JP2003057582A - マルチビーム発光装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】汎用の半導体レーザを使用しつつ光量の低下が
少なく鮮明な画像を得ることができるマルチビーム発光
装置を提供する。 【解決手段】第１の半導体レーザ１１ａ及び第２の半導
体レーザ１１ｂから出射された第１のビーム及び第２の
ビームについて、第１のコリメートレンズ１３ａと第２
のコリメートレンズ１３ｂを通過させ、所定のビーム間
距離が設けられた互いに平行な平行光束とするととも
に、これらの平行光束をビーム間距離調整レンズ１４に
より屈折等させ、ビーム間距離が縮小された互いに平行
な平行光束とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、ディジタル複写
機、レーザプリンタ等における画像形成処理に用いられ
る、同時に複数の光ビームによる露光等が可能なマルチ
ビーム発光装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、ディジタル複写機、レーザプリン
タ、レーザファクシミリ等の電子写真方式を用いた画像
形成装置の露光手段等に用いられる発光装置として、記
録速度を向上させるために、複数の光ビームを走査する
ことにより複数ラインを同時に記録するマルチビーム発
光装置が提案されている。

【０００３】ところが、一般に用いられている半導体レ
ーザ等の光源は、複数ラインを同時に走査するために用
いることを意図しておらず、十分にコンパクト化が図ら
れていないことが多いため、並設するにあたって十分に
近接して配置することができない。したがって、一般の
光源を複数並設した場合には、各ビーム間の距離は必要
以上に拡がってしまう。

【０００４】このため、汎用の半導体レーザ等をマルチ
ビーム発光装置に適用するときには、そのビーム間距離
を近接させる必要があった。

【０００５】そこで、複数のビーム間距離を近接させる
ための手段として、ハーフミラーやプリズム等がマルチ
ビーム発光装置に用いられたり、小型の特殊な半導体レ
ーザが用いられることがあった。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、複数の
ビーム間距離を近接させる手段としてハーフミラーやプ
リズムを用いる場合では、構造が複雑になり高度の取り
付け精度が必要となる。このため、ビーム間距離を近接
させる手段を適用した後の光ビームの検出が必要となる
ことが多く、この検出により照射されるべき光量が低下
したり、光ビームの位置がずれて、感光体上における結
像位置がずれたり、ビームスポットが変形等して、鮮明
な画像を得ることができないことがあった。

【０００７】また、複数のビーム間距離を近接させる手
段として小型の特殊な半導体レーザを用いる場合では、
コスト高となり、さらに高度の取り付け精度を必要とす
るため実用化が難しかった。

【０００８】この発明の目的は、汎用の半導体レーザを
使用しつつ光量の低下が少なく鮮明な画像を得ることが
できるマルチビーム発光装置を提供することである。

【０００９】

【課題を解決するための手段】この発明は以下の構成を
備えている。

【００１０】（１）拡散光を照射する光源を複数備えた
マルチビーム発光装置において、前記複数の半導体レー
ザからの光ビームを互いに平行な平行光束にするコリメ
ートレンズを該複数の半導体レーザのそれぞれに対向す
る位置に個別に設けるとともに、各コリメートレンズを
通過した各光ビーム間の距離を任意の量だけ近接させる
ビーム間距離調整手段を備えたことを特徴とする。

【００１１】この構成においては、複数の半導体レーザ
等の光源からの光ビームのそれぞれを互いに平行な平行
光束にすべく、コリメートレンズが該複数の半導体レー
ザのそれぞれに対向する位置に個別に設けられるととも
に、各コリメートレンズを通過した各平行光束間の距離
を任意の量だけ近接させるビーム間距離調整手段が備え
られる。したがって、ビーム間距離調整手段により光ビ
ーム間の距離の調整がされる光ビームは、該コリメート
レンズによって互いに平行な状態となっているため、該
コリメートレンズとビーム間距離調整手段との距離に影
響されることなく、簡易な構成で確実に所望の量だけの
該光ビーム間の距離が近接される。

