JP2012501073A5 - - Google Patents

Claims (16)

1. 極端紫外線を反射するように構成されたスペクトル純度フィルタであって、
   基板と、
   前記基板の上面上の反射防止コーティングであって、赤外放射を透過させるように構成された反射防止コーティングと、
   極端紫外線を反射し、かつ赤外放射を実質的に透過させるように構成された多層スタックと、を含む、スペクトル純度フィルタ。
2. 前記多層スタックはモリブデンを含まない、請求項１に記載のスペクトル純度フィルタ。
3. 前記多層スタックの上面上のキャッピング層をさらに含み、前記キャッピング層は、Ｓｉ_３Ｎ_４、ダイヤモンド、およびカーボンから成る群から選択される少なくとも１つの材料を含む、請求項１〜２のいずれかに記載のスペクトル純度フィルタ。
4. 前記基板は、ＳｉＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３、Ｓｉ、およびＴａＮから成る群から選択される少なくとも１つの材料を含む、請求項１〜３のいずれかに記載のスペクトル純度フィルタ。
5. 前記基板は、
   前記反射防止コーティングから受けた前記赤外放射を実質的に吸収し、または
   前記反射防止コーティングから受けた前記赤外放射を実質的に透過させるように構成される、請求項１〜４のいずれかに記載のスペクトル純度フィルタ。
6. 前記反射防止コーティングは、Ｇｅ、ＺｎＳｅ、ＺｎＳ、ＹＦ_３、およびＴｈＦ_４から成る群から選択される少なくとも１つの材料を含む、請求項１〜５のいずれかに記載のスペクトル純度フィルタ。
7. 前記反射防止コーティングは、第１層および第２層を含み、前記第１層はＺｎＳｅを含み、前記第２層はＴｈＦ_４を含む、請求項１〜６のいずれかに記載のスペクトル純度フィルタ。
8. 前記多層スタックは、ＺｒＮ、ＺｒＣ、Ｍｏ_２Ｃ、Ｓｉ、Ｃ、およびダイヤモンドライクカーボンから成る群から選択される少なくとも１つの材料を含む、請求項１〜７のいずれかに記載のスペクトル純度フィルタ。
9. 前記多層スタックは、Ｓｉおよびダイヤモンドライクカーボンの交互層を含む、請求項８に記載のスペクトル純度フィルタ。
10. 前記多層スタックは、赤外放射に対して実質的に無反射の複数の拡散バリア層を含む、請求項１〜９のいずれかに記載のスペクトル純度フィルタ。
11. 前記拡散バリア層はＢ_４Ｃを含む、請求項１０に記載のスペクトル純度フィルタ。
12. 前記基板の前記反射防止コーティングと反対側の面に位置する受け板をさらに含み、前記受け板は熱を前記基板から遠ざけて伝達するように構成かつ配置される、請求項１〜１１のいずれかに記載のスペクトル純度フィルタ。
13. 前記基板は赤外放射を透過させる、請求項１〜１１のいずれかに記載のスペクトル純度フィルタ。
14. 前記基板の前記反射防止コーティングと反対側の面に位置する第２反射防止コーティングをさらに含み、前記第２反射防止コーティングは赤外放射を実質的に透過させる、請求項１３に記載のスペクトル純度フィルタ。
15. 請求項１〜１４のいずれかに記載のスペクトル純度フィルタを含む、リソグラフィ装置。
16. 請求項１〜１４のいずれかに記載のスペクトル純度フィルタを含む、放射源。