JP2012521417A

JP2012521417A - アデフォビルジピボキシルの新規結晶形及びその製造方法

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Publication number: JP2012521417A
Application number: JP2012501942A
Authority: JP
Inventors: チョイ，スジン; リー，ビョング; オ，スンス; キム，ヨンテ; キム，クァンジュ; キム，フェジン
Original assignee: ダエウンファーマシューティカルカンパニーリミテッド; ダエウォンバイオインク．
Priority date: 2009-03-26
Filing date: 2010-03-26
Publication date: 2012-09-13
Anticipated expiration: 2030-03-26
Also published as: CN102365283B; KR20100108297A; CN102365283A; EP2411392A4; EP2411392A2; WO2010110622A9; RU2011143166A; EP2411392B1; WO2010110622A3; WO2010110622A2; TR201109333T1; JP5642766B2; US9169257B2; US20120101273A1; RU2485121C1

Abstract

本発明は、９−［２−［ホスホノメトキシ］エチル］アデニンのビス−ピバロイルオキシメチルエステル、即ち、アデフォビルジピボキシルの新規結晶形Ａ、結晶形Ｂ、結晶形Ｃ、結晶形Ｄ、結晶形Ｅ、結晶形Ｆ及び結晶形Ｇとこれらの製造方法に関するものである。本発明によると、高純度の当該新規結晶形は簡単な方法により高収率で得ることができる。
【選択図】図２

Description

本発明は、ヌクレオチド類似体である９−［２−［ホスホノメトキシ］エチル］アデニンのビス−ピバロイルオキシメチルエステル（「アデフォビルジピボキシル」）の新規結晶形及びその製造方法に関するものである。

アデフォビルジピボキシルは、抗ウイルス性のヌクレオチド類似体であり、ＨＩＶ感染及びＢ型肝炎（ＨＢＶ）の治療剤として優れた効果を示す。前記化合物の抗ウイルス活性については、例えば、特許文献１、２、３及び非特許文献１、２を参照することができる。
アデフォビルジピボキシルの化学構造は下記式（１）で示される。

アデフォビルジピボキシルは、特許文献３に初めて開示され、非晶形又は結晶形で存在できる。アデフォビルジピボキシルの非晶形は、メタノール（約４％）及び塩化メチレン(約９６％）の混合物を使用してシリカゲルカラムから溶出し、約３５℃で減圧下に回転蒸発して析出することによって得ることができる（非特許文献３参照）。しかし、非晶形の精製及び製造は、大量生産に適さず、熱、光、酸素及び湿気から保護しなければならない短所がある。従って、代案として、アデフォビルジピボキシルの結晶形を製造し、使用してきた。例えば、特許文献４は、直接製造するか又は商業的に購入したアデフォビルジピボキシルを有機溶媒に溶解して、高温流下で薬物溶液の微細液滴として噴霧し、得られた液滴を瞬時に乾燥して結晶を得る、スプレー乾燥方法を開示している。しかし、この方法は大量生産に適さないスプレー乾燥装置を使用するという短所がある。一方、特許文献５は、０．２％又はそれ以下の水及び５０％又はそれ以上の１−メチルピロリジノンを含有するアデフォビルジピボキシル溶液をアセトンで希釈し、ｎ−ブチルエーテルを添加して結晶を生成し、冷却して結晶形１を得て、前記結晶形１を相対湿度７５％又はそれ以上の空気と接触するか、２〜５％の水を含有している溶媒から結晶化して、結晶形２（２水和物）を製造する方法を開示している。しかし、この方法は、ｎ−ブチルエーテルのように爆発性のある危険な有機溶媒を結晶化溶媒として使用している。

一般に、結晶多形は、分子式は同じであるが、融点、溶解度、密度などにおいて互いに異なる物理的特性を有していて、別個の固体と考えられている。多形体の物理的特性における差は、バルク固体中の隣接分子（複合体）の配置及び分子間相互作用による。従って、同じ分子式を有する多形体は、１つの多形体が他の多形体に比べて有利な物理的特性を有するか否かが明確でないという点で、固有の固体である。薬理作用のある多形体の最も重要な物理的特性の一つは、水溶性、特に患者の胃液での溶解性である。例えば、腸管を介した吸収が遅い場合、患者の胃又は腸内の環境下に不安定な薬物は、徐々に溶解され、この有害な環境下に蓄積されないことが好ましい。このような結晶化合物は流動性及び弾性変形性、薬学的製剤内での溶解速度、安定性及び有効性なども相違しうる。従って、より安定で、取扱いが容易で、さらに溶出率の高い結晶形態が当業界で求められている。即ち、薬物の新規結晶形の発見は製剤分野の当業者が所望の放出特性又はその他の特性を有する薬物の薬学製剤をデザインできるようにするだろう。

米国特許第４，７２４，２３３号米国特許第４，８０８，７１６号ヨーロッパ特許第０４８１２１４号国際公開ＷＯ０４／０４３９７２号公報米国特許第６，４５１，３４０号米国特許第５，６６３，１５９号国際公開ＷＯ９９／０４７７４号公報国際公開ＷＯ００／３５４６０号公報