【００１２】（２）前記近接されるべき任意の量は、形
成される画像の解像度のピッチに対応して設定されるこ
とを特徴とする。

【００１３】この構成においては、前記近接されるべき
任意の量は、形成される画像の解像度のピッチに対応す
るように設定されることから、ビーム間の距離の調整が
された複数の光ビームにより、感光体表面において形成
すべき画像の解像度のピッチに適合した数ライン分の露
光が行われることになるため、光ビームの制御が容易に
なり、形成される画像の精度の低下が防止される。

【００１４】（３）前記コリメートレンズ及び前記ビー
ム間距離調整手段を同一の支持部材に取り付けたことを
特徴とする。

【００１５】この構成においては、前記コリメートレン
ズ及び前記ビーム間距離調整手段を同一の支持部材に取
り付けたことから、該コリメートレンズ及び該ビーム間
距離調整手段の発光装置への取り付けが容易になるとと
もに、これらの部材の互いに配置されるべき位置からの
位置ズレを生じることが防止される。

【００１６】（４）前記ビーム間距離調整手段を第１の
支持部材に取り付け、前記コリメートレンズを第２の支
持部材に取り付けるとともに、第１の支持部材に対して
第２の支持部材を光ビームの光軸方向に移動自在にした
ことを特徴とする。

【００１７】この構成においては、前記ビーム間距離調
整手段を第１の支持部材に取り付け、前記コリメートレ
ンズを第２の支持部材に取り付けるとともに、第１の支
持部材に対して第２の支持部材を光ビームの光軸方向に
移動自在にしたことから、第１支持部材を装置に固定し
た状態で第２の支持部材を第１の支持部材に対して移動
させるとコリメートレンズと半導体レーザとの距離が自
在に調整されることになるため、該コリメートレンズを
通過後の平行光束の幅が任意に調整される。

【００１８】（５）前記ビーム間距離調整手段は、入射
面及び出射面が入射側に凸状の球状面となるビーム間距
離調整レンズであることを特徴とする。

【００１９】この構成においては、前記ビーム間距離調
整手段は、入射面及び出射面が入射側に凸状の球状面と
なるビーム間距離調整レンズであることから、ビーム間
の距離を調整する際における光量の低下が微少に抑えら
れ、鮮明な画像が得られる。

【００２０】

【発明の実施の形態】以下、図を用いて本発明の実施形
態を説明する。

【００２１】図１は、本発明のマルチビーム発光装置１
の構成を示している。

【００２２】同図（ａ）及び（ｂ）に示すマルチビーム
発光装置１ａ及び１ｂは、ビーム照射手段（露光手段）
として、２つの半導体レーザ１１から複数の反射面Ｒを
回転方向に有する回転多面鏡１２に向かって照射される
光ビーム（以下、入射ビームＬ１という。）を、回転多
面鏡１２の反射面Ｒで反射して形成した光ビーム（以
下、出射ビームＬ２という。）により感光体２を露光す
る装置である。

【００２３】このマルチビーム発光装置１において、半
導体レーザ１１から回転多面鏡１２までの光路（以下、
入射ビーム光路という。）と、回転多面鏡１２から感光
体２までの光路（以下、出射ビーム光路という。）に
は、後述する種々の光学部品が配置されている。

【００２４】ここで便宜上、入射ビーム光路に配置され
ている光学部品を入射光学系、出射ビーム光路に配置さ
れている光学部品を出射光学系とする。

【００２５】入射光学系は、半導体レーザ１１から射出
された入射ビームＬ１を回転多面鏡１２に導くととも
に、入射ビームＬ１の断面形状が回転多面鏡１２の各反
射面Ｒの幅よりも広い矩形状となるように入射ビームＬ
１を成形する。

