層は、第1の可撓性基板上に位置することを特徴とする半導体装置。
  2. 第1の電極層と、
    前記第1の電極層上の有機化合物を含む層と、
    前記有機化合物を含む層上の第2の電極層と、を有し、
    前記第2の電極層は、銀と、1atoms%以上10atoms%以下のスズを含み、
    前記合金層はスズと銀の合金層であり、
    前記第1の電極層、前記有機化合物を含む層、及び前記第2の電極層は、第1の可撓性基板と第2の可撓性基板とに挟まれて位置することを特徴とする半導体装置。
  3. 請求項1または請求項2において、
    前記第1の電極層は、1atoms%以上10atoms%以下のスズを含むことを特徴とする半導体装置。
  4. 請求項1乃至請求項3のいずれか一において、
    前記第2の電極層は、銀とスズとの合金層を含むことを特徴とする半導体装置。
  5. 請求項1乃至請求項4のいずれか一において、
    前記第1の電極層はトランジスタと電気的に接続されることを特徴とする半導体装置。
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