Benzaria et al., "Nucleosides and Nucleotide" 14(3-5):563-565, 1995 Starrett et al., J. Med. Chem. 37:1857-1864, 1994 J. Med. Chem., 19:1857-1864, 1994

従って、本発明者らは、薬剤学的組成物の製造において選択しうる範囲を広めるためにアデフォビルジピボキシルの多様な新規結晶形を提供すること、そしてこれらの新規結晶形の製造において従来技術の問題を解消することに努めた。

従って、本発明は、アデフォビルジピボキシルの新規結晶形を提供することを目的の１つとする。

本発明は、また、アデフォビルジピボキシルの新規結晶形の製造方法を提供することを別の目的とする。

本発明者らは、前記目的を達成するために鋭意研究を行った結果、アデフォビルジピボキシルの新規結晶形Ａ、結晶形Ｂ、結晶形Ｃ、結晶形Ｄ、結晶形Ｅ、結晶形Ｆ及び結晶形Ｇを開発することに成功した。

本発明によって提供される新規結晶形をより具体的に定義すれば、以下の通りである。

結晶形ＡのＸ線回折（ＸＲＤ）パターンは、２θ＝１２．９、２５．９及び２８．１に特性ピークを示す。具体的に結晶形Ａは、２θ＝４．４、８．７、１２．９、１７．２、１９．８、２１．６、２５．９、２８．１及び３０．３８±０．３゜の粉末ＸＲＤパターンを示す。

結晶形ＢのＸＲＤパターンは、２θ＝７．３、１６．３、１７．２及び２２．２に特性ピークを示す。具体的に結晶形Ｂは、２θ＝６．４、７．３、８．６、９．７、１２．６、１３．５、１６．３、１７．２、１９．５、２０．８、２２．２及び２６．０±０．３゜の粉末ＸＲＤパターンを示す。

結晶形ＣのＸＲＤパターンは、２θ＝８．１、８．８、９．５、２４．５、２５．３及び３２．９に特性ピークを示す。具体的に結晶形Ｃは、２θ＝８．１、８．８、９．５、１５．４、１７．２、１７．６、１９．７、２１．８、２４．５、２５．３、２６．８、２８．９及び３２．９±０．３゜の粉末ＸＲＤパターンを示す。

結晶形ＤのＸＲＤパターンは、２θ＝３．８及び１３．０に特性ピークを示す。具体的に結晶形Ｄは、２θ＝３．８、７．２、１０．４、１２．４、１３．０、１５．９、１７．５、２１．０及び２３．３±０．３゜の粉末ＸＲＤパターンを示す。

結晶形ＥのＸＲＤパターンは２θ＝３．４に特性ピークを示す。具体的に結晶形Ｅは、２θ＝３．４、６．９、１１．８、１２．７、１５．７、１７．２、２０．７、２１．５、２２．５及び２３．３±０．３゜の粉末ＸＲＤパターンを示す。

結晶形ＦのＸＲＤパターンは、２θ＝５．６に特性ピークを示す。具体的に結晶形Ｆは、２θ＝５．６、６．９、１１．８、１２．７、１５．７、１７．２、２０．７、２１．５、２２．５及び２３．３±０．２゜の粉末ＸＲＤパターンを示す。

結晶形ＧのＸＲＤパターンは、特許文献５の結晶形１の特性ピークである２θ=１１.８のピークがないことを特徴とする。具体的に結晶形Ｇは、２θ＝６．９、１２．７、１５．７、１７．２、２０．７、２１．５、２２．５及び２３．３±０．２゜の粉末ＸＲＤパターンを示す。

通常、結晶形は、溶解度のような熱力学的な特性といくつかの運転率のような動的特性によって決定される。運転率により結晶化メカニズムが決定され、このようなメカニズムは結晶核の形成、結晶の成長、及び結晶形の変形に影響を与えて所望の結晶をもたらす。従って、結晶形を制御するための結晶化メカニズムの分析は、必須であって、結晶化の研究において必ず遂行しなければならない。効率的な方法を開発するために、様々な過飽和形成方法が研究されている。

実質的な研究を通して、様々な溶媒中の濃度と温度による過飽和度の変化がアデフォビルジピボキシルの結晶形製造のための最も重要な因子であることが明らかにされた。飽和溶液から核形成によって結晶を析出する場合、粒子の結晶形に最も大きな影響を及ぼすパラメータは温度と溶媒である。結晶形成工程を介して得られた結晶形を調べるために、Ｘ線回折分析（ＸＲＤ）、示差走査熱量測定（ＤＳＣ）、顕微鏡分析などの様々なオフライン（off-line）方法を使用する。

本発明に係る新規結晶形の製造に使われる出発物質アデフォビルジピボキシルは、公知の方法、例えば、特許文献６または非特許文献３に記載された方法によって得られるが、出発物質アデフォビルジピボキシルを製造する方法について、本発明は何ら制限されない。

