JP2020518662A - 化合物の結晶多形、その製造方法及び用途 - Google Patents
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Abstract
Description
表1化合物1結晶形IIのXRPD解析データー
表2化合物1の結晶形IVのXRPD解析データー
表3化合物1結晶形VのXRPD解析データー
表4化合物1結晶形VIのXRPD解析データー
表5化合物1結晶形VIIのXRPD解析データー
化合物1を、ハロゲン化アルカン系溶媒および水と混合し、溶解されるまで昇温還流し、冷却し、得られた結晶形IIを集める。
化合物1を、ハロゲン化アルカン系溶媒中に溶解させ透明な溶液が得られて、水を加え溶媒を揮発または蒸発させることで結晶形IIが得られる。
化合物1を、エーテル系溶媒またはニトリル系溶媒中に溶解し、得られた溶液を水に加えて攪拌することで結晶形IVが得られる。
上記ニトリル系溶媒は、アセトニトリルから選らばれて良い。
上記撹拌は0−40℃で行って良く、例えば15−35℃であり、例えば20−25℃で行う。
化合物1を、エーテル系溶媒とアルカン系溶媒との混合溶媒中に溶解させ懸濁液が得られ、撹拌結晶化によって結晶形Vを得る。
化合物1を、1, 4−ジオキシ溶媒中に溶解させて透明な溶液が得られ、撹拌しながら当該透明な溶液中にアルカン系溶媒を加え(滴下)、撹拌することで結晶形VIが得られる。
上記記載の化合物1の結晶形IVを加熱してから、冷却することで結晶形VIIを得る。
上記加熱は、好ましくは不活性雰囲気下で行い、例えば窒素ガス雰囲気で行う。
好ましくは、相対湿度が92.5%RH以下であり、好ましくは80%RH以下であり、例えば60%RH以下である上記結晶形IIの保存方法である。
本発明に引用される全ての文献において、それらの全部の内容は引用することにより本明細書に編み込まれるともに、これらの文献が表す意味が本発明と一致しない場合は、本発明の記述を基準とする。そして、本発明に使われている各種用語および複合詞は、当業者周知の一般的な意味を有する、とはいえ、本発明では依然ともこの場でこれら用語および複合詞に対して、より詳しく説明および解釈することを希望する。言及された用語および複合詞が周知の意味と一致しない場合は、本発明記述の意味を基準とする。
1)本発明で製造された結晶多形体は良好な安定性を有するため、常温で長時間保存(例えば180日後)した後にも、その純度・色・性状には変化がない。なお、本発明の上記結晶形は良好な流動性を有するため、粉砕し易くて、比較的に医薬組成物の製造に使い易い。最後に、本発明で製造された結晶多形体は高純度で、単一不純物も少ない。
(1) 核磁気共鳴装置
機器型番:Varian INOVA−400核磁気共鳴装置。
機器型番:PANalytical粉末X線回折装置、型番:X’Pert PRO MPD。
(3)TGA/DSC1同期熱分析計
機器型番:TGA/DSC 1 STARe System
テスト条件:昇温速度は10 ℃/minであり、乾燥窒素ガスは掃き出し気体として使う。
機器型番:ZEISS Sigma 300。
機器型番:Waters e2695−2489。
反応ルート:
50 L の反応釜内に12Lのジクロロメタンを添加する。出発物質(5.00kg、15.46mol)を添加する。4−N,N−ジメチルアミノピリジン(2.83kg, 23.20mol)を添加し、10分間撹拌する。化合物2 (2.23kg、15.46mol)を添加し、温度を0℃まで下げる。1−(3−ジメチルアミノプロピル)−3−エチルカルボジイミド塩酸塩(EDCI)(4.45kg、23.20mol)を数回に分けてジクロロメタン (20 L)中に溶解させて、懸濁液を形成する。ゆっくり滴下し、滴下中の液温を0℃より低い温度に制御する。滴下完了後、16時間撹拌し続ける。サンプリングしてTLC (PE : EtOAc = 1:1)で測定した。反応完了後、反応液を炭酸水素ナトリウム飽和液(20L*2)で洗浄した。さらにNaCl飽和液(15L)で1回洗浄した。減圧濃縮し、スピン乾燥後にトルエン3Lを添加する。引き続き減圧濃縮することで化合物3が得られる。分離重量は6.95kg、分離収率は87.7%、純度は85%である。
