JP2013084325A - 不揮発性半導体記憶装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】不揮発性半導体記憶装置は、第1配線WL0〜WL2と、第2配線BL0〜BL2と、第1配線と第2配線との間に接続され可変抵抗素子を備えたメモリセルMC00〜MC22を配列してなるメモリセルアレイと、選択メモリセルに接続された選択第1配線WL1に第1電圧を印加するとともに、選択メモリセルに接続された選択第2配線BL1,BL2に第1電圧より電圧値の低い第2電圧を印加する電圧印加動作を行うように構成された制御回路とを備える。制御回路は、第2電圧の電圧値を複数の異なる電圧値から選択して、第2電圧を出力可能に構成されている。
【選択図】図8
Description
[全体構成]
図1は、本発明の第1の実施の形態に係る不揮発性メモリのブロック図である。この不揮発性メモリは、可変抵抗素子を使用したメモリセルをマトリクス状に配置したメモリセルアレイ1を備える。メモリセルアレイ1のビット線BL方向に隣接する位置には、メモリセルアレイ1のビット線BLを制御し、メモリセルのデータ消去、メモリセルへのデータ書き込み、及びメモリセルからのデータ読み出しを行うカラム制御回路2が設けられている。
図2は、メモリセルアレイ1の一部の斜視図、図3は、図2におけるI−I’線で切断して矢印方向に見たメモリセル1つ分の断面図である。複数本の第1の配線としてワード線WL0〜WL2が平行に配設され、これと交差して複数本の第2の配線としてビット線BL0〜BL2が平行に配設され、これらの各交差部に両配線に挟まれるようにメモリセルMCが配置される。第1及び第2の配線は、熱に強く、且つ抵抗値の低い材料が望ましく、例えばW、WSi、NiSi、CoSi等を用いることができる。なお、図2〜図4では、3本のワード線WL及び3本のビット線BLのみが図示されているが、3本より大きい数のワード線WL及びビット線BLが1つのメモリセルアレイ中に含まれてもよいことは言うまでもない。
メモリセルMCは、例えば図3に示すように、可変抵抗素子VRとダイオードDIの直列接続回路で構成される。電極EL1〜EL3の電極の材料としては、Pt、Au、Ag、TiAlN、SrRuO、Ru、RuN、Ir、Co、Ti、TiN、TaN、LaNiO、Al、PtIrOx、PtRhOx、Rh、TaAlN、W等が用いられる。また、配向性を一様にするようなメタル膜の挿入も可能である。また、別途バッファ層、バリアメタル層、接着層等を挿入することも可能である。
メモリセルMCにおいて、可変抵抗素子VRと直列にダイオードDIを接続することにより、メモリセルMCに整流機能を持たせることができる。ダイオードDIとしては、例えばp型層及びn型層を備えるPN接合ダイオードが用いられる。また、ダイオードDIとして、PN接合ダイオードのほかに、ショットキーダイオード、PINダイオード等の各種ダイオード等を用いることもできる。なお、可変抵抗素子VRが整流機能を内蔵していればダイオードDIはなくても構わない。
可変抵抗素子VRとしては、電圧印加によって電流、熱、化学エネルギー等を介して抵抗値を変化させることができるものが用いられる。可変抵抗素子VRとしては、カルコゲナイド化合物の結晶/アモルファス化の状態変化によって抵抗値を変化させる相変化メモリ素子、トンネル磁気抵抗効果による抵抗変化を用いるMRAM素子、固体電解質の性質を有するCBRAM素子、導電性ポリマーで抵抗素子が形成されるポリマー強誘電RAM(PFRAM)のメモリ素子、電圧印加によって抵抗変化を起こすReRAM素子等が挙げられる。
また、図5に示すように、上述したメモリ構造を複数積層した三次元構造とすることもできる。図6は、図5のII−II’断面を示す断面図である。図示の例は、セルアレイ層MA0〜MA3からなる4層構造のメモリセルアレイで、ワード線WL0jがその上下のメモリセルMC0、MC1で共有され、ビット線BL1iがその上下のメモリセルMC1、MC2で共有され、ワード線WL1jがその上下のメモリセルMC2、MC3で共有されている。