前述のように、本発明は、アデフォビルジピボキシルの様々な新規な結晶形を及びこれらの製造方法を提供する。本発明によって、当該技術分野に下記利点が提供される。

第１に、本発明によって提供される様々な結晶形は医薬組成物の製造において基剤の選択範囲を広げる効果がある。

第２に、本発明におけるアデフォビルジピボキシルの結晶形を製造するための結晶化溶媒として水を使用することにより、従来技術に比べて少ない量で、製薬学的に制約のある有機溶媒が残留する。さらに、本発明によると製造コストが下がり、大量生産を含むその製造が容易になる。

第３に、本発明の結晶形は、高い回収率、優れた溶出率及び貯蔵安定性を有する。

図１は、公知のアデフォビルジピボキシル結晶形のＸＲＤ結果を示す：［（ａ）結晶形１、（ｂ）結晶形２、（ｃ）結晶形３、（ｄ）結晶形４（以上、結晶形１〜４は特許文献５に開示されている）、（ｅ）特許文献４の結晶形］。図２は、実施例１で得られたアデフォビルジピボキシル結晶形ＡのＸ線回折スペクトルである。図３は、実施例４で得られたアデフォビルジピボキシル結晶形ＣのＸ線回折スペクトルである。図４は、実施例５で得られたアデフォビルジピボキシル結晶形ＤのＸ線回折スペクトルである。図５は、実施例７で得られたアデフォビルジピボキシル結晶形ＥのＸ線回折スペクトルである。図６は、実施例９で得られたアデフォビルジピボキシル結晶形ＦのＸ線回折スペクトルである。図７は、実施例１０で得られたアデフォビルジピボキシル結晶形ＧのＸ線回折スペクトルである。図８は、実施例１１で得られたアデフォビルジピボキシル結晶形ＢのＸ線回折スペクトルである。図９は、実施例３で得られたアデフォビルジピボキシル結晶形ＡのＤＳＣ吸熱曲線である。図１０は、実施例１１で得られたアデフォビルジピボキシル結晶形ＢのＤＳＣ吸熱曲線である。

本発明に係る新規結晶形製造方法において、新規結晶形の種類は、溶質（アデフォビルジピボキシル）：良溶媒：結晶化溶媒の割合、溶解条件及び結晶化温度などによって決定されるが、これらを詳細に下記に説明する。

１）結晶化溶媒として水を使用する場合
本発明の一実施様態においては、良溶媒としてアセトンをアデフォビルジピボキシルを溶解する最小量である、アデフォビルジピボキシルの重量に対して２〜７倍の重量、好ましくは４〜６倍の重量で使用する。１０〜４０℃、好ましくは２０〜３０℃の温度でアデフォビルジピボキシルを溶解した後、前記溶液にアデフォビルジピボキシルを結晶化する溶媒として水を添加する。水の量はアデフォビルジピボキシルの重量に対して２０〜４０倍重量、好ましくは２５〜３０倍重量である。結晶化溶媒を加えて結晶を形成し、結晶核の形成と成長を助けるために、得られた混合物を０〜３０℃、好ましくは５〜２５℃の温度に保持しながら、４〜３０時間、好ましくは５〜２０時間撹拌する。混合物をろ過し、回収した結晶を３５℃又はそれ以下の温度で減圧下乾燥すると、アデフォビルジピボキシル結晶形Ａが得られる。乾燥後、結晶形Ａが、カールフィッシャー（Karl Fisher）滴定により水分含量が６．５％〜７．１％であることを確認する。撹拌温度が高いと、収率が低下する。従って、撹拌温度及び撹拌時間は、所望の高収率、高純度のアデフォビルジピボキシル結晶形Ａを得るのに重要な影響を与える。

本発明の他の実施様態においては、良溶媒のアセトンをアデフォビルジピボキシルの重量に対して２〜７倍重量、好ましくは２〜４倍重量で使用して、１０〜４０℃、好ましくは２０〜３０℃の温度でアデフォビルジピボキシルを溶解する。次いで、前記溶液に結晶化溶媒として水をアデフォビルジピボキシルの重量に対して７〜１３倍重量、好ましくは９〜１１倍重量で加える。このようにして得られた混合物を撹拌することなく、一定の冷却温度の範囲０〜１０℃、好ましくは５〜１０℃を５〜３０時間、好ましくは５〜２０時間保持して、結晶の成長を誘導する。混合物をろ過し、回収した結晶を３５℃又はそれ以下の温度で減圧下乾燥する。乾燥後、結晶形Ｃは、カールフィッシャー滴定により水分含量が６．５％〜７．１％であることを確認する。