10gの化合物1を、100mLのジクロロメタンに添加し、5mLの水を加え撹拌し、還流するまで昇温する。固体が完全溶解した後、0−10℃まで降温して固体を析出させて、固体である目標の結晶形を集める。粉末X線回折測定の結果、そのXRPDパターンは図1に示す通りである。DSC−TGA分析したところ、そのDSC−TGAパターンは図2に示す通りである。サンプルを走査型電子顕微鏡で観察したところ、結晶形の様子は図3に示す通りで、純度は99.6%である。
10gの化合物1を、200mLのジクロロメタンに添加し、撹拌により固体を完全溶解される。水を7.5ml添加し、撹拌し続け、溶媒を徐々に蒸発させ、固体を析出させる。懸濁液を濾過して、結晶形が得られるが、そのXRPDパターンは図1に示す通りで、純度は99.3%である。
約2.3gの化合物1を、10mLのテトラヒドロフランに添加し、サンプルが完全溶解するまで振動させる。テトラヒドロフラン溶液を、一度に4.0mLの水に加え、2時間撹拌する。遠心分離で固体が得られた。粉末X線回折測定の結果、そのXRPDパターンは図4に示す通りである。DSC−TGA分析したところ、そのDSC−TGAパターンは図5に示す通りである。サンプルを走査型電子顕微鏡で観察したところ、結晶形の様子は図6に示す通りで、純度は99.1%である。
約2.0gの化合物1サンプルを、10mLのアセトニトリルに添加し、サンプルが完全溶解するまで振動させる。アセトニトリル溶液を、一度に2.5mLの水に加え、2時間撹拌する。遠心分離で結晶形が得られたが、そのXRPDパターンは図4に示す通りで、純度は99.5%である。
1.0gの化合物1を、10mLの1,4−ジオキサン/n−ヘプタン(1:4; v/v)の混合溶媒に添加し、得られた懸濁液を室温で1日間磁気撹拌した後、遠心分離することで固体が得られる。粉末X線回折測定の結果、そのXRPDパターンは図7に示す通りである。DSC−TGA分析したところ、そのDSC−TGAパターンは図8に示す通りで、純度は99.1%である。
約1.0gの化合物1を、8mLの1,4−ジオキサン/n−ヘプタン(1:3; v/v)の混合溶媒に添加し、得られた懸濁液を室温で1日間磁気撹拌した後、遠心分離することで固体が得られる。そのXRPDパターンは図7に示す通りで、純度は99.4%である。
約1.3gの化合物1を、5mLの1,4−ジオキサンに添加し透明な溶液が得られる。当該透明な溶液を振りながら30mLのn−ヘプタンを滴下し、3時間磁気撹拌した後、遠心分離することで固体が得られる。粉末X線回折測定の結果、そのXRPDパターンは図9に示す通りである。DSC−TGA分析したところ、そのDSC−TGAパターンは図10に示す通りである。サンプルを走査型電子顕微鏡で観察したところ、結晶形の様子は図11に示す通りで、純度は99.7%である。
約2.5gの化合物1を、12.5mLの1,4−ジオキサンに添加・撹拌し、透明な溶液が得られるが、撹拌しながら100 mLのn−ヘプタンを滴下し、得られた懸濁液を50℃の 条件で一晩磁気撹拌した後、固体を集積して結晶形が得られる。そのXRPDパターンは図9に示す通りで、純度は99.5%である。
1.2gの化合物1結晶形IVのサンプルを、窒素ガス環境下で105℃まで加熱し、当該温度で30分間保温した後、室温まで冷却することで固体が得られる。粉末X線回折測定の結果、そのXRPDパターンは図12に示す通りであり、DSC−TGA分析したところ、そのDSC−TGAパターンは図13に示す通りである。サンプルを走査型電子顕微鏡で観察したところ、結晶形の様子は図14に示す通りで、純度は99.6%である。
1.5gの化合物1結晶形IVのサンプルを、窒素ガス環境下で120℃まで加熱し、当該温度で20分間保温した後、室温まで冷却することで得られた固体の結晶形は結晶形VIIである。製造された結晶形のXRPDパターンは図12に示す通りで、純度は99.3%である。
実施例2で製造した結晶形II、実施例4で製造した結晶形IV、実施例8で製造した結晶形VI、実施例10で製造した結晶形VIIをそれぞれ医薬用低密度ポリエチレン袋に入れて密封し、室温で180日間保管し、PANalytical 粉末X線回折装置にてXRPDを各自測定し、高速液体クロマトグラフィーにて純度測定をした結果として、結晶形II、IV、VI、VIIの180日後の純度及び結晶形には変化がなく、優れた安定性を表した。その結果は表6に示す通りである。
実施例2で製造した結晶形IIに対して60℃で安定性実験を実施したが、結果は表7に示す通りである。