図7は、メモリセルアレイ1及びその周辺回路の回路図である。ここでは、説明を簡単にするため、積層構造のうちの1層を例として説明を進める。また、図7では、メモリセルMCを可変抵抗素子VRとダイオードDIとを直列接続したものとして表示している。しかし、上述のように、可変抵抗素子VRが整流機能を内蔵していれば、ダイオードDIは省略可能である。図7において、メモリセルMCを構成するダイオードDIのアノードはワード線WLに接続され、カソードは可変抵抗素子VRを介してビット線BLに接続されている。各ワード線WLの一端はロウ制御回路3の一部である選択回路3aに接続されている。また、各ビット線BLの一端はカラム制御回路2の一部である選択回路2aに接続されている。
次に、本実施の形態の不揮発性半導体記憶装置のセット動作について説明する。図8は、本実施の形態の不揮発性半導体記憶装置のセット動作時におけるワード線WL及びビット線BLに印加される電圧を示す図である。図9は、本実施の形態の不揮発性半導体記憶装置のセット動作時におけるメモリセルMCの電流−電圧特性を示す図である。
図9に示すように、選択メモリセルMCの抵抗値判定動作の際のセル電流Icellの値が、判定値Ith_set_lを超え、且つ判定値Ith_set以下の場合、選択メモリセルMCはセット状態に遷移する直前である。このときビット線電圧を0Vとしてセット電圧Vsetを印加すると、ビット線電圧0Vの場合の電流−電圧特性に従って抵抗値が変化し、セット動作後の選択メモリセルのセル電流Icellの値は判定値Ith_setを大きく超える(図9の符号X)。セット動作完了時に、メモリセルMCに流れるセル電流Icellの値が判定値Ith_set近傍にあるメモリセルMCと、判定値Ith_setを大きく超えるメモリセルMCとでは、可変抵抗素子VRの抵抗値が大きくばらついてしまい、その後の、データ読み出し時に不具合が生じるおそれがある。
次に、第2の実施の形態の不揮発性半導体記憶装置を、図10及び図11を参照して説明する。本実施の形態の不揮発性半導体記憶装置の全体構成は、第1の実施の形態と同様であり、その詳細な説明は省略する。また、第1の実施の形態と同様の構成を有する箇所には、同一の符号を付して重複する説明を省略する。
本実施の形態に係る不揮発性半導体記憶装置は、選択メモリセルMCの抵抗値判定動作の際のセル電流Icellの値が、判定値Ith_set_l1を超えた場合、又は、判定値Ith_set_l2を超えた場合、ビット線BLに印加する電圧の値を変更している。その結果、選択メモリセルMCの抵抗値の減少にあわせて、選択メモリセルMCに印加される電圧を減少させることができる。その結果、セット動作完了時に、メモリセルMCに流れるセル電流Icellが判定値Ith_setを大きく超えることがない。本実施の形態に係る不揮発性半導体記憶装置によれば、セット動作後の可変抵抗素子VRの抵抗値のばらつきを抑制することができる。
次に、第3の実施の形態の不揮発性半導体記憶装置を、図12及び図13を参照して説明する。本実施の形態の不揮発性半導体記憶装置の全体構成は、第1の実施の形態と同様であり、その詳細な説明は省略する。また、第1の実施の形態と同様の構成を有する箇所には、同一の符号を付して重複する説明を省略する。
本実施の形態の不揮発性半導体記憶装置のリセット動作について説明する。図12は、本実施の形態の不揮発性半導体記憶装置のリセット動作時におけるワード線WL及びビット線BLに印加される電圧を示す図である。図13は、本実施の形態の不揮発性半導体記憶装置のリセット動作時におけるメモリセルMCの電流−電圧特性を示す図である。