本発明の別の実施様態においては、良溶媒として１−メチルピロリジノンまたはエタノールを使用し、結晶化溶媒として水を使用してアデフォビルジピボキシル結晶形Ａを製造する。アデフォビルジピボキシルを溶解するための良溶媒として１−メチルピロリジノンを使用する場合、１−メチルピロリジノンをアデフォビルジピボキシルの重量に対して２〜５倍重量、好ましくは３〜４倍重量使用する。エタノールを良溶媒として使用する場合、エタノールをアデフォビルジピボキシルの重量に対して５〜１５倍重量、好ましくは８〜１２倍重量使用する。こうして得られた溶液を１０〜４０℃、好ましくは２０〜３０℃の温度に保持して、アデフォビルジピボキシルを溶解する。次いで、前記溶液に、結晶化溶媒として水をアデフォビルジピボキシルの重量に対して１０〜３０倍重量、好ましくは１５〜２０倍重量で加える。結晶の成長を誘導するために、混合物を一定の冷却温度０〜１０℃、好ましくは５〜１０℃の温度を維持しながら、３〜１０時間、好ましくは４〜５時間撹拌する。混合物をろ過し、回収した結晶を３０℃又はそれ以下の温度で減圧下乾燥して、アデフォビルジピボキシル結晶形Ａを得る。結晶化溶媒として水を使用して結晶化する場合、乾燥後の、カールフィッシャー滴定による水分含量は６．５％〜７．１％である。

２）良溶媒及び結晶化溶媒として有機溶媒を使用する場合
アデフォビルジピボキシルの結晶形は、ｎ−ヘプタン、シクロヘキサンのような結晶化溶媒を、クロロホルム、酢酸エチル、アセトニトリルまたはイソプロピルアルコールのような良溶媒中のアデフォビルジピボキシル溶液と混合することによって製造できる。

本発明の一実施様態においては、アデフォビルジピボキシルを、アデフォビルジピボキシルの重量に対して１〜５倍重量、好ましくは２〜４倍重量の良溶媒であるクロロホルムに３０〜５０℃、好ましくは３５〜４５℃の温度で溶解する。前記溶液を１０〜３０℃、好ましくは２０〜２５℃の温度に冷却し、ｎ−ヘプタンを添加して結晶化する。ｎ−ヘプタン量はアデフォビルジピボキシルの重量に対して１〜５倍重量、好ましくは２〜３倍重量である。結晶化の後、結晶核の形成と成長を助けるために、−１０〜３０℃、好ましくは−５〜２５℃の温度を保持しながら、混合物を４〜２０時間、好ましくは５〜１０時間撹拌する。混合物をろ過し、回収した結晶を乾燥するとアデフォビルジピボキシル結晶形Ｄが得られる。

本発明の別の実施様態においては、良溶媒である酢酸エチルを、アデフォビルジピボキシルの重量に対して０．５〜２倍重量、好ましくは０.５〜１倍重量の量で１０〜４０℃、好ましくは２０〜３０℃の温度で使用して、高含量のアデフォビルジピボキシルを含有する溶液を製造する。次いで、前記溶液を−２０〜２０℃、好ましくは−５〜５℃でｎ−ヘプタンに添加して結晶化する。ｎ−ヘプタンの量はアデフォビルジピボキシルの重量に対して１０〜１００倍重量、好ましくは２０〜５０倍重量である。結晶化の後、結晶核の形成と成長を助けるために、温度を−２０〜２０℃、好ましくは−５〜５℃に保持しながら、混合物を４〜２０時間、好ましくは５〜１０時間撹拌する。混合物をろ過し、回収した結晶を乾燥するとアデフォビルジピボキシル結晶形Ｄが得られる。

本発明の別の実施様態においては、良溶媒であるイソプロピルアルコールを、アデフォビルジピボキシルの重量に対して５〜２０倍重量、好ましくは１０〜１５倍重量の量で１０〜４０℃、好ましくは２０〜３０℃の温度で使用して、アデフォビルジピボキシルの溶液を製造する。次いで、前記溶液にシクロヘキサンを１０〜４０℃、好ましくは２０〜３０℃で加えて結晶化する。シクロヘキサンの量はアデフォビルジピボキシルの重量に対して１０〜４０倍重量，好ましくは２０〜３０倍重量である。結晶化の後、結晶核の成長を助けるために、−２０〜２０℃、好ましくは０〜１０℃の温度を保持しながら、混合物を１０〜４０時間、好ましくは１５〜２５時間撹拌する。混合物をろ過して、回収した結晶を乾燥すると、アデフォビルジピボキシル結晶形Ｆが得られる。

本発明の別の実施様態においては、良溶媒であるクロロホルムを、アデフォビルジピボキシルの重量に対して１〜５倍重量、好ましくは２〜３倍重量の量で１０〜４０℃、好ましくは２０〜３０℃で使用して、アデフォビルジピボキシル溶液を製造する。次いで、前記溶液にｎ−ヘキサンを１０〜４０℃、好ましくは２０〜３０℃で加えて結晶化する。ｎ−ヘキサンの量は、アデフォビルジピボキシルの重量に対して５〜３０倍重量、好ましくは５〜１０倍重量である。結晶化の後、結晶核の成長を助けるために、１０〜４０℃、好ましくは２０〜３０℃の温度を保持しながら、混合物を１〜１０時間、好ましくは２〜５時間撹拌する。混合物をろ過して、回収した結晶を乾燥するとアデフォビルジピボキシル結晶形Ｇが得られる。

３）アデフォビルジピボキシル結晶形Ｂの製造
本発明の別の実施様態においては、アデフォビルジピボキシル結晶形Ａを製造して、ろ過する。回収した結晶を３５〜４５℃で減圧下乾燥すると、アデフォビルジピボキシル結晶形Ｂが得られる。乾燥後のカールフィッシャー滴定による水分含量は０．０１％〜０．５％である。