【００２６】この入射ビーム光路の、２つの半導体レー
ザ１１から回転多面鏡１２に向かう順に、射出された光
ビームを平行光束に変換するための２つのコリメートレ
ンズ１３（１３ａ、１３ｂ）、コリメートレンズ１３か
ら出射される２つのビーム間距離を調整するビーム間距
離調整手段としてのビーム間距離調整レンズ１４、光ビ
ームを走査方向に拡大する凹レンズ１５、略中央部に矩
形状の開口が設けられた板状部材により構成された開口
板１６、母線に垂直に入射する光を収束するシリンドリ
カルレンズ１７、入射ビームＬ１を回転多面鏡１２へと
導く入射折り返しミラー１８、及び回転多面鏡１２で等
角度走査された光ビームを感光体２上で等速走査等させ
る１対のｆθレンズ１９が配列されている。

【００２７】また、出射光学系は、回転多面鏡１２の反
射面Ｒにより反射された出射ビームＬ２を回転多面鏡１
２から感光体２に導くとともに、感光体２上を照射した
際のビームスポット（Ｑ１〜Ｑ３）の範囲が所定の大き
さとなり、感光体２上を等速度で移動するように作用す
る。

【００２８】前記出射ビーム光路の、回転多面鏡１２か
ら感光体２に向かう順に、ｆθレンズ１９、出射折り返
しミラー２０及び回転多面鏡の面倒れ補正を行うシリン
ドリカルミラー２１が配列されている。

【００２９】この構成において、光ビームは、入射折り
返しミラー１８によって進行方向を変えられて、ｆθレ
ンズ１９の端部に斜め下方から上方に向かって通過し、
回転多面鏡１２の反射面Ｒの高さ方向中央域に照射され
る。また、出射ビームＬ２はｆθレンズ１９に斜め下方
から上方に向かって通過し、出射折り返しミラー２０と
シリンドリカルミラー２１に反射されて感光体２に導か
れる。

【００３０】このとき、出射ビームＬ２は、入射ビーム
Ｌ１が反射される回転多面鏡の反射面Ｒにおける回転方
向の位置により、異なる光路を通って感光体２に至るこ
とになる。

【００３１】ここで、出射ビームＬ２のうちで、感光体
の画像形成に使用される幅、すなわち、主走査ラインを
走査するために出射ビームＬ２（以下、主走査ビームと
いう。）が走査される際に通過する空間領域を主走査ラ
インＡとする。

【００３２】出射ビームＬ２が感光体２を走査する仕方
は、出射ビームＬ２が主走査ラインを定期的に走査する
一方で、感光体２が回転するので、光ビームは感光体２
上において一定時間毎に異なる場所を走査することにな
る。

【００３３】図２は、入射ビーム経路及び出射ビーム経
路を直線上に示している。同図（ａ）は、出射ビームＬ
２の光軸が走査の際に形成する平面（以下、走査平面と
いう。）に垂直な方向からみた平面図であり、同図
（ｂ）は、走査平面に平行な方向から見た側面図であ
る。

【００３４】なお、出射ビームＬ２は、回転多面鏡の反
射面Ｒにおける回転方向の位置により反射方向が異なる
ので、その光軸も反射面Ｒの回転に伴って変わるが、図
中の出射ビームＬ２の光軸は、ｆθレンズ１９の中央を
通って感光体２の主走査ラインのセンターに至る主走査
ビームの光軸を表している。

【００３５】同図（ａ）及び（ｂ）において、半導体レ
ーザ１１から略円錐状に出射された入射ビームＬ１は、
それぞれコリメートレンズ１３により平行光束に変換さ
れる。このとき、互いに平行な平行光束となった入射ビ
ームＬ１の光軸に垂直な断面の形状は略円形となる。