実施例4で製造した結晶形IVに対して92.5%RHで安定性実験を実施したが、結果は表8に示す通りである。
Claims (10)
- 化合物1半水和物の結晶形II:
そのうち、結晶形IIはCu−Kα放射を使用した粉末X線回折において、2θで表される角度として4.15±0.20°、4.99±0.20°、8.78±0.20°、9.44±0.20°、18.47±0.20°、18.93±0.20°に特徴的なピークがある;
好ましくは、上記結晶形IIはCu−Kα放射を使用した粉末X線回折において、2θで表される角度として4.15±0.20°、4.99±0.20°、7.33±0.20°、8.78±0.20°、9.44±0.20°、10.00±0.20°、18.47±0.20°、18.93±0.20°に特徴的なピークがある;
好ましくは、上記結晶形IIはCu−Kα放射を使用した粉末X線回折において、2θで表される角度として4.15±0.20°、4.99±0.20°、7.33±0.20°、7.88±0.20°、8.78±0.20°、9.44±0.20°、10.01±0.20°、10.96±0.20°、11.61±0.20°、12.54±0.20°、14.18±0.20°、16.65±0.20°、17.49±0.20°、18.47±0.20°、18.93±0.20°、19.62±0.20°、20.13±0.20°、21.49±0.20°、22.08±0.20°、22.51±0.20°、23.59±0.20°、24.68±0.20°、25.37±0.20°、26.56±0.20°、27.24±0.20°、27.76±0.20°、28.56±0.20°、30.02±0.20°、32.18±0.20°に特徴的なピークがある;
好ましくは、上記結晶形IIは基本的に図1に示すような粉末X線回折図を有する。 - 化合物1の1水和物の結晶形IV:
そのうち、上記結晶形IVはCu−Kα放射を使用した粉末X線回折において、2θで表される角度として5.04± 0.20°、7.20± 0.20°、7.68± 0.20°、9.81± 0.20°、10.08± 0.20°、14.43± 0.20に特徴的なピークがある;
好ましくは、上記結晶形IVはCu−Kα放射を使用した粉末X線回折において、2θで表される角度として5.04± 0.20°、7.20± 0.20°、7.68± 0.20°、9.35± 0.20°、9.81± 0.20°、10.08± 0.20°、14.43± 0.20、18.07± 0.20°に特徴的なピークがある;
好ましくは、上記結晶形IVはCu−Kα放射を使用した粉末X線回折において、2θで表される角度として5.04± 0.20°、6.54± 0.20°、7.20± 0.20°、7.68± 0.20°、8.13± 0.20°、9.35± 0.20°、9.81± 0.20°、10.08± 0.20°、10.71± 0.20°、13.33± 0.20°、14.43± 0.20°、15.15± 0.20°、15.42± 0.20°、16.39± 0.20°、18.07± 0.20°、18.42± 0.20°、18.80± 0.20°、19.00± 0.20°、19.71± 0.20°、20.34± 0.20°、21.72± 0.20°、22.29± 0.20°、23.62± 0.20°、24.14± 0.20°、24.52± 0.20°、25.39± 0.20°、25.79± 0.20°、26.37± 0.20°、27.89± 0.20°、29.09± 0.20°、31.18± 0.20°、32.51± 0.20°、34.73± 0.20°に特徴的なピークがある。 - 化合物1半水和物の結晶形V:
そのうち、上記結晶形VはCu−Kα放射を使用した粉末X線回折において、2θで表される角度として6.76±0.20°、10.20±0.20°、10.79±0.20°、17.14±0.20°、19.26±0.20°、19.69±0.20°、20.33±0.20°、20.83±0.20°、22.60±0.20°、23.47±0.20°、24.73±0.20°に特徴的なピークがある;
