JP3450579B2 - 走査光学系及びそれを有する画像形成装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は走査光学系及びそれ
を有する画像形成装置に関し、特に装置全体の小型化を
図りつつ複数のレーザ光（光ビーム）を用いて被走査面
上の異なる位置を同時に光走査し、画像情報の形成を行
なうようにした走査光学系（マルチビーム走査光学系）
及びそれを有する画像形成装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】図６は従来の走査光学系の光偏向器の回
転軸を含む副走査方向の要部断面図（副走査断面図）で
ある。

【０００３】同図において光源手段を構成するレーザ発
光部６２から放射したレーザ光（光ビーム）はコリメー
ターレンズ６３により略平行なレーザ光となり、副走査
方向にのみ所定の屈折力を有するシリンドリカルレンズ
６１に入射している。シリンドリカルレンズ６１に入射
した平行なレーザ光のうち主走査断面においては、その
まま平行なレーザ光の状態で射出している。又副走査断
面においては集束してポリゴンミラーから成る光偏向器
６４の偏向面（反射面）６４ａ近傍にほぼ線像として結
像している。このときレーザ光は副走査断面内で偏向面
６４ａに対して垂直入射している。そして光偏向器６４
の偏向面６４ａで偏向されたレーザ光は結像光学系（不
図示）を介して被走査面（不図示）上に導光され、該光
偏向器６４を矢印Ａ方向に回転させることにより、該被
走査面上を主走査方向に光走査して画像情報の記録を行
なっている。このように副走査方向で光偏向器６４近く
に集光する方式は倒れ補正光学系と一般に呼ばれてい
る。

【０００４】一方、被走査面である感光体面（像面）上
の異なる複数の領域に複数のレーザ発光部から放射され
た複数のレーザ光を用いて同時に露光し、複数の色の画
像を得るようにしたマルチビーム走査光学系が種々と提
案されている。

【０００５】このようなマルチビーム走査光学系におい
て複数のレーザ光を用いて感光体面上の異なる複数の位
置に、該複数のレーザ光を照射させる場合には、従来以
下に示す方法が採られていた。

【０００６】複数の走査光学系を用いる。

【０００７】単一の光偏向器の偏向面に複数の異なる
波長のレーザ光を入射させ、該光偏向器で偏向させた
後、光路分離を色分解（波長分離）により行なう。

【０００８】単一の光偏向器に複数の同じ波長のレー
ザ光を入射させ、該光偏向器で偏向させた後、光路分離
を空間分離により行なう。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記に示
した方法は複数の走査光学系を必要とし、これは大き
なスペースを必要し、かつ装置全体の大型化やコストア
ップにつながるという問題点がある。又上記に示した方
法は複数の異なる波長のレーザ光や色分解する為の大
型のダイクロイックミラーを必要とし、又像面に設けら
れる受光体（感光体）の分光感度分布によって使用でき
るレーザ光の波長が限られてしまうという問題点があ
る。

【００１０】それに対して上記に示した方法は単一の
光偏向器に１種類のレーザ発光部（レーザ光源）を複数
個用いるので、上記に示した方法，に比べてメリッ
トが大きい。

【００１１】ところでこの方法の光路分離を空間分離
を利用して行なう場合、光偏向器（ポリゴンミラー）の
偏向面に対して複数のレーザ光を斜入射させる必要があ
る。例えば図６に示したレーザ発光部６２、コリメータ
ーレンズ６３そしてシリンドリカルレンズ６１等を有す
る入射光学系６０を図７に示すように光偏向器６４の偏
向面６４ａに対して副走査方向に斜めに配置することに
よって、２つのレーザ光を該偏向面６４ａに斜入射させ
ることができる。