４）アデフォビルジピボキシル結晶形Ｅの製造
本発明の別の実施様態においては、良溶媒である酢酸メチルまたはアセトニトリルをアデフォビルジピボキシルの重量に対して、３〜４０倍、好ましくは３〜１５倍重量の量で１０〜４０℃、好ましくは２０〜３０℃で使用して、アデフォビルジピボキシルを溶解する。同温度で減圧下、使用した良溶媒を蒸発して除去すると、アデフォビルジピボキシル結晶形Ｅが得られる。

以下の実施例により本発明をより具体的に説明するが、当然のことながら、これら実施例は説明のみを目的として挙げられており、本発明の範囲はこれらにより何ら限定されるものではない。

実施例１：結晶形Ａの製造
特許文献６の実施例９によって製造したアデフォビルジピボキシル（０．３ｇ）及び１−メチルピロリジノン（１．００ｇ）を１：３．３３の重量比で混合して、３０℃でアデフォビルジピボキシルを完全に溶解した。この溶液に、予め２５℃に制御された水を結晶が形成するまで加えた。加えた水の量は５．００ｇであった。５℃に制御された冷却装置を使用して溶液を冷却した。このように冷却した溶液を約４.５時間撹拌して、スラリーをろ過して結晶を分離した。ろ過して得た結晶を水で洗浄して、再びろ過した。結晶を２５℃〜３０℃で減圧下乾燥して、結晶形Ａ（０．３ｇ、回収率：９３％）を得た（カールフィッシャー滴定による水分含量：６．７％）。

実施例２：結晶形Ａの製造
特許文献６の実施例９によって製造したアデフォビルジピボキシル（０．３ｇ）及びエタノール（３．３１ｇ）を１：１１．０３の重量比で混合したことを除いては、実施例１と同様にして、結晶形Ａ（０．３１ｇ、回収率：９６％）を得た（カールフィッシャー滴定による水分含量：７．１％）。

実施例３：結晶形Ａの製造
特許文献６の実施例９によって製造したアデフォビルジピボキシル（３．９４ｋｇ）とアセトン（１４．１５ｋｇ）を１：３．５９の重量比で混合して、３０℃でアデフォビルジピボキシルを完全に溶解した。この溶液に、予め２５℃に制御された水（１４１．５ｋｇ）を加えて、混合物を２０℃〜２５℃で約１０時間撹拌した。ろ過して結晶を分離し、水で洗浄した。結晶を２５℃〜３０℃で減圧下乾燥して、結晶形Ａ（３．８３ｋｇ、回収率：９１％）を得た（カールフィッシャー滴定による水分含量：６．９％）。

実施例４：結晶形Ｃの製造
特許文献６の実施例９によって製造したアデフォビルジピボキシル（０．３０１ｇ）及びアセトン（１．３０ｇ）を１：４．３２の重量比で混合して、３０℃でアデフォビルジピボキシルを完全に溶解した。この溶液に、水をアセトン溶媒の２倍の量、即ち、２．６０ｇ加えた。混合物を６．４℃で約１７時間保持して結晶の成長を誘導した。結晶をろ過して分離し、２５℃〜３０℃で２４時間減圧下乾燥して、結晶形Ｃ（０．２９ｇ、回収率：９０％）を得た（カールフィッシャー滴定による水分含量：６．５％）。

実施例５：結晶形Ｄの製造
特許文献６の実施例９によって製造したアデフォビルジピボキシル（１．００ｇ）及びクロロホルム（３ｇ）を１：３．００の重量比で混合し、４５℃で完全に溶解した。得られた溶液を２５℃に冷却し、そこに予め２５℃に制御されたｎ−ヘプタン（２．７ｇ）を加えた。０℃に制御された冷却装置を使用して混合物を冷却し、約５時間撹拌した。ろ過して結晶を分離し、ｎ−ヘプタンで洗浄した。結晶を２５℃〜３０℃で２４時間減圧下乾燥して、結晶形Ｄ（０．８９ｇ、回収率：８９％）を得た。

実施例６：結晶形Ｄの製造
特許文献６の実施例９によって製造したアデフォビルジピボキシル（３．８ｇ）及び酢酸エチル（２．７ｇ）を１：０．７１の重量比で混合して、３０℃でアデフォビルジピボキシルを完全に溶解して、高濃度の溶液を製造した。得られた溶液を、０℃に保持しているｎ−ヘプタン（８２ｇ）に加えて、混合物を約６時間保持して結晶化した。このようにして形成した結晶をろ過して分離し、ｎ−ヘプタンで洗浄し、再びろ過した。結晶を２５℃〜３０℃で２４時間減圧下乾燥して、結晶形Ｄ（３．７ｇ、回収率：９７％）を得た。