【００３６】この後、互いに平行なそれぞれの入射ビー
ムＬ１は、ビーム間距離調整レンズ１４によりビーム間
隔が近づけられることになるが、これについての詳細
は、後述する。ビーム間距離調整レンズ１４を通過した
光ビームは、凹レンズ１５によって拡散されて、光軸に
垂直な断面が略円形状の拡散ビームとなり、開口板１６
に設けた開口を通過し、断面が略円形状から矩形状とな
る。

【００３７】その後、入射ビームＬ１は、シリンドリカ
ルレンズ１７に入射し、シリンドリカルレンズ１７の母
線に平行な方向にはそのまま拡散を続け、母線に垂直な
方向には収束する。

【００３８】さらに、入射ビームＬ１は、ｆθレンズ１
９の端部を通過して、ｆθレンズ１９により、走査平面
に平行なビームとされて回転多面鏡１２の反射面Ｒに、
走査平面に平行なビームとして入射する。

【００３９】また、図２（ｂ）に示すように、入射ビー
ムＬ１は、ｆθレンズ１９に斜め下方から斜め上方に向
かって入射して、回転多面鏡１２の反射面Ｒに収束ビー
ムの状態で入射する。このとき、入射ビームＬ１が収束
する収束線は、回転多面鏡の反射面Ｒにおける高さ方向
の中央近傍に位置することになる。

【００４０】入射ビームＬ１は、その光軸に垂直な形状
が、回転多面鏡１２の反射面Ｒにおける回転方向の幅よ
りも大きく、細長い矩形状に成形されたビームとなって
おり、反射面Ｒの１つが回転するにつれて、入射ビーム
Ｌ１の異なる部分が反射されて、それぞれ異なる方向に
向かう出射ビームＬ２が形成される。

【００４１】回転多面鏡１２の反射面Ｒにより、反射さ
れて形成された出射ビームＬ２は、走査面に平行な方向
では平行光束のままで、一方、走査面に垂直な方向では
収束線を通過後に拡散ビームとなってｆθレンズ１９に
入射される。

【００４２】そして、出射ビームＬ２は、斜め下方から
斜め上方に向かってｆθレンズ１９ｂを通過し、走査面
に平行な方向では、感光体２表面で収束するビームとな
り、走査面に垂直な方向では、拡散ビームとなる。

【００４３】その後、出射ビームＬ２のうち、主走査ビ
ームとなる出射ビームＬ２は、出射折り返しミラー２０
及びシリンドリカルミラー２１に反射されて感光体２に
向かう。

【００４４】シリンドリカルミラー２１により反射され
た出射ビームＬ２は、走査面に平行な方向では、２ライ
ン分の光ビームとなり、走査面に垂直な方向では、感光
体２上で収束する収束ビームとなる。

【００４５】以上のようにして、出射ビームＬ２は、感
光体２上に所定の大きさのビームスポット（Ｑ１〜Ｑ
３）を結ぶことになる。

【００４６】なお、ｆθレンズ１９は、上述した役割の
他に、回転多面鏡１２の当角速度運動により、等角速度
で移動する出射ビームＬ２が、感光体２上に照射された
際に、ビームスポット（Ｑ１〜Ｑ３）が主走査ライン上
で等線速度に移動するように変換する役割も担ってい
る。

【００４７】次に、図３及び図４を用いて本発明のビー
ム間距離調整手段について、説明する。ここでマルチビ
ーム発光装置１において光軸方向に対応する方向をＸ方
向、主走査方向に対応する方向をＹ方向、副走査方向に
対応する方向をＺ方向とする。

【００４８】図３（ａ）は、半導体レーザ１１（１１
ａ、１１ｂ）、コリメートレンズ１３（１３ａ、１３
ｂ）、及びビーム間距離調整レンズ１４の主走査方向
（Ｙ方向）における断面図である。

【００４９】図３（ｂ）は、半導体レーザ１１（１１
ａ、１１ｂ）、コリメートレンズ１３（１３ａ、１３
ｂ）、及びビーム間距離調整レンズ１４の副走査方向
（Ｚ方向）における断面図である。