好ましくは、上記結晶形VはCu−Kα放射を使用した粉末X線回折において、2θで表される角度として6.76±0.20°、10.20±0.20°、10.79±0.20°、12.13±0.20°、13.55±0.20°、14.54±0.20°、17.14±0.20°、17.90±0.20°、18.30±0.20°、18.96±0.20°、19.26±0.20°、19.69±0.20°、20.33±0.20°、20.83±0.20°、21.71±0.20°、22.29±0.20°、22.60±0.20°、23.47±0.20°、24.73±0.20°、26.32±0.20°、27.63±0.20°、28.32±0.20°、30.75±0.20°、32.81±0.20°、34.10±0.20°、36.11±0.20°、38.29±0.20°、40.31±0.20°、41.58±0.20°、43.47±0.20°に特徴的なピークがある;
好ましくは、上記結晶形Vは図7に示すような粉末X線回折図を有する。 - 化合物1の1,4−ジオキサン溶媒和物の結晶形VI:
そのうち、上記結晶形VIはCu−Kα放射を使用した粉末X線回折において、2θで表される角度として7.82±0.20°、17.55±0.20°、19.89±0.20°、25.48±0.20°に特徴的なピークがある;
好ましくは、上記結晶形VIはCu−Kα放射を使用した粉末X線回折において、2θで表される角度として5.57±0.20°、7.82±0.20°、12.30±0.20°、17.55±0.20°、18.34±0.20°、19.15±0.20°、19.89±0.20°、24.46±0.20°、25.48±0.20°に特徴的なピークがある;
好ましくは、上記結晶形VIはCu−Kα放射を使用した粉末X線回折において、2θで表される角度として5.57±0.20°、7.82±0.20°、10.97±0.20°、12.30±0.20°、15.62±0.20°、16.66±0.20°、17.55±0.20°、17.99±0.20°、18.34±0.20°、19.15±0.20°、19.89±0.20°、21.08±0.20°、21.40±0.20°、22.03±0.20°、22.70±0.20°、22.70±0.20°、22.93±0.20°、23.48±0.20°、24.46±0.20°、24.71±0.20°、25.48±0.20°、26.32±0.20°、27.65±0.20°、27.98±0.20°、28.50±0.20°、29.44±0.20°、30.05±0.20°、31.48±0.20°、32.44±0.20°、33.77±0.20°、34.45±0.20°、35.36±0.20°、36.08±0.20°、37.52±0.20°、38.22±0.20°、39.20±0.20°、39.83±0.20°、40.32±0.20°、41.52±0.20°、42.51±0.20°、43.42±0.20°に特徴的なピークがある;
好ましくは、上記結晶形VIは基本的に図9に示すような粉末X線回折図を有する。 - 化合物1の無水結晶形VII:
そのうち、上記結晶形VIIはCu−Kα放射を使用した粉末X線回折において、2θで表される角度として4.94±0.20°、7.21±0.20°、7.65±0.20°、9.85±0.20°、20.05±0.20°、23.95±0.20°に特徴的なピークがある;
好ましくは、上記結晶形VIIはCu−Kα放射を使用した粉末X線回折において、2θで表される角度として4.94±0.20°、7.21±0.20°、7.65±0.20°、8.01±0.20°、9.85±0.20°、14.54±0.20°、20.05±0.20°、23.95±0.20°に特徴的なピークがある;
好ましくは、上記結晶形VIIはCu−Kα放射を使用した粉末X線回折において、2θで表される角度として4.94±0.20°、7.21±0.20°、7.65±0.20°、8.01±0.20°、9.85±0.20°、14.54±0.20°、16.21±0.20°、17.64±0.20°、18.28±0.20°、18.65±0.20°、20.05±0.20°、22.59±0.20°、23.95±0.20°に特徴的なピークがある; - 化合物1を、ハロゲン化アルカン系溶媒および水と混合し、溶解されるまで昇温還流し、冷却し、得られた結晶形IIを集めるステップを含み、
または、
化合物1を、ハロゲン化アルカン系溶媒中に溶解させ透明な溶液が得られ、水を加え溶媒を揮発または蒸発することで結晶形IIが得られるステップを含んでも良く、
上記ハロゲン化アルカン系溶媒は、ジクロロメタン、トリクロロメタン、四塩化炭素から選ばれる一種または多種であり、好ましくは、ジクロロメタンであり、