実施例７：結晶形Ｅの製造
特許文献６の実施例９によって製造したアデフォビルジピボキシル（０．２ｇ）及び酢酸メチル（２．８ｇ）を１:１４の重量比で混合して、２５℃でアデフォビルジピボキシル完全に溶解した。得られた溶液から同温度で溶媒を減圧下蒸発した。その結果、特許文献５に記載された結晶形１に比べて２θ＝３．４゜のピークをさらに有している結晶形Ｅ（０．１８g、回収率：９０％）を得た。

実施例８：結晶形Ｅの製造
特許文献６の実施例９によって製造したアデフォビルジピボキシル（０．２ｇ）及びアセトニトリル（０．８ｇ）を１:４の重量比で混合したことを除いては、実施例７と同様にした。その結果、特許文献５に記載された結晶形１に比べて、２θ＝３．４゜のピークをさらに有している結晶形Ｅ（０．１８ｇ、回収率：９０％)を得た。

実施例９：結晶形Ｆの製造
特許文献６の実施例９によって製造したアデフォビルジピボキシル（０．５０１６ｇ）及びイソプロピルアルコール（６．１１ｇ）を１：１２．２の重量比で混合して、３０℃でアデフォビルジピボキシルを完全に溶解した。この溶液に、シクロヘキサンをイソプロピルアルコール溶媒の約２倍の量、即ち、１２．８３ｇ加えた。次いで、混合物を６．４℃で約２０時間撹拌して、結晶の成長を誘導した。ろ過して結晶を分離し、シクロヘキサンで洗浄し、再びろ過し、結晶を２５℃〜３０℃で２４時間減圧下乾燥して、特許文献５に記載された結晶形１に比べて、２θ＝５．６゜のピークをさらに有している結晶形Ｆ（０．４５ｇ、回収率：９０％）を得た。

実施例１０：結晶形Ｇの製造
特許文献６の実施例９によって製造したアデフォビルジピボキシル（０．５０ｇ）及びクロロホルム（１．５０ｇ）を１:３の重量比で混合して、３０℃でアデフォビルジピボキシルを完全に溶解した。この溶液に、予め同温度に制御されたｎ−ヘキサン（３．０３ｇ）を加えた。次に、混合物を約４時間撹拌し、吸引装置を利用してろ過して結晶を分離し、２５℃〜３０℃で２４時間乾燥して、特許文献５に記載された結晶形１に比べて、２θ＝１１．８゜のピークが欠如している結晶形Ｇ（０．４２ｇ、回収率：８４％）を得た。

実施例１１：結晶形Ｂの製造
実施例３と同じ手順により製造し、ろ過して、回収したアデフォビルジピボキシル結晶形Ａ（３．８３ｋｇ）を３５〜４５℃で減圧下乾燥して、アデフォビルジピボキシル結晶形Ｂ（３．５４ｋｇ、回収率：９９％）を得た（カールフィッシャー滴定による水分含量：０．２％）。

実験例１：Ｘ線回折スペクトル
実施例で製造したアデフォビルジピボキシルをＸ線回折分析装置［機器名：Ｍ１８ＸＨＦ−ＳＲＡ（Mac Science 社製、日本)及びＰｏｗｄｅｒＸＲＤ（Bruker AXS社製、ドイツ）］で測定した。その結果を図２、３、４、５、６、７及び８に示した。

実験例２：示差走査熱量計；ＤＳＣ
実施例３及び１１で製造したアデフォビルジピボキシルの結晶形を示差走査熱量計［機器名：ＤＳＣ８２２ｅ、Mettler Toledo 社製］で測定した。その結果をそれぞれ図９及び１０に示した。

実験例３：結晶形Ａ及びＢを製造するための乾燥温度条件
実施例３で製造した結晶形Ａを０．１〜１．０Ｔｏｒｒの真空条件下に多種の乾燥温度及び乾燥時間で処理して、得られた結晶形の変換結果を表１に示す。

前記表１の結果から分かるように、実施例３によって製造したアデフォビルジピボキシル結晶形Ａを２５℃で真空乾燥すると、他の結晶形に変換されずに結晶形Ａとして２水和物に相当する水分含量を保持した。しかし、３５〜４５℃で乾燥すると、結晶形Ａから結晶形Ｂに変換されることが分かった。一方、結晶形Ｉは前記温度で乾燥しても結晶形Ｂに変換されなかった。

実験例４：安定性試験
本発明の実施例３及び１１の新規結晶形Ａ及びＢと、アデフォビルジピボキシル標準品（純度９９．５％、５０ｍｇ）を精密に計量し、５０ｍＬ容量フラスコに入れ、希釈液に溶解した。標線に仕上げた後、それぞれ試料液と標準液として使用した。下記条件で分析し、新規結晶形Ａ、Ｂの含量及び形成されたアデフォビルジピボキシルの分解産物の量をピーク面積により計算した。５℃及び加速条件下で６カ月かけて新規な結晶形の含量と分解産物の量の変化を測定した。その結果を下記表２と表３に示す。