【００５０】図４は、図３（ａ）におけるＡ−Ａ断面図
である。

【００５１】図３及び図４に示すように、マルチビーム
発光装置１に設けられた第１の半導体レーザ１１ａ及び
第２の半導体レーザ１１ｂとして、汎用のレーザダイオ
ード等が用いられ、発光装置の副走査方向（Ｚ方向）に
所定の間隔を設けて並設されている。

【００５２】また、半導体レーザ１１ａ及び１１ｂから
射出される第１及び第２のビームに対応して、第１のコ
リメートレンズ１３ａ及び第２のコリメートレンズ１３
ｂが半導体レーザ１１ａ及び半導体レーザ１１ｂに対向
する位置に配置されている。そして、第１のコリメート
レンズ１３ａ及び第２のコリメートレンズ１３ｂから出
射される光ビームのビーム間距離を調整するビーム間距
離調整レンズ１４が、第１のコリメートレンズ１３ａ及
び第２のコリメートレンズ１３ｂから間隔を設けて配置
されている。

【００５３】ここで、第１のコリメートレンズ１３ａ、
第２のコリメートレンズ１３ｂ、及びビーム間距離調整
レンズ１４とは、支持部材としてのレンズ鏡筒２２に固
定されている。

【００５４】図３（ａ）に示すように、コリメートレン
ズ１３（１３ａ、１３ｂ）によって平行光束とされた光
ビームのビーム間距離をＤとすると、ビーム間距離調整
レンズ１４を通過した光ビームのビーム間距離ｄがｄ＜
Ｄとなるようにビーム間距離調整レンズ１４を配置すれ
ば、ビーム間距離を近接させることができることにな
る。

【００５５】すなわち、第１の半導体レーザ１１ａから
出射された第１のビームは、第１のコリメートレンズ１
３ａを通過することにより平行光束とされ、図５に示す
ように、ビーム間距離調整レンズ１４の入射面の点Ｐ１
において、入射角α１で入射し、屈折角β１で屈折す
る。さらに、ビーム間距離調整レンズ１４の出射面の点
Ｐ２において、入射角α２で入射し、屈折角β２で出射
することになる。

【００５６】ここで、入射角と屈折角は、 入射角α１＝屈折角β２、屈折角β１＝入射角α２ となる。

【００５７】したがって、ビーム間距離調整レンズ１４
内を通過する距離（Ｐ１とＰ２との距離）をＴ、平行光
束が副走査方向（Ｚ方向）の中央側にシフト（近接）す
る距離をＸとすると、 Ｘ＝Ｔ×ｓｉｎ（β２−α２） ＝Ｔ×ｓｉｎ（α１−β１） となる。

【００５８】さらに、空気の屈折率をＮａ、ビーム間距
離調整レンズ１４の屈折率をＮｂとした場合に、スネル
の法則より、 Ｎａ・ｓｉｎα１＝Ｎｂ・ｓｉｎβ１ Ｎａ・ｓｉｎβ２＝Ｎｂ・ｓｉｎα２ となる。

【００５９】これにより、ビーム間距離調整レンズ１４
の屈折率Ｎ_b 及びレンズの通過する距離Ｔに基づく距離
Ｘだけそれぞれの光ビームを近接させることができる。

【００６０】したがって、ビーム間距離調整レンズ１４
を通過したビーム間距離（ｄ）は、 ｄ＝Ｄ−２Ｘ となり、第１のコリメートレンズ１３ａ及び第２のコリ
メートレンズ１３ｂを通過後であってビーム間距離調整
レンズ１４を通過前のビーム間距離Ｄに対し、ビーム間
距離調整レンズ１４を通過後のビーム間距離ｄは、２Ｘ
だけ縮小されていることになる。