【００１２】しかしながらこの方法ではレーザ発光部
６２ａ，６２ｂ、コリメーターレンズ６３ａ，６３ｂそ
してシリンドリカルレンズ６１ａ，６１ｂ等の各光学要
素が副走査方向に干渉しないように、例えば２つのレー
ザ発光部６２ａ，６２ｂ間や２つのコリメーターレンズ
６３ａ，６３ｂ間等のスペースをかなり広く採る必要が
あり、この為装置全体の小型化を図る上で大きな障害と
なっていた。

【００１３】一方、複数のレーザ発光部を副走査方向に
パラレル（平行）に配設し、該複数のレーザ発光部から
放射したレーザ光を光偏向器の偏向面に対してパラレル
に入射させ、空間分離を行なう方法もある。

【００１４】しかしながらこの方法の場合、光偏向器の
受光部（偏向面）を副走査方向に大きくする必要が生
じ、その結果、該光偏向器が大型化になると共に該光偏
向器を駆動する駆動系の負荷も増大してしまうという問
題点があった。

【００１５】本発明は複数のコリメートレーザ光源部と
光偏向器との間の光路中に設けた正の屈折力の光学素子
を有する斜入射光学系の光軸を該コリメートレーザ光源
部の光軸に対して平行シフト（偏心）させることによ
り、装置全体の小型化を図りつつ、複数のレーザ光で被
走査面上を同時に光走査することができる走査光学系及
びそれを有する画像形成装置の提供を目的とする。

【００１６】

【課題を解決するための手段】請求項１の発明の走査光
学系は、複数のコリメートレーザ光源部から射出される
複数のレーザ光を斜入射光学系により光偏向器の偏向面
近傍で交差させ、該光偏向器で偏向させた後、結像手段
により被走査面上の異なる位置に導光し、該被走査面上
を該複数のレーザ光で同時に光走査する走査光学系であ
って、 該斜入射光学系は光軸が該複数のコリメートレー
ザ光源部の光軸に対して平行シフトした正の屈折力の光
学素子を有し、該光学素子は、光軸に対して垂直方向に
複数の光学要素に分割されており、該複数の光学要素が
該複数のコリメートレーザ光源部にそれぞれ対応して配
設されていることを特徴としている。

【００１７】請求項２の発明は、請求項１の発明におい
て前記斜入射光学系に入射する複数のレーザ光は、該斜
入射光学系の光軸に対して略平行に入射していることを
特徴としている。 請求項３の発明は、請求項１又は２の
発明において前記斜入射光学系により集光される複数の
レーザ光の集光位置近傍に前記光偏向器の偏向面が位置
するように構成したことを特徴としている。 請求項４の
発明は、請求項１、２又は３の発明において前記斜入射
光学系はシリンドリカルレンズより成ることを特徴とし
ている。 請求項５の発明は、請求項１、２、３又は４の
発明において前記複数のコリメートレーザ光源部は各々
レーザ発光部と、該レーザ発光部に対応して設けたコリ
メーターレンズとを有していることを特徴としている。
請求項６の発明は、請求項５の発明において前記複数の
レーザ発光部のうち少なくとも一部のレーザ発光部は同
一の基板上に設けられていることを特徴としている。

【００１８】請求項７の発明の走査光学系は、複数のコ
リメートレーザ光源部から射出される複数のレーザ光を
該コリメートレーザ光源部に対応して設けた複数の斜入
射光学系により光偏向器の偏向面近傍で交差させ、該光
偏向器で偏向させた後、結像手段により被走査面上の異
なる位置に導光し、該被走査面上を該複数のレーザ光で
同時に光走査する走査光学系であって、 該複数の斜入射
光学系は各々正の屈折力の光学素子とプリズムとを有
し、かつ該複数の斜入射光学系の光軸がそれぞれ対応す
る該コリメートレーザ光源部の光軸に対して平行シフト
していることを特徴としている。