好ましくは、上記化合物1の質量(g)とハロゲン化アルカン系溶媒の体積(mL)と比は、1:2〜50であり、好ましくは1:5〜20であり、例えば1:5〜10あり、
好ましくは、上記ハロゲン化アルカン系溶媒と水との体積比は、1:1〜40:1で良く、好ましくは10:1〜30:1であり、例えば20:1〜30:1ある;例えば、体積比が20:1のジクロロメタンと水とを使うか、または26.7:1のジクロロメタンと水とを使い、
好ましくは、上記揮発は、溶媒が揮発または蒸発し易い温度で行って良く、例えば10−100℃で行い、例えば20−60℃、25−40℃で行う、請求項1に記載の結晶形IIの製造方法。 - 化合物1を、エーテル系溶媒またはニトリル系溶媒に溶解し、得られた溶液を水に加えて攪拌することで結晶形IVが得られるステップを含み、
その内、上記エーテル系溶媒は、ジエチルエーテル、メチルエチルエーテル、メチル−tert−ブチルエーテル、ジプロピルエーテル、ジブチルエーテル、1,4−ジオキサン、テトラヒドロフランから選ばれる1種または多種であり、例えば、テトラヒドロフランであり、
上記ニトリル系溶媒は、アセトニトリルから選らばれて良く、
好ましくは、上記化合物1の質量(g)とエーテル系溶媒またはニトリル系溶媒の体積(mL)との比は、1:2〜50であり、好ましくは1:5〜20であり、例えば1:5〜10であり、
上記エーテル系またはニトリル系溶媒と水との体積比は、好ましくは2:1〜4:1であり、例えば4:1である;例えば体積比が2.5:1のテトラヒドロフランと水とを使うか、または体積比が4:1のアセトニトリルと水とを使い、
上記水は、好ましくは精製水であり、
上記撹拌は0−40℃で行って良く、例えば15−35℃であり、例えば20−25℃で行う、請求項2に記載の結晶形IVの製造方法。 - 化合物1を、エーテル系溶媒とアルカン系溶媒との混合溶媒中に溶解させ懸濁液が得られ、撹拌結晶化によって結晶形Vを得るステップを含み、
そのうち、上記エーテル系溶媒はジエチルエーテル、メチルエチルエーテル、メチル−tert−ブチルエーテル、ジプロピルエーテル、ジブチルエーテル、1,4−ジオキサン、テトラヒドロフランから選ばれる1種または多種であり、例えば、1,4−ジオキサンであり、
上記アルカン系溶媒は、C6−10直鎖または分岐鎖アルカンで良く、好ましくはn−ヘプタンであり、
上記エーテル系溶媒とアルカン系溶媒との混合溶媒において、エーテル系溶媒とアルカン系溶媒との体積比は、好ましくは1:1〜1:4であり、例えば1:3〜1:4であり、例えば、体積比が1:4或は1:3の1,4−ジオキサンとn−ヘプタンとの混合溶媒を使い、
好ましくは、上記化合物1の質量(g)と混合溶媒の体積(mL)との比は、1:5〜100で良く、好ましくは1:5〜30であり、例えば1:5〜10であり、
上記撹拌は0−40℃で行って良く、例えば15−35℃であり、例えば20−25℃で行う、請求項3に記載の結晶形Vの製造方法。 - 化合物1を、1,4−ジオキシ溶媒中に溶解させて透明な溶液が得られ、撹拌しながら当該透明な溶液中にアルカン系溶媒を加え(例えば滴下)、撹拌することで結晶形VIが得られるステップを含み、
そのうち、上記アルカン系溶媒はC6−10直鎖または分岐鎖アルカンで良く、好ましくはn−ヘプタンであり、
本発明により、上記化合物1の質量(g)と1,4−ジオキサンの体積(mL)との比は、1:2〜50で良く、好ましくは1:5〜20であり、より好ましくは1:5〜10であり、
上記1,4−ジオキサンとアルカン系溶媒との体積(mL)比は1:4〜1:8であり、例えば体積(mL)比が1:4、1:5、1:6、1:7または1:8の1,4−ジオキサンとn−ヘプタンとの混合物を使い、
上記撹拌は0−60℃で行って良く、例えば15−55℃、25−50℃で行う、請求項4に記載の結晶形VIの製造方法。 -
請求項2に記載の結晶形IVを加熱してから、冷却することで結晶形VIIを得るステップを含み、
好ましくは、上記の加熱温度は80℃以上で良く、例えば100−150℃であり、
上記加熱時間は、5−50分間であり、
例えば、105℃で加熱し、30分間維持するか、または120℃で加熱し、20分間維持して、
上記加熱は、好ましくは不活性雰囲気下で行い、例えば窒素ガス雰囲気で行い、
上記冷却温度は、0−30℃で良い、請求項5に記載の結晶形VIIの製造方法。
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