JP4400429B2 - レーザビームスキャナ - Google Patents
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(第1の実施形態)
図1は、本実施形態のレーザビームスキャナのうち、特徴部分(走査対象エリアまでの出射側)を示す概略構成図である。図2はレーザアレイの概略構成を示す平面図である。図3は光学系としてのレンズアレイの概略構成を示す図であり、(a)は平面図、(b)は(a)のA−A乃至B−B断面における断面図である。
次に、本発明の第2の実施形態を図4(a),(b)に基づいて説明する。図4は、本実施の形態におけるレーザビームスキャナを構成するレンズアレイ20の概略構成を示す図であり、(a)がA−A断面、(b)がB−B断面を示す。尚、図4(a),(b)におけるA−A断面及びB−B断面は、第1の実施形態で示した図3(a)のA−A断面及びB−B断面である。
11・・・レーザ光源
20・・・レンズアレイ(光学系)
21・・・レンズ(素子部)
21a・・・中心レンズ
30・・・レーザ光(レンズ前)
40・・・レーザ光(レンズ後)
41・・・光軸
50・・・プリズム(素子部)
52・・・フレネルレンズ(光学系)
Claims (13)
- 2次元に配置された複数のレーザ光源と、
複数の素子部を2次元且つ一体的に配置してなり、前記レーザ光源の前方に配置されて、複数の前記レーザ光源からのレーザ光が入射される光学系と、を備え、
複数の前記レーザ光源は、各レーザ光源から出射されたレーザ光の光軸方向が略同一となるように配置され、
複数の前記素子部は、複数の前記素子部の中心に位置する前記素子部の光軸方向が前記レーザ光の光軸方向と一致し、複数の前記素子部が2次元配置された平面に沿う少なくとも一方向において、前記レーザ光の光軸に対する前記素子部の光軸の傾きが、前記中心に位置する素子部から前記光学系の縁領域に向けて、前記素子部ごとに徐々に大きくなるように配置されていることを特徴とするレーザビームスキャナ。 - 複数の前記素子部を通して出射される各レーザ光は、その光軸方向が全て異なることを特徴とする請求項1に記載のレーザビームスキャナ。
- 前記レーザ光源から出射されたレーザ光が前記光学系を介して照射される走査対象エリアにおいて、前記走査対象エリアの照射面におけるビーム径は、前記光学系に入射される際の前記レーザ光のビーム径と略同等以上であることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載のレーザビームスキャナ。
- 複数の前記素子部は、前記レーザ光源からのレーザ光を、平行光若しくは発散光とすることを特徴とする請求項3に記載のレーザビームスキャナ。
- 複数の前記素子部は、少なくとも一部が同一平面上に配置されていることを特徴とする請求項1〜4いずれか1項に記載のレーザビームスキャナ。
- 複数の前記素子部の少なくとも一部は、凸レンズ又は凹レンズであることを特徴とする請求項1〜5いずれか1項に記載のレーザビームスキャナ。
- 複数の前記素子部の少なくとも一部は、プリズムであることを特徴とする請求項1〜6いずれか1項に記載のレーザビームスキャナ。
- 複数の前記素子部の少なくとも一部は、凸レンズ又は凹レンズとプリズムにより構成されることを特徴とする請求項1〜7いずれか1項に記載のレーザビームスキャナ。
- 複数の前記素子部の少なくとも一部は、その屈折率が他の素子部とは異なることを特徴とする請求項1〜6いずれか1項に記載のレーザビームスキャナ。
- 前記光学系は、フレネルレンズであることを特徴とする請求項1〜5いずれか1項に記載のレーザビームスキャナ。
- 複数の前記素子部は、複数の前記レーザ光源に対応して形成されていることを特徴とする請求項1〜10いずれか1項に記載のレーザビームスキャナ。
- 複数の前記レーザ光源は、一体的に形成されていることを特徴とする請求項1〜11いずれか1項に記載のレーザビームスキャナ。
- 複数の前記レーザ光源は、単一の半導体基板上に形成されていることを特徴とする請求項12に記載のレーザビームスキャナ。
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