【００１９】請求項８の発明は、請求項７の発明におい
て前記複数の斜入射光学系に入射するそれぞれのレーザ
光は対応する該斜入射光学系の光軸に対して略平行に入
射していることを特徴としている。 請求項９の発明は、
請求項７又は８の発明において前記複数の斜入射光学系
により集光される複数のレーザ光の集光位置近傍に前記
光偏向器の偏向面が位置するように構成したことを特徴
としている。 請求項１０の発明は、請求項７の発明にお
いて前記複数のコリメートレーザ光源部は各々レーザ発
光部と、該レーザ発光部に対応して設けたコリメーター
レンズとを有していることを特徴としている。請求項１
１の発明は、請求項１０の発明において前記複数のレー
ザ発光部のうち少なくとも一部のレーザ発光部は同一の
基板上に設けられていることを特徴としている。 請求項
１２の発明は、請求項１から１１のいずれか１項の発明
において前記斜入射光学系の光軸は前記複数のコリメー
トレーザ光源部の光軸に対して副走査断面内で平行シフ
トしていることを特徴としている。 請求項１３の発明の
画像形成装置は、請求項１〜１２のいずれか１項に記載
の走査光学系と、被走査面としての感光ドラムと、を備
えたことを特徴としている。

【００２０】図１は本発明の参考例１の光偏向器の回転
軸を含む副走査方向の主要部分の要部断面図（副走査断
面図）である。図２は本発明の参考例１の副走査方向に
おける屈折力配置を示す要部断面図である。

【００２１】図１、図２において１０ａ，１０ｂは各々
コリメートレーザ光源部であり、例えば半導体レーザよ
り成るレーザ発光部（レーザーチップ）２ａ（２ｂ）と
該レーザ発光部２ａ（２ｂ）に対応して設けたコリメー
ターレンズ３ａ（３ｂ）とを有している。本参考例にお
ける各々のレーザ発光部２ａ，２ｂは異なる基板２１
ａ，２１ｂ上にそれぞれ設けられており、コリメーター
レンズ３ａ（３ｂ）はレーザ発光部２ａ（２ｂ）から放
射したレーザ光（光ビーム）を略平行なレーザ光とし
て、後述する斜入射光学系１に光軸Ｃに対して平行入射
させている。

【００２２】１は斜入射光学系であり、正の屈折力を有
する光学素子としてのシリンドリカルレンズ（シリンダ
ーレンズ）より成っており、該シリンドリカルレンズ１
は副走査方向にのみ正の屈折力を有し、かつ該シリンド
リカルレンズ１の光軸Ｃを２つのコリメートレーザ光源
部１０ａ，１０ｂの光軸Ｄに対して平行シフト（偏心）
させている。本参考例ではこの斜入射光学系１により２
つのコリメートレーザ光源部１０ａ，１０ｂから射出し
た複数のレーザ光を副走査断面内において後述する光偏
向器の偏向面に対してほぼ同じ入射角度で斜入射させ、
その後光路分離を空間分離により行なっている。４は光
偏向器であり、例えばポリゴンミラーより成っており、
斜入射光学系１により集光される複数のレーザ光の集光
位置４ｂ近傍に、該光偏向器４の偏向面（反射面）４ａ
が位置するように配設しており、モータ等の駆動手段
（不図示）により矢印Ａ方向に一定速度で回転してい
る。

【００２３】図２において５は結像手段であり、ｆ−θ
特性を有する２つのｆθレンズ（結像光学系）５ａ，５
ｂを有しており、該２つのｆθレンズ５ａ，５ｂは２つ
のレーザ発光部２ａ，２ｂから放射されたレーザ光に対
応してそれぞれ設けており、光偏向器４で偏向された画
像情報に基づくレーザ光を被走査面としての感光ドラム
面６の異なる位置６ａ，６ｂにそれぞれ結像させてい
る。

