JP2012238673A - 露光装置及びデバイスの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】光源63から射出される光で前記基板の上のマークWMを照明し、前記マークで反射した光により前記マークの像を形成する光学系と、前記マークの像を検出する検出部11とを含み、前記マークの位置を計測する計測部と、前記光学系の所定面における光量を制御する制御部90と、を有し、前記マークの位置を計測しない非計測期間に前記光源から射出される光の光量は、前記マークの位置を計測する計測期間に前記光源から射出される光の光量よりも低く、前記光源と前記所定面との間の光路における透過率を前記非計測期間で、前記計測期間における透過率よりも高くすることにより、前記非計測期間と前記計測期間の前記所定面における光量の差を低減する。
【選択図】図3
Description
Wnm=N[%]/100[%]×0.625Vm[V] ・・・(式2)
式1及び式2から、計測期間の所定面PPにおける光量と非計測期間の所定面PPにおける光量とを同等にするためには、非計測期間にOA光学系24の光路に配置すべき波長フィルタの透過率N[%]は80[%]となる。従って、波長フィルタターレット54に配置された波長フィルタ541a〜541fから、非計測期間にOA光学系24の光路に配置すべき波長フィルタとして、80[%]の透過率を有する波長フィルタ541eを選択すればよい。換言すれば、計測期間にOA光学系24の光路に配置する波長フィルタ541bの透過率よりも高い透過率を有する波長フィルタ541eをOA光学系24の光路に配置する。これにより、非計測期間におけるハロゲンランプ50の点灯電圧を低くしても、計測期間の所定面PPにおける光量と非計測期間の所定面PPにおける光量とを同等にすることができる。その結果、計測期間におけるOA光学系24の温度変化が低減され(即ち、OA光学系24の温度変化が許容範囲に収まり)、OA光学系24の高いアライメント性能を維持することが可能となる。
Wnm=40[%]/100[%]×M[%]/100[%]×0.625Vm[V] ・・・(式4)
式3及び式4から、計測期間の所定面PPにおける光量と非計測期間の所定面PPにおける光量とを同等にするためには、非計測期間にOA光学系24の光路に配置すべきNDフィルタの透過率M[%]は80[%]となる。従って、減光フィルタターレット56に配置されたNDフィルタ561a〜561fから、非計測期間にOA光学系24の光路に配置すべき波長フィルタとして、80[%]の透過率を有するNDフィルタを選択すればよい。換言すれば、計測期間にOA光学系24の光路に配置するNDフィルタの透過率よりも高い透過率を有するNDフィルタをOA光学系24の光路に配置する。これにより、非計測期間におけるハロゲンランプ50の点灯電圧を低くしても、計測期間の所定面PPにおける光量と非計測期間の所定面PPにおける光量とを同等にすることができる。その結果、計測期間におけるOA光学系24の温度変化が低減され(即ち、OA光学系24の温度変化が許容範囲に収まり)、OA光学系24の高いアライメント性能を維持することが可能となる。
期間1:ウエハマークの位置を計測条件A(第1の計測条件)で計測するウエハマーク計測処理を繰り返して行う場合(S22〜S26)におけるウエハマーク計測処理間(前回のS23と今回のS23の間)の期間
(ウエハマークの位置を計測条件B(第1の計測条件)で計測するウエハマーク計測処理を繰り返して行う場合(S32〜S36)におけるウエハマーク計測処理間(前回のS33と今回のS33の間)の期間も同様)
期間2:OA光学系24のベースラインを計測するベースライン計測処理(第1の処理)とウエハマークを計測するウエハマーク計測処理(第2の処理)とを行う場合におけるベースライン計測処理(S21)とウエハマーク計測処理(S23)との間の期間
期間3:ウエハマークを計測条件Aで計測するウエハマーク計測処理(第1の処理)とウエハマークを計測条件Bで計測するウエハマーク計測処理(第2の処理)を行う場合におけるウエハマーク計測処理(S23)とウエハマーク計測処理(S33)との間の期間
本実施形態の露光装置100によれば、上述したように、計測期間におけるOA光学系24の温度変化が低減され(即ち、OA光学系24の温度変化が許容範囲に収まり)、OA光学系24の高いアライメント性能を維持することができる。従って、露光装置100は、OA光学系24の計測結果に基づいて、ウエハW(ウエハステージ20)の位置決めを高精度に行い、高品位なデバイス(半導体素子、LCD素子、撮像素子(CCDなど)、薄膜磁気ヘッドなど)を提供することができる。かかるデバイスは、露光装置100を用いてフォトレジスト(感光剤)が塗布された基板(ウエハ、ガラスプレート等)を露光する工程と、露光された基板を現像する工程と、その他の周知の工程と、を経ることによって製造される。
Claims (9)