【００６１】このとき、ビーム間距離ｄは、画像形成装
置の解像度ピッチに対応して設定される。例えば、解像
度４００ｄｐｉにおいては、感光体の表面における走査
ビームの間隔が６３．５μｍ、解像度６００ｄｐｉにお
いては走査ビームの間隔が４２．３μｍ、解像度８００
ｄｐｉにおいては走査ビームの間隔が３１．８μｍとな
るように、前記光ビームの間隔ｄが設定される。

【００６２】なお、図３（ｂ）に示すように、感光体上
の主走査方向（Ｙ方向）においては、コリメートレンズ
を通過した２つの光ビームは、ビーム間距離調整レンズ
１４を通常どおり直進する。

【００６３】したがって、第１の半導体レーザ１１ａ及
び第２の半導体レーザ１１ｂから出射されたそれぞれの
光ビームは、第１のコリメートレンズ１３ａ及び第２の
コリメートレンズ１３ｂによってビーム間距離Ｄの平行
光とされ、ビーム間距離調整レンズ１４を通過すること
により、副走査方向（Ｚ方向）においてのみ、ビーム間
距離Ｄより小さい所定のビーム間距離ｄに変更されて出
力される。

【００６４】このビーム間距離調整レンズ１４から出射
されるそれぞれの光ビームは、マルチビーム発光装置１
に設けられた入射光学系及び出射光学系を介して、解像
度ピッチと対応した間隔をもって、感光体２表面を走査
する。

【００６５】なお、ビーム間距離調整レンズ１４のバリ
エーションとして、上記の単一のレンズに代えて、図６
に示す凸レンズ１４ａ及び凹レンズ１４ｂの組み合わせ
によって構成することもできる。

【００６６】また、コリメートレンズ１３の位置調整を
容易に行うために、図７（ａ）〜（ｃ）に示すように、
ビーム間距離調整レンズを第１の支持部材としてのレン
ズ鏡筒２２ａに固定し、第１のコリメートレンズ１３ａ
及び第２のコリメートレンズ１３ｂを第２の支持部材と
しての鏡筒２２ｂに固定し、さらに、鏡筒２２ｂを、レ
ンズ鏡筒２２ａの内面に沿って、ビームの光軸方向に移
動可能とする構成をとることができる。

【００６７】この構成において、鏡筒２２ｂを移動させ
ることにより、コリメートレンズ１３を光軸に沿って移
動させることができ、ビーム間距離Ｄ及びビーム間距離
ｄの関係を保持したまま、半導体レーザ１１とコリメー
トレンズ１３との距離を容易に調整することができ、コ
リメートレンズ１３通過後の平行光束の幅の調整するこ
とができる。

【００６８】

【発明の効果】以上のように、この発明によれば、以下
の効果を奏することができる。

【００６９】（１）複数の半導体レーザ等の光源からの
光ビームのそれぞれを互いに平行な平行光束にすべく、
コリメートレンズを該複数の半導体レーザのそれぞれに
対向する位置に個別に設けるとともに、各コリメートレ
ンズを通過した各平行光束間の距離を任意の量だけ近接
させるビーム間距離調整手段を備えたことから、ビーム
間距離調整手段により光ビーム間の距離の調整をする光
ビームを、該コリメートレンズによって互いに平行な状
態にできるため、該コリメートレンズとビーム間距離調
整手段との距離に影響されることなく、簡易な構成で確
実に所望の量だけの該光ビーム間の距離を近接させるこ
とができる。

【００７０】（２）前記近接されるべき任意の量を、形
成する画像の解像度のピッチに対応するように設定する
ことから、ビーム間の距離の調整がされた複数の光ビー
ムにより、感光体表面において形成すべき画像の解像度
のピッチに適合した数ライン分の露光を行うことがで
き、容易に光ビームの制御ができ、形成する画像の精度
の低下を防止することができる。

【００７１】（３）前記コリメートレンズ及び前記ビー
ム間距離調整手段を同一の支持部材に取り付けたことか
ら、該コリメートレンズ及び該ビーム間距離調整手段の
発光装置への取り付けを容易にできるとともに、これら
の部材について互いに配置されるべき位置からの位置ズ
レが生じることを防止することができる。