【００２４】本参考例において２つのレーザ発光部２
ａ，２ｂから放射したレーザ光（光ビーム）は、該レー
ザ発光部２ａ，２ｂと対応するコリメーターレンズ３
ａ，３ｂにより略平行なレーザ光となり、シリンドリカ
ルレンズ１に入射している。シリンドリカルレンズ１に
入射した平行レーザ光のうち主走査断面においては、そ
のまま平行レーザ光の状態で射出する。又副走査断面に
おいては集束して光偏向器４の偏向面（反射面）４ａ近
傍にほぼ線像として結像している。このとき２つのレー
ザ光は偏向面４ａに対してほぼ同じ入射角度で斜入射し
ている。そして光偏向器４の偏向面４ａで偏向された２
つのレーザ光はそれぞれ対応するｆθレンズ５ａ，５ｂ
を介して被走査面６上の異なる位置６ａ，６ｂに同時に
結像している。そして光偏向器４を矢印Ａ方向に回転さ
せることによって被走査面６上を主走査方向に光走査し
て画像情報の記録を行なっている。

【００２５】本参考例におけるシリンドリカルレンズ１
はコリメートレーザ光源部１０ａ，１０ｂ側のレンズ面
（入射面）形状を凸面形状、光偏向器４側のレンズ面
（出射面）形状を凹面形状として形成しており、又入射
面側の凸面形状を副走査断面と直交する主走査断面にお
いてＲ＝∞のシリンダー形状としている。本参考例では
このようにシリンドリカルレンズ１を凸平レンズとする
ことにより製造を容易とし、低コスト化を図っている。
又本参考例では図６に示した従来の走査光学系に比べて
ＮＡ（開口数）が小さくなる傾向があるので収差補正
上、非球面形状を採用している。又本参考例ではシリン
ドリカルレンズ１の入射面側を上記の如く凸面形状とす
ることにより、コリメーターレンズ３ａ，３ｂで変換さ
れた２つの平行レーザ光の一部が該入射面で表面反射し
ても、レーザ発光部２ａ，２ｂ側に戻らないようにして
いる。これによりレーザ発光部２ａ，２ｂの動作（発
光）の安定性を図っている。

【００２６】尚、本参考例ではコリメートレーザ光源部
を２つより構成したが、これに限らず３つ以上用いて構
成しても良い。

【００２７】又、本参考例では上述の如く２つのコリメ
ートレーザ光源部１０ａ，１０ｂから射出される２つの
レーザ光を光偏向器４の偏向面４ａに対してほぼ同じ入
射角度で斜入射させているが、入射角度を揃える必要性
はなく、場合によっては１つのレーザ光を偏向面４ａに
対して垂直入射、他のレーザ光を斜入射させて構成して
も良い。

【００２８】又、本参考例では結像手段としてのｆθレ
ンズ５ａ，５ｂを２つのレーザ光に対応してそれぞれ設
けたが、これに限らず、例えば共用化して１つのｆθレ
ンズで２つのレーザ光を被走査面上の異なる位置に結像
させても良い。

【００２９】又、本参考例では光偏向器４の偏向面４ａ
に入射する２つのレーザ光の斜入射角度を小さくして、
該偏向面４ａ以降の適所の光路中に分離反射ミラーを設
けると、被走査面上における２つのレーザ光の結像位置
を調整することもできる。

【００３０】このように本参考例では上述の如く２つの
コリメートレーザ光源部１０ａ，１０ｂを副走査方向に
沿って平行に配置し、かつ接近して配置することによ
り、デッドスペースを不要とし、これにより装置全体の
小型化を図っている。又２つのレーザ光の集光位置近傍
に光偏向器４の偏向面４ａが位置するように配置したこ
とにより、該光偏向器（偏向面）４の薄型化も図ること
ができる。

【００３１】図３は本発明の実施形態１の光偏向器の回
転軸を含む副走査方向の主要部分の要部断面図（副走査
断面図）である。同図において図１に示した要素と同一
要素には同符番を付している。

