JP2012242482A - 光走査装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】光走査装置の製造方法は、金型に形成される複数のキャビティC1,C2,・・・で成形される複数の走査レンズの副走査倍率の目標値からのズレ量(β2’/β2)をキャビティ毎に予め把握しておく工程と、各キャビティで成形した複数の走査レンズを前記ズレ量に応じて分類する工程と、前記複数の発光点の副走査方向におけるピッチPs’がキャビティ毎のズレ量の分類に応じた値となる複数種類のマルチビームユニットを予め用意しておく工程と、各発光点から感光面上に結像された複数の像のピッチが目標値となるように、前記走査レンズおよび前記マルチビームユニットを組み合わせて前記筐体に固定する工程と、を備える。
【選択図】図6
Description
ここで、マルチビームユニットは、光を出射する発光点を複数有するマルチビーム光源と、当該マルチビーム光源を支持する支持フレームとを有する。また、偏向器は、反射面を有して当該反射面で光を偏向し、入射光学系は、各発光点から出射される光を前記偏向器の反射面に複数の光線として導く。また、走査レンズは、前記偏向器で偏向される複数の光線を感光面上で少なくとも副走査方向に結像させる。
そして、本発明に係る光走査装置の製造方法は、金型に形成される複数のキャビティで成形される複数の走査レンズの副走査倍率の目標値からのズレ量をキャビティ毎に予め把握しておく工程と、各キャビティで成形した複数の走査レンズを前記ズレ量に応じて分類する工程と、前記複数の発光点の副走査方向におけるピッチが前記キャビティ毎のズレ量の分類に応じた値となる複数種類のマルチビームユニットを予め用意しておく工程と、前記各発光点から感光面上に結像された複数の像のピッチが目標値となるように、前記走査レンズおよび前記マルチビームユニットを組み合わせて前記筐体に固定する工程と、を備えている。
ここで、β1は、入射光学系(コリメートレンズ42およびシリンドリカルレンズ44)の副方向倍率であり、β2は、補正レンズ48の副方向倍率である。β1,β2は、以下の式で表される。
β2=Ds/δs ・・・(3)
(δs:ポリゴンミラー45の反射面上での各像の副走査方向におけるピッチ)
に合わせた値Ps’に各発光点L1,L2のピッチを調整して、各像I1,I2のピッチを目標値Dsにする必要がある。
Ps’・β2’=Ps・β2 ・・・(5)
Ps’/Ps=β2/β2’ ・・・(6)
Ps’=P・sin(θ+δθ) ・・・(8)
(P:発光点L1,L2の光軸間距離、δθ:マルチビーム光源41の角度の目標値θからのズレ量)
Ps’=P・sin(θ+δθ)≒P(sinθ・cosδθ+cosθ・sinδθ)≒P(sinθ+cosθ・δθ) ・・・(9)
Ps’/Ps=1+δθ/tanθ ・・・(10)
1+δθ/tanθ=β2/β2’ ・・・(11)
δθ=tanθ・(β2/β2’−1) ・・・(12)
次に、光走査装置40の製造方法について説明する。
図5に示すように、まず、金型10に形成される複数のキャビティC1,C2,C3,C4で複数の補正レンズ48を成形し、成形された複数の補正レンズ48の副走査倍率の目標値からの比β2’/β2をキャビティC1,C2,C3,C4毎に予め把握しておく。なお、金型10を複数使用する場合には、各金型10のキャビティC5,C6,・・・毎に、比β2’/β2を把握しておく。
40 光走査装置
40A 筐体
41 マルチビーム光源
42 コリメートレンズ
43 反射ミラー
44 シリンドリカルレンズ
45 ポリゴンミラー
46 fθレンズ
47 反射ミラー
48 補正レンズ
51 感光ドラム
100 マルチビームユニット
110 支持フレーム
400 入射光学系モジュール
C1 キャビティ
I1,I2 像
L1,L2 発光点
Claims (5)
- 光を出射する発光点を複数有するマルチビーム光源と、当該マルチビーム光源を支持する支持フレームとを有するマルチビームユニットと、
反射面を有して当該反射面で光を偏向する偏向器と、
各発光点から出射される光を前記偏向器の反射面に複数の光線として導く入射光学系と、
前記偏向器で偏向される複数の光線を感光面上で少なくとも副走査方向に結像させる走査レンズと、
複数色に対応した数の前記マルチビームユニット、前記偏向器、前記入射光学系および前記走査レンズが固定される筐体と、を備えた光走査装置の製造方法において、
金型に形成される複数のキャビティで成形される複数の走査レンズの副走査倍率の目標値からのズレ量をキャビティ毎に予め把握しておく工程と、
各キャビティで成形した複数の走査レンズを前記ズレ量に応じて分類する工程と、
前記複数の発光点の副走査方向におけるピッチが前記キャビティ毎のズレ量の分類に応じた値となる複数種類のマルチビームユニットを予め用意しておく工程と、
前記各発光点から感光面上に結像された複数の像のピッチが目標値となるように、前記走査レンズおよび前記マルチビームユニットを組み合わせて前記筐体に固定する工程と、を備えることを特徴とする光走査装置の製造方法。 - 光を出射する発光点を複数有するマルチビーム光源と、当該マルチビーム光源を支持する支持フレームとを有するマルチビームユニットと、
反射面を有して当該反射面で光を偏向する偏向器と、
各発光点から出射される光を前記偏向器の反射面に複数の光線として導く入射光学系と、
前記偏向器で偏向される複数の光線を感光面上で少なくとも副走査方向に結像させる走査レンズと、
複数色に対応した数の前記マルチビームユニット、前記偏向器、前記入射光学系および前記走査レンズが固定される筐体と、を備えた光走査装置の製造方法において、
金型に形成される複数のキャビティで成形される複数の走査レンズの副走査倍率の目標値からのズレ量をキャビティ毎に予め把握しておく工程と、
各キャビティで成形した複数の走査レンズを前記ズレ量に応じて分類する工程と、
前記マルチビームユニットと前記入射光学系の少なくとも一部とを一体化して1つの入射光学系モジュールにする工程と、
前記複数の発光点の副走査方向におけるピッチが前記キャビティ毎のズレ量の分類に応じた値となる複数種類の入射光学系モジュールを予め用意しておく工程と、
前記各発光点から感光面上に結像された複数の像のピッチが目標値となるように、前記走査レンズおよび前記入射光学系モジュールを組み合わせて前記筐体に固定する工程と、を備えることを特徴とする光走査装置の製造方法。 - 前記走査レンズに、ズレ量を識別するためのズレ量識別情報を付与する工程を備えたことを特徴とする請求項1または請求項2に記載の光走査装置の製造方法。
- 前記マルチビームユニットに、前記複数の発光点の副走査方向におけるピッチを識別するためのピッチ識別情報を付与する工程を備えたことを特徴とする請求項1〜請求項3のいずれか1項に記載の光走査装置の製造方法。
- 前記ズレ量識別情報は、金型での成形時に前記走査レンズに刻印されるキャビティナンバーであることを特徴とする請求項3に記載の光走査装置の製造方法。
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