【００７２】（４）前記ビーム間距離調整手段を第１の
支持部材に取り付け、前記コリメートレンズを第２の支
持部材に取り付けるとともに、第１の支持部材に対して
第２の支持部材を光ビームの光軸方向に移動自在にした
ことから、第１支持部材を装置に固定した状態で第２の
支持部材を第１の支持部材に対して移動させるとコリメ
ートレンズと半導体レーザとの距離を自在に調整できる
ことになるため、該コリメートレンズを通過後の平行光
束の幅を任意に調整することができる。

【００７３】（５）前記ビーム間距離調整手段は、入射
面及び出射面が入射側に凸状の球状面となるビーム間距
離調整レンズであることから、ビーム間の距離を調整す
る際における光量の低下を微少に抑えることができ、鮮
明な画像を得ることができる。

【００７４】よって、汎用の半導体レーザを使用しつつ
光量の低下が少なく鮮明な画像を得ることができるマル
チビーム発光装置を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のマルチビーム発光装置の構成を示す図
である。

【図２】光ビームの経路を直線上に示す図である。

【図３】ビーム間距離調整手段の実施形態の構成を示す
図である。

【図４】ビーム間距離調整手段の実施形態の構成を示す
図である。

【図５】ビーム間距離調整レンズの構成を示す図であ
る。

【図６】ビーム間距離調整レンズのバリエーションの構
成を示す図である。

【図７】ビーム間距離調整手段の実施形態の構成を示す
図である。

【符号の説明】

１−マルチビーム発光装置 ２−感光体 １１（１１ａ、１１ｂ）−半導体レーザ １２−回転多面鏡 １３（１３ａ、１３ｂ）−コリメートレンズ １４−ビーム間距離調整レンズ １５−凹レンズ １６−開口板 １７−シリンドリカルレンズ １８−入射折り返しミラー １９−ｆθレンズ ２０−出射折り返しミラー ２１−シリンドリカルミラー ２２（２２ａ、２２ｂ）−レンズ鏡筒

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2C362 AA07 BA04 BA48 BA84 2H045 BA22 BA33 DA02 5C051 AA02 CA07 DA02 DB02 DB22 DB30 DC04 DC07 5C072 AA03 BA02 HA02 HA06 HA09 HA13 HA20 XA01 XA05

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】拡散光を照射する光源を複数備えたマルチ
   ビーム発光装置において、 前記複数の半導体レーザからの光ビームを互いに平行な
   平行光束にするコリメートレンズを該複数の半導体レー
   ザのそれぞれに対向する位置に個別に設けるとともに、
   各コリメートレンズを通過した各光ビーム間の距離を任
   意の量だけ近接させるビーム間距離調整手段を備えたこ
   とを特徴とするマルチビーム発光装置。
2. 【請求項２】前記近接されるべき任意の量は、形成され
   る画像の解像度のピッチに対応して設定されることを特
   徴とする請求項１に記載のマルチビーム発光装置。
3. 【請求項３】前記コリメートレンズ及び前記ビーム間距
   離調整手段を同一の支持部材に取り付けたことを特徴と
   する請求項１又は２に記載のマルチビーム発光装置。
4. 【請求項４】前記ビーム間距離調整手段を第１の支持部
   材に取り付け、前記コリメートレンズを第２の支持部材
   に取り付けるとともに、第１の支持部材に対して第２の
   支持部材を光ビームの光軸方向に移動自在にしたことを
   特徴とする請求項１又は２に記載のマルチビーム発光装
   置。
5. 【請求項５】前記ビーム間距離調整手段は、入射面及び
   出射面が入射側に凸状の球状面となるビーム間距離調整
   レンズであることを特徴とする請求項１〜４に記載のマ
   ルチビーム発光装置。