【００３２】本実施形態において前述の参考例と異なる
点は斜入射光学系を構成するシリンドリカルレンズを光
軸に対して垂直方向に２つのレンズ（光学要素）に分割
（中央部分で切断）し、該２つのレンズをそれぞれコリ
メートレーザ光源部に対応するように配設したことであ
る。その他の構成及び光学的作用は前述の参考例と略同
様であり、これにより同様な効果を得ている。

【００３３】即ち、同図において１１は斜入射光学系を
構成するシリンドリカルレンズであり、光軸に対して垂
直方向に２つに分割されたレンズ１１ａ，１１ｂより成
っており、該２つのレンズ１１ａ，１１ｂはそれぞれコ
リメートレーザ光源部１０ａ，１０ｂに対応して配設さ
れている。本実施形態ではこのシリンドリカルレンズ１
１を２つのレンズに分割したことにより、組み立てに伴
なう調整を独立に行なうことによって、その調整を容易
にしている。例えばレンズ１１（もしくは１２）を光軸
に対して上下左右方向に移動させることにより、光偏向
器４の偏向面４ａ近傍でのレーザ光の集光点を可変にす
ることができる。

【００３４】尚、本実施形態ではコリメートレーザ光源
部を２つより構成したが、これに限らず３つ以上で構成
しても良く、この場合にはシリンドリカルレンズの分割
数を該コリメートレーザ光源部の数に対応させて分割す
れば良い。

【００３５】図４は本発明の実施形態２の光偏向器の回
転軸を含む副走査方向の主要部分の要部断面図（副走査
断面図）である。同図において図１に示した要素と同一
要素には同符番を付している。

【００３６】本実施形態において前述の参考例と異なる
点は２つのコリメートレーザ光源部に対応してそれぞれ
独立に斜入射光学系を設けると共に、該斜入射光学系を
正の屈折力の正レンズとプリズムとより構成し、該斜入
射光学系の光軸をそれぞれ対応するコリメートレーザ光
源部の光軸に対して平行シフト（偏心）させたことであ
る。その他の構成及び光学的作用は前述の参考例と略同
様であり、これにより同様な効果を得ている。

【００３７】即ち、同図において４１ａ，４１ｂは各々
斜入射光学系であり、コリメートレーザ光源部１０ａ，
１０ｂに対応してそれぞれ設けている。この斜入射光学
系４１ａ（４１ｂ）は正の屈折力を有する正レンズ１３
ａ（１３ｂ）とプリズム１４ａ（１４ｂ）とを有してお
り、該斜入射光学系４１ａ（４１ｂ）の光軸Ｃを対応す
るコリメートレーザ光源部１０ａ（１０ｂ）の光軸Ｄに
対して平行シフト（偏心）させている。

【００３８】本実施形態ではこのような構成により２つ
のレーザ発光部２ａ，２ｂから放射した２つのレーザ光
（光ビーム）を、該レーザ発光部２ａ，２ｂと対応する
コリメーターレンズ３ａ，３ｂによりそれぞれ略平行な
レーザ光に変換し、対応する正レンズ１３ａ，１３ｂに
入射させている。そして正レンズ１３ａ，１３ｂの屈折
力によりそれぞれの平行レーザ光が集光作用を受けつ
つ、集光点が高さ方向に移動する作用をうけ、更にプリ
ズム１４ａ，１４ｂにより集光点の高さが調整され、光
偏向器４の偏向面４ａ近傍で集光している。このとき２
つのレーザ光は偏向面４ａに対してほぼ同じ入射角度で
斜入射している。そして光偏向器４の偏向面４ａで偏向
された２つのレーザ光はそれぞれ対応するｆθレンズ
（不図示）を介して被走査面上の異なる位置に同時に結
像している。そして光偏向器４を矢印Ａ方向に回転させ
ることによって被走査面上を主走査方向に光走査して画
像情報の記録を行なっている。