本実施の形態に係る不揮発性半導体記憶装置は、選択メモリセルMCの抵抗値判定動作の際のセル電流Icellの値が、判定値Ith_reset_h未満であり、且つ判定値Ith_reset以上の場合、ビット線BLに印加する電圧の値を変更している。その結果、次のリセット電圧Vresetの印加動作では、ビット線電圧0.2Vの場合の電流−電圧特性に従って、選択メモリセルMCの抵抗値が変化し、セル電流Icellの値が大きく変化することがない。従って、リセット動作完了時に、メモリセルMCに流れるセル電流Icellが判定値Ith_resetを大きく下回ることがない。本実施の形態に係る不揮発性半導体記憶装置によれば、リセット動作後の可変抵抗素子VRの抵抗値のばらつきを抑制することができる。
Claims (6)
- 第1配線と、第2配線と、前記第1配線と前記第2配線との間に接続され可変抵抗素子を備えたメモリセルを配列してなるメモリセルアレイと、
選択メモリセルに接続された選択第1配線に第1電圧を印加するとともに、前記選択メモリセルに接続された選択第2配線に前記第1電圧より電圧値の低い第2電圧を印加する電圧印加動作を行うように構成された制御回路とを備え、
前記制御回路は、前記第2電圧の電圧値を複数の異なる電圧値から選択して、前記第2電圧を出力可能に構成され、
前記制御回路は、前記選択メモリセルの抵抗値に基づき前記第2電圧の電圧値を選択して、前記第2電圧を出力可能に構成され、
前記制御回路は、前記選択第1配線に第1の読み出し電圧を印加するとともに、前記選択第2配線に前記第1の読み出し電圧より電圧値の低い第2の読み出し電圧を印加し、前記選択メモリセルに流れるセル電流と所定の判定値とを比較して、前記選択メモリセルの抵抗値を読み出す抵抗値判定動作を行うように構成され、
前記制御回路は、前記第1の読み出し電圧及び前記第2の読み出し電圧の一方又は両方を変更して前記抵抗値判定動作を複数回実行するように構成され、
前記制御回路は、前記電圧印加動作毎に所定のステップアップ値だけ前記第1電圧の電圧値を上昇させる
ことを特徴とする不揮発性半導体記憶装置。 - 第1配線と、第2配線と、前記第1配線と前記第2配線との間に接続され可変抵抗素子を備えたメモリセルを配列してなるメモリセルアレイと、
選択メモリセルに接続された選択第1配線に第1電圧を印加するとともに、前記選択メモリセルに接続された選択第2配線に前記第1電圧より電圧値の低い第2電圧を印加する電圧印加動作を行うように構成された制御回路とを備え、
前記制御回路は、前記第2電圧の電圧値を複数の異なる電圧値から選択して、前記第2電圧を出力可能に構成されている
ことを特徴とする不揮発性半導体記憶装置。 - 前記制御回路は、前記選択メモリセルの抵抗値に基づき前記第2電圧の電圧値を選択して、前記第2電圧を出力可能に構成されている
ことを特徴とする請求項2記載の不揮発性半導体記憶装置。 - 前記制御回路は、前記選択第1配線に第1の読み出し電圧を印加するとともに、前記選択第2配線に前記第1の読み出し電圧より電圧値の低い第2の読み出し電圧を印加し、前記選択メモリセルに流れるセル電流と所定の判定値とを比較して、前記選択メモリセルの抵抗値を読み出す抵抗値判定動作を行うように構成され、
前記制御回路は、前記第1の読み出し電圧及び前記第2の読み出し電圧の一方又は両方を変更して前記抵抗値判定動作を複数回実行するように構成されている
ことを特徴とする請求項2又は3記載の不揮発性半導体記憶装置。 - 前記制御回路は、前記選択第1配線に第1の読み出し電圧を印加するとともに、前記選択第2配線に前記第1の読み出し電圧より電圧値の低い第2の読み出し電圧を印加し、前記選択メモリセルに流れるセル電流と所定の判定値とを比較して、前記選択メモリセルの抵抗値を読み出す抵抗値判定動作を行うように構成され、
前記制御回路は、前記判定値を変更して前記抵抗値判定動作を複数回実行するように構成されている
ことを特徴とする請求項2又は3記載の不揮発性半導体記憶装置。 - 前記制御回路は、前記電圧印加動作毎に所定のステップアップ値だけ前記第1電圧の電圧値を上昇させる
ことを特徴とする請求項2乃至5のいずれか記載の不揮発性半導体記憶装置。
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