分析条件：
使用機器：ＷａｔｅｒｓＨＰＬＣｍｏｄｅｌ２６９５
カラム：ＡｌｌｅｃｈＭｉｘｅｄＭｏｄｅＡｎｉｏｎｅｘｃｈａｎｇｅＣ８、７μｍ１００Ａｐｏｒｅｓｉｚｅ、２５０ｍｍ×４．６ｍｍ
分析条件：
移動相混合状態を下記のように実施した：
１９分間、移動相Ａを１００％から０％に、移動相Ｂを０％から１００％に変化させた。
３６分まで、移動相Ｂ１００％で溶出した後、４６分まで、溶出を移動相Ａ０％から１００％に変化させた。
移動相Ａ：緩衝液／アセトニトリル（７０：３０、ｖ／ｖ）
移動相Ｂ：緩衝液／アセトニトリル（５０：５０、ｖ／ｖ）
緩衝液：Ｋ_２ＨＰＯ_４（９．２ｇ）とＫＨ_２ＰＯ_４（４７．２ｇ）を精製水（２Ｌ）に溶解した
希釈液：ＫＨ_２ＰＯ（３.４ｇ）を精製水（１Ｌ）に溶解してｐＨ３．０に調節した
検出波長：２６０ｎｍ
流速：１．２ｍＬ／ｍｉｎ

表２及び表３に示されるように、新規結晶形Ａ及びＢは５℃及び加速の両条件下で、９８．８５％〜１００．４８％の含量及び０．２５％〜０.６６％の分解産物の総量を保持しており、非常に優れた安定性を示した。

実験例５：溶出試験
本発明の実施例１１で製造した新規結晶形Ｂと特許文献７の実施例１で製造した結晶形Ｉを原料として用い、特許文献８の実施例１に開示された技術によって、それぞれの製剤を製造した。０．０１ＮのＨＣｌ溶液、ｐＨ１．２の緩衝液（ＮａＣｌ（２０ｇ）＋３７％のＨＣｌ（６８〜７０ｍＬ）＋蒸留水（９Ｌ））、ｐＨ４．０の緩衝液（酢酸ナトリウム（７．３８ｇ）＋酢酸（２５ｍＬ）＋蒸留水（９Ｌ)）、ｐＨ６．０の緩衝液（ＫＨ_２ＰＯ_４（６８ｇ）＋ＮａＯＨ＋蒸留水（１０Ｌ））及びｐＨ７の蒸留水での溶出率を比較した。試験はそれぞれ３回繰り返して、平均値を表４に示す。