- 基板を露光する露光装置であって、
光源から射出される光で前記基板の上のマークを照明し、前記マークで反射した光により前記マークの像を形成する光学系と、前記マークの像を検出する検出系とを含み、前記マークの位置を計測する計測部と、
前記光学系の所定面における光量を制御する制御部と、
を有し、
前記マークの位置を計測しない非計測期間に前記光源から射出される光の光量は、前記マークの位置を計測する計測期間に前記光源から射出される光の光量よりも低く、
前記制御部は、前記非計測期間の前記光源と前記所定面との間の光路における透過率を前記計測期間の前記光路における透過率よりも高くすることで、前記非計測期間に前記光源から射出される光の光量が前記計測期間に前記光源から射出される光の光量が低いことによる前記計測期間の前記所定面における光量と前記非計測期間の前記所定面における光量の差を低減することを特徴とする露光装置。 - 前記光学系は、前記光源と前記所定面との間の光路に配置され、前記光源からの光を透過する透過率が互いに異なる複数のフィルタを含み、
前記制御部は、前記複数のフィルタから、前記非計測期間の前記所定面における光量を前記計測期間の前記所定面における光量に近づけるフィルタを選択し、前記選択したフィルタを前記マークの位置の非計測期間に前記光源と前記所定面との間の光路に配置することを特徴とする請求項1に記載の露光装置。 - 前記フィルタは、前記光源から射出される光の波長を選択するための波長フィルタ及び光の光量を低減するための減光フィルタの少なくとも一方を含むことを特徴とする請求項2に記載の露光装置。
- 前記所定面における光量及び温度の少なくとも一方を検出するセンサを更に有し、
前記制御部は、前記センサの検出結果に基づいて、前記計測期間の前記所定面における光量と前記非計測期間の前記所定面における光量の差を低減することを特徴とする請求項1に記載の露光装置。 - 前記所定面における光量及び温度の少なくとも一方の時間変化を表す情報を記憶する記憶部を更に有し、
前記制御部は、前記記憶部に記憶された前記情報に基づいて、前記計測期間の前記所定面における光量と前記非計測期間の前記所定面における光量の差を低減することを特徴とする請求項1に記載の露光装置。 - 前記非計測期間は、前記マークの位置を第1の計測条件で計測する処理を繰り返して行う場合における前記処理と前記処理との間の期間、前記計測部のベースラインを計測する第1の処理と前記マークの位置を第1の計測条件で計測する第2の処理とを行う場合における前記第1の処理と前記第2の処理との間の期間、又は、前記マークの位置を第1の計測条件で計測する第1の処理と前記マークの位置を前記第1の計測条件とは異なる第2の計測条件で計測する第2の処理とを行う場合における前記第1の処理と前記第2の処理との間の期間を含むことを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
- 前記計測部で計測された前記マークの位置に基づいて、前記基板の位置決めを行う位置決め機構を更に有することを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
- 前記光源は、ハロゲンランプを含むことを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
- 請求項1乃至8のうちいずれか1項に記載の露光装置を用いて基板を露光するステップと、
前記ステップで露光された前記基板を現像するステップと、
を有することを特徴とするデバイスの製造方法。
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20190131128A (ko) * | 2017-04-14 | 2019-11-25 | 케이엘에이 코포레이션 | 광대역 검사 시스템에서 조정가능한 스펙트럼 능력들을 제공하기 위한 필터 어셈블리 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7075278B2 (ja) * | 2018-05-08 | 2022-05-25 | キヤノン株式会社 | 計測装置、露光装置及び物品の製造方法 |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6242422A (ja) * | 1985-08-19 | 1987-02-24 | Nippon Kogaku Kk <Nikon> | 投影光学装置 |
JPH08279457A (ja) * | 1995-04-04 | 1996-10-22 | Canon Inc | 位置合わせ方法及びそれを用いた露光装置 |
JPH1050585A (ja) * | 1996-08-07 | 1998-02-20 | Nikon Corp | 投影露光装置 |
JPH11135428A (ja) * | 1997-08-27 | 1999-05-21 | Nikon Corp | 投影露光方法及び投影露光装置 |