【００３９】又、本実施形態では正レンズ１３ａ，１３
ｂ及びプリズム１４ａ，１４ｂの光軸上の位置をそれぞ
れ独立に調整できるよう構成することにより、レーザ光
の集光点の調整を前述した参考例に比べて更に容易にす
ることができる。これは例えば正レンズ１３ａ，１３ｂ
を光軸に対して水平方向に調整可能とし、又プリズム１
４ａ，１４ｂを紙面に対して垂直な軸回りの回転に調整
可能とすることで達成される。

【００４０】図５は本発明の実施形態３の光偏向器の回
転軸を含む副走査方向の主要部分の要部断面図（副走査
断面図）である。同図において図１に示した要素と同一
要素には同符番を付している。

【００４１】本実施形態において前述の参考例と異なる
点は２つのレーザ発光部を同一基板上に設けたことであ
る。その他の構成及び光学的作用は前述の参考例と略同
様であり、これにより同様な効果を得ている。

【００４２】即ち、同図において２２は平行平板な基板
であり、該基板２２上に２つのレーザ発光部２ａ，２ｂ
を設けている。

【００４３】このように本実施形態においては２つのレ
ーザ発光部２ａ，２ｂを同一基板２２上に設けた場合に
おいても、前述の参考例と同様に光偏向器４の偏向面４
ａに対して２つのレーザ光をほぼ同じ入射角度で斜入射
させることができる。又本実施形態では２つのレーザ発
光部２ａ，２ｂを同一基板２２上に設けたことにより、
部品点数の削減化を図ることができると共に装置全体の
小型化も図ることができる。

【００４４】

【発明の効果】本発明によれば前述の如くコリメートレ
ーザ光源部と光偏向器との間の光路中に設けた正の屈折
力の光学素子を有する斜入射光学系の光軸を該コリメー
トレーザ光源部の光軸に対して平行シフト（偏心）させ
ることにより、装置全体の小型化を図りつつ複数のレー
ザ光で被走査面（像面）上を光走査することができる走
査光学系（マルチビーム走査光学系）及びそれを有する
画像形成装置を達成することができる。

【００４５】特に本発明によれば前述の如く１つの光偏
向器と１種類のレーザ発光部を複数個用いて２カ所以上
の被走査面を同時に光走査することができ、又レーザ発
光部とコリメーターレンズとを有するコリメートレーザ
発光部をコンパクトに配置することができるので、装置
全体の小型化も図ることができる走査光学系及びそれを
有する画像形成装置を達成することができる。

【００４６】又、本発明によれば前述の如く１つの走査
光学系にて被走査面の異なる位置を同時に複数光走査す
ることができるので多色刷りの書き込み、又は装置の高
速化も図ることができ、又同一基板上に複数のレーザ発
光部を設けることにより、部品点数の削減化も図ること
ができる走査光学系及びそれを有する画像形成装置を達
成することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の参考例の光偏向器の回転軸を含む副
走査断面図

【図２】 本発明の参考例の屈折力配置を示す要部断面
図

【図３】 本発明の実施形態１の光偏向器の回転軸を含
む副走査断面図

【図４】 本発明の実施形態２の光偏向器の回転軸を含
む副走査断面図

【図５】 本発明の実施形態３の光偏向器の回転軸を含
む副走査断面図

【図６】 従来の走査光学系の光偏向器の回転軸を含む
副走査断面図

【図７】 従来の走査光学系の光偏向器の回転軸を含む
副走査断面図

【符号の説明】

１，１１ 斜入射光学系 ２ａ，２ｂ レーザ発光部 ３ａ，３ｂ コリメーターレンズ ４ 光偏向器 ４ａ 偏向面 ５ 結像手段 ５ａ，５ｂ ｆθレンズ ６ 被走査面 ６ａ，６ｂ 走査位置 １０ａ，１０ｂ コリメートレーザ光源部 １１ａ，１１ｂ レンズ １３ａ，１３ｂ 正レンズ １４ａ，１４ｂ プリズム ２１ａ，２１ｂ，２２ 基板 ４１ａ，４１ｂ 斜入射光学系

