JP2012241177A - 圧縮成形用エポキシ樹脂組成物と半導体装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】無機充填材の配合割合を組成物全体の85質量%以上とし、エポキシ樹脂中のアントラセン骨格グリシジルエーテル系エポキシ樹脂の割合を50質量%以上、硬化剤中のビフェニル・トリフェニルメタン系フェノールの割合を50質量%以上とし、組成物のパウダーの粒度分布を2.4mm以上が2質量%以下、0.18mm以下が2質量%以下とする。
【選択図】なし
Description
で表わされるエポキシ樹脂を全エポキシ樹脂中の50質量%以上含有する。
で表わされる硬化剤を全硬化剤中の50質量%以上含有する。
R1、R2、R3は、好ましくは水素原子、もしくは炭素数1〜8のアルキル基、アルコキシ基、またはアリール基である。
ジャパンエポキシレジン株式会社製 YL7172 エポキシ当量180 軟化点:104℃
エポキシ樹脂2〔ビフェニル型エポキシ樹脂〕:
ジャパンエポキシレジン株式会社製 YX4000H エポキシ当量195
硬化剤1〔式(2)の硬化剤〕:エアウォーター株式会社製 HE625C−04 水酸基当量180
硬化剤2〔フェノールノボラック〕:明和化成(株)DL−92 水酸基当量105
無機充填材〔シリカ〕:電気化学工業株式会社製FB820
カップリング剤〔γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン〕:信越化学工業(株)製 KBM403
カルナバワックス:大日化学F1−100
カーボンブラック:三菱化学製 40B
硬化促進剤:北興化学(株)製 TPP
評価は以下のようにして行った。
(評価方法と条件)
コンプレッション成形条件
金型温度:175℃
圧縮圧力:10MPa
圧縮時間:150秒
後硬化:175℃/6h
トランスファー成形条件
金型温度:175℃
注入圧力:70kgf/cm2
圧縮時間:120秒
圧縮成形機の計量ユニットを用い、自動で5gを計量するように設定した。30回計量を繰り返し、実際に計量された重量と設定値のバラツキ(最大値)により、計量精度を測定した。パウダーにブロッキングが見られる場合には記録無しとした。
所定の容器に、エポキシ樹脂組成物パウダーを100g計量し、25℃50%の環境に2時間放置し、ブロッキングの有無を確認した。
35×35×0.5mmtPBGA(封止サイズ29×29×1.17mmt、BT基板、レジストPSR400)を175℃120sキュアにて成形し後硬化させたPBGAのパッケージを、AKROMETRIX社製のシャドウモアレ(PS200)を用いて、常温の反り(コプラナリティー)を測定した。
上記トランスファー成形条件にて、試験片(φ90mm)を得た。成形後の試験片の寸法を測定し、金型寸法に対する試験片の寸法により、収縮率を算出した。
上記35 PBGA基板に寸法8×9×0.35mmのテスト用チップを銀ペーストを用いて搭載した。
表1には、結果と判定評価を示した。PBGA反り(常温反り)の判定は、表3による区分とした。
Claims (3)
- エポキシ樹脂、硬化剤、無機充填材を必須成分として含有する半導体素子の封止に用いられるパウダー状の圧縮成形用エポキシ樹脂組成物であって、無機充填材が前記組成物全体量の85質量%以上であり、エポキシ樹脂として、次式(1)
で表わされるエポキシ樹脂を全エポキシ樹脂中の50質量%以上含有し、硬化剤として、次式(2)
で表わされる硬化剤を全硬化剤中の50質量%以上含有し、前記組成物のパウダーの粒度分布は、2.4mm以上が2質量%以下、0.18mm以下が2質量%以下であることを特徴とする圧縮成形用エポキシ樹脂組成物。 - 硬化剤として、前記式(2)で表わされる硬化剤とともにフェノールノボラック樹脂を含有することを特徴とする請求項1に記載の圧縮成形用エポキシ樹脂組成物。
- 請求項1または2に記載の圧縮成形用エポキシ樹脂組成物をもって半導体素子が封止成形されていることを特徴とする半導体装置。
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