JP2001007000A (ja) * | 1999-06-22 | 2001-01-12 | Canon Inc | 露光装置 |
JP2001176787A (ja) * | 1999-12-21 | 2001-06-29 | Miyazaki Oki Electric Co Ltd | 露光装置 |
JP2003218001A (ja) * | 2002-01-18 | 2003-07-31 | Pentax Corp | 露光装置 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6167223A (ja) | 1984-09-10 | 1986-04-07 | Canon Inc | 信号検出装置 |
US4694186A (en) | 1984-09-10 | 1987-09-15 | Canon Kabushiki Kaisha | System for photoelectric detection |
JPH08250391A (ja) * | 1995-03-10 | 1996-09-27 | Nikon Corp | 位置検出用マーク及び位置検出方法 |
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WO1998057363A1 (fr) * | 1997-06-09 | 1998-12-17 | Nikon Corporation | Systeme d'exposition, procede servant a fabriquer ce systeme d'exposition et procede servant a fabriquer des dispositifs |
JPH1167660A (ja) | 1997-06-09 | 1999-03-09 | Nikon Corp | 露光装置、該露光装置の製造方法及びデバイスの製造方法 |
JP2003092248A (ja) | 2001-09-17 | 2003-03-28 | Canon Inc | 位置検出装置、位置決め装置及びそれらの方法並びに露光装置及びデバイスの製造方法 |
JP4677174B2 (ja) * | 2003-02-03 | 2011-04-27 | キヤノン株式会社 | 位置検出装置 |
JP4307482B2 (ja) * | 2006-12-19 | 2009-08-05 | キヤノン株式会社 | 位置計測装置、露光装置、およびデバイス製造方法 |
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-
2012
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Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6242422A (ja) * | 1985-08-19 | 1987-02-24 | Nippon Kogaku Kk <Nikon> | 投影光学装置 |
JPH08279457A (ja) * | 1995-04-04 | 1996-10-22 | Canon Inc | 位置合わせ方法及びそれを用いた露光装置 |
JPH1050585A (ja) * | 1996-08-07 | 1998-02-20 | Nikon Corp | 投影露光装置 |
JPH11135428A (ja) * | 1997-08-27 | 1999-05-21 | Nikon Corp | 投影露光方法及び投影露光装置 |
JP2001007000A (ja) * | 1999-06-22 | 2001-01-12 | Canon Inc | 露光装置 |
JP2001176787A (ja) * | 1999-12-21 | 2001-06-29 | Miyazaki Oki Electric Co Ltd | 露光装置 |
JP2003218001A (ja) * | 2002-01-18 | 2003-07-31 | Pentax Corp | 露光装置 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20190131128A (ko) * | 2017-04-14 | 2019-11-25 | 케이엘에이 코포레이션 | 광대역 검사 시스템에서 조정가능한 스펙트럼 능력들을 제공하기 위한 필터 어셈블리 |
KR102525818B1 (ko) * | 2017-04-14 | 2023-04-25 | 케이엘에이 코포레이션 | 광대역 검사 시스템에서 조정가능한 스펙트럼 능력들을 제공하기 위한 필터 어셈블리 |
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