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭61−28918（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−66354（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) G02B 26/10

Claims (13)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 複数のコリメートレーザ光源部から射出
   される複数のレーザ光を斜入射光学系により光偏向器の
   偏向面近傍で交差させ、該光偏向器で偏向させた後、結
   像手段により被走査面上の異なる位置に導光し、該被走
   査面上を該複数のレーザ光で同時に光走査する走査光学
   系であって、該斜入射光学系は光軸が該複数のコリメートレーザ光源
   部の光軸に対して平行シフトした正の屈折力の光学素子
   を有し、該光学素子は、光軸に対して垂直方向に複数の
   光学要素に分割されており、該複数の光学要素が該複数
   のコリメートレーザ光源部にそれぞれ対応して配設され
   て いることを特徴とする走査光学系。
2. 【請求項２】 前記斜入射光学系に入射する複数のレー
   ザ光は、該斜入射光学系の光軸に対して略平行に入射し
   ていることを特徴とする請求項１の走査光学系。
3. 【請求項３】 前記斜入射光学系により集光される複数
   のレーザ光の集光位置近傍に前記光偏向器の偏向面が位
   置するように構成したことを特徴とする請求項１又は２
   の走査光学系。
4. 【請求項４】 前記斜入射光学系はシリンドリカルレン
   ズより成ることを特徴とする請求項１、２又は３の走査
   光学系。
5. 【請求項５】 前記複数のコリメートレーザ光源部は各
   々レーザ発光部と、該レーザ発光部に対応して設けたコ
   リメーターレンズとを有していることを特徴とする請求
   項１、２、３又は４の走査光学系。
6. 【請求項６】 前記複数のレーザ発光部のうち少なくと
   も一部のレーザ発光部は同一の基板上に設けられている
   ことを特徴とする請求項５の走査光学系。
7. 【請求項７】 複数のコリメートレーザ光源部から射出
   される複数のレーザ光を該コリメートレーザ光源部に対
   応して設けた複数の斜入射光学系により光偏向器の偏向
   面近傍で交差させ、該光偏向器で偏向させた後、結像手
   段により被走査面上の異なる位置に導光し、該被走査面
   上を該複数のレーザ光で同時に光走査する走査光学系で
   あって、 該複数の斜入射光学系は各々正の屈折力の光学素子とプ
   リズムとを有し、かつ該複数の斜入射光学系の光軸がそ
   れぞれ対応する該コリメートレーザ光源部の光軸に対し
   て平行シフトしていることを特徴とする走査光学系。
8. 【請求項８】 前記複数の斜入射光学系に入射するそれ
   ぞれのレーザ光は対応する該斜入射光学系の光軸に対し
   て略平行に入射していることを特徴とする請求項７の走
   査光学系。
9. 【請求項９】 前記複数の斜入射光学系により集光され
   る複数のレーザ光の集光位置近傍に前記光偏向器の偏向
   面が位置するように構成したことを特徴とする請求項７
   又は８の走査光学系。
10. 【請求項１０】 前記複数のコリメートレーザ光源部は
    各々レーザ発光部と、該レーザ発光部に対応して設けた
    コリメーターレンズとを有していることを特徴とする請
    求項７の走査光学系。
11. 【請求項１１】 前記複数のレーザ発光部のうち少なく
    とも一部のレーザ発光部は同一の基板上に設けられてい
    ることを特徴とする請求項１０の走査光学系。
12. 【請求項１２】 前記斜入射光学系の光軸は前記複数の
    コリメートレーザ光源部の光軸に対して副走査断面内で
    平行シフトしていることを特徴とする請求項１から１１
    のいずれか1項の走査光学系。
13. 【請求項１３】 請求項１〜１２のいずれか１項に記載
    の走査光学系と、被走査面としての感光ドラムと、を備
    えたことを特徴とする画像形成装置。