表４の結果は、本発明の新規結晶形Ｂを用いた製剤が従来の結晶形Ｉを用いた製剤に比べて優れた溶出率を示すことを明らかにしている。

Claims

粉末ＸＲＤパターンが、２θ＝１２．９、２５．９及び２８．１に特性ピークを示す、アデフォビルジピボキシルの結晶形Ａ。
粉末ＸＲＤパターンが、２θ＝４．４、８．７、１２．９、１７．２、１９．８、２１．６、２５．９、２８．１及び３０．３８±０．３゜に特性ピークを示す、請求項１に記載のアデフォビルジピボキシルの結晶形Ａ。
（ａ）アデフォビルジピボキシルを、アデフォビルジピボキシルの重量に対して２〜７倍重量の良溶媒であるアセトンに溶解し、この溶液にアデフォビルジピボキシルの重量に対して２０〜４０倍重量の水を結晶化溶媒として加えて、こうして得られた結晶を回収する、又は
（ｂ）アデフォビルジピボキシルをアデフォビルジピボキシルの重量に対して２〜５倍重量の良溶媒である１−メチルピロリジノン、又はアデフォビルジピボキシルの重量に対して５〜１５倍重量の良溶媒であるエタノールに溶解し、この溶液にアデフォビルジピボキシルの重量に対して１０〜３０倍重量の水を結晶化溶媒として加えて、こうして得られた結晶を回収する、ことを特徴とする、請求項1に記載のアデフォビルジピボキシルの結晶形Ａを製造する方法。
結晶化溶媒を加える工程の温度を、方法（ａ）では０〜３０℃に、方法（ｂ）では０〜１０℃に保持することを特徴とする、請求項３に記載の方法。
回収された結晶を、方法（ａ）では３５℃又はそれ以下で、方法（ｂ）では３０℃又はそれ以下で乾燥することを特徴とする、請求項３に記載の方法。
粉末ＸＲＤパターンが、２θ＝７．３、１６．３、１７．２及び２２．２に特性ピークを示すことを特徴とする、アデフォビルジピボキシルの結晶形Ｂ。
粉末ＸＲＤパターンが、２θ＝６．４、７．３、８．６、９．７、１２．６、１３．５、１６．３、１７．２、１９．５、２０．８、２２．２及び２６．０±０．３゜に特性ピークを示す、請求項６に記載のアデフォビルジピボキシルの結晶形Ｂ。
請求項３に記載の方法によって回収されたアデフォビルジピボキシルの結晶形Ａを、３５〜４５℃の温度で乾燥することを特徴とする、請求項６に記載のアデフォビルジピボキシルの結晶形Ｂを製造する方法。
粉末ＸＲＤパターンが、２θ＝８．１、８．８、９．５、２４．５、２５．３及び３２．９に特性ピークを示す、アデフォビルジピボキシルの結晶形Ｃ。
粉末ＸＲＤパターンが、２θ＝８．１、８．８、９．５、１５．４、１７．２、１７．６、１９．７、２１．８、２４．５、２５．３、２６．８、２８．９及び３２．９±０.３゜に特性ピークを示す、請求項９に記載のアデフォビルジピボキシルの結晶形Ｃ。
アデフォビルジピボキシルを、アデフォビルジピボキシルの重量に対して２〜７倍重量の良溶媒であるアセトンに溶解し、この溶液にアデフォビルジピボキシルの重量に対して７〜１３倍重量の水を結晶化溶媒として加えて、こうして得られた結晶を回収することを特徴とする、請求項９に記載のアデフォビルジピボキシルの結晶形Ｃを製造する方法。
水を加えた後、撹拌することなく、０〜１０℃の一定の冷却温度を５〜３０時間保持して結晶の成長を誘導する、請求項１１に記載の方法。
粉末ＸＲＤパターンが、２θ＝３．８及び１３．０に特性ピークを示す、アデフォビルジピボキシルの結晶形Ｄ。
粉末ＸＲＤパターンが、２θ＝３．８、７．２、１０．４、１２．４、１３．０、１５．９、１７．５、２１．０及び２３．３±０．３゜に特性ピークを示す、請求項１３に記載のアデフォビルジピボキシルの結晶形Ｄ。
（ａ）アデフォビルジピボキシルを、アデフォビルジピボキシルの重量に対して１〜５倍重量の良溶媒であるクロロホルムに溶解し、この溶液にアデフォビルジピボキシルの重量に対して１〜５倍重量のｎ−ヘプタンを結晶化溶媒として加えて、こうして得られた結晶を回収する、又は
（ｂ）アデフォビルジピボキシルを、アデフォビルジピボキシルの重量に対して０.５〜２倍重量の良溶媒である酢酸エチルに溶解し、この溶液をアデフォビルジピボキシルの重量に対して１０〜１００倍重量の結晶化溶媒であるｎ−ヘプタンに加えて、こうして得られた結晶を回収する、ことを特徴とする、請求項１３に記載のアデフォビルジピボキシルの結晶形Ｄを製造する方法。
工程（ａ）が、結晶化溶媒を加えた後、混合物を−１０〜３０℃の温度で４〜２０時間撹拌する工程を更に含有している、請求項１５に記載の方法。
工程（ｂ）が、結晶化溶媒を加えた後、混合物を−２０〜２０℃の温度で４〜２０時間撹拌する工程を更に含有している、請求項１５に記載の方法。
粉末ＸＲＤパターンが、２θ＝３．４に特性ピークを示す、アデフォビルジピボキシルの結晶形Ｅ。
粉末ＸＲＤパターンが、２θ＝３．４、６．９、１１．８、１２．７、１５．７、１７．２、２０．７、２１．５、２２．５及び２３．３±０.３゜に特性ピークを示す、請求項１８に記載のアデフォビルジピボキシルの結晶形Ｅ。
アデフォビルジピボキシルをアデフォビルジピボキシルの重量に対して３〜４０倍重量の良溶媒である酢酸メチル又はアセトニトリルに１０〜４０℃で溶解し、同温度で減圧下に良溶媒を蒸発することを特徴とする、請求項１８に記載のアデフォビルジピボキシルの結晶形Ｅを製造する方法。
粉末ＸＲＤパターンが、２θ＝５．６に特性ピークを示す、アデフォビルジピボキシルの結晶形Ｆ。
粉末ＸＲＤパターンが、２θ＝５．６、６．９、１１．８、１２．７、１５．７、１７．２、２０．７、２１．５、２２．５及び２３．３±０．２゜に特性ピークを示す、請求項２１に記載のアデフォビルジピボキシルの結晶形Ｆ。
アデフォビルジピボキシルを、アデフォビルジピボキシの重量に対して５〜２０倍重量の良溶媒であるイソプロピルアルコールに溶解し、この溶液にアデフォビルジピボキシルの重量に対して１０〜４０倍重量のシクロヘキサンを結晶化溶媒として加えて、こうして得られた結晶を回収することを特徴とする、請求項２１に記載のアデフォビルジピボキシルの結晶形Ｆを製造する方法。
結晶化溶媒を加えた後、混合物を−２０〜２０℃の温度で１０〜４０時間撹拌する工程を更に含有している、請求項２３に記載の方法。
粉末ＸＲＤパターンが、２θ＝６．９、１２．７、１５．７、１７．２、２０．７、２１．５、２２．５及び２３．３±０．２゜に特性ピークを示す、アデフォビルジピボキシルの結晶形Ｇ。
アデフォビルジピボキシルを、アデフォビルジピボキシルの重量に対して１〜５倍重量の良溶媒であるクロロホルムに溶解し、この溶液にアデフォビルジピボキシルの重量に対して５〜３０倍重量のｎ−ヘキサンを結晶化溶媒として加えて、こうして得られた結晶を回収することを特徴とする、請求項２５に記載のアデフォビルジピボキシルの結晶形Ｇを製造する方法。