JP2012232455A - 可撓防汚性複合シート及びその接合体 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】繊維基布の表裏面上に可撓熱可塑性樹脂層を有する基体シートの表面上に、光触媒粒子と、フッ化ビニリデン系樹脂含有バインダーと、光触媒粒子の含有質量の1〜50%のラジカル捕捉物質(フェノール系、ホスファイト系、硫黄、ビタミンE系酸化防止剤の1種以上を含有する)とを含む可撓性光触媒防汚層を形成し、基体シートの裏面上に可撓性アクリル系樹脂層を形成して、可撓性光触媒防汚層表面上の水滴が15〜45度の静止水接触角を示す可撓防汚性複合シート及びその接合体を得る。
【選択図】図1
Description
本発明の可撓防汚性複合シートにおいて、前記ラジカル捕捉物質が前記光触媒粒子の表面上に担持されていることが好ましい。
本発明の可撓防汚性複合シートにおいて、前記可撓性光触媒防汚層が前記基体シートの表面側全面に接する下層と、その上に形成された上層により形成され、前記上層及び下層が互に同一の光触媒粒子含有率を有し、かつ前記上層中の前記ラジカル捕捉物質の含有量の、前記光触媒粒子の含有量に対する比が、前記下層中の前記ラジカル捕捉物質の含有量の、前記光触媒粒子の含有量に対する比よりも高いことが好ましい。
本発明の可撓防汚性複合シートにおいて、前記可撓性光触媒防汚層が、前記基体シートの可撓熱可塑性樹脂層に接する下層と、その上に形成された上層により形成され、前記上層が前記下層よりも高い光触媒粒子率を有し、前記上層中のラジカル捕捉物資含有量の、前記光触媒粒子含有量に対する比率が、前記下層のラジカル捕捉物質含有量の、前記光触媒粒子含有量に対する比率よりも高いことが好ましい。本発明の可撓防汚性複合シートにおいて、前記基体シートの可撓熱可塑性樹脂層と、前記可撓性光触媒防汚層との間に、アクリル系樹脂、アクリル−シリコーン共重合体系樹脂及びアクリル−フッ素化合物共重合体系樹脂から選ばれた少なくとも1種を含む接着保護層をさらに含んでいることが好ましい。
本発明の可撓防汚性複合シートにおいて、前記接着保護層がその質量に対し、0.01〜5.0質量%の前記ラジカル捕捉物質をさらに含むことが好ましい。
本発明の可撓防汚性複合シートの接合体は、前記本発明の可撓防汚性複合シートの複数枚を、その長手方向の、互に隣り合う端末部において、一方の可撓防汚性複合シートの可撓性光触媒防汚層の端末部と、他方の可撓防汚性複合シートの可撓性アクリル系樹脂層の端末部とが対向して熱溶着された接合部が形成されているものである。
本発明の可撓防汚性複合シートの接合体において、前記可撓防汚性複合シートの接合部に、(株)日本膜構造協会試験標準(MSAJ/M−03−2003)促進曝露試験法に従って、キセノンアーク光源(照度:180W/m2(300〜400nm))による416時間の促進曝露試験に供したとき、前記接合部の、引張強さが、曝露試験前の初期引張強さに対して、80%以上の保持率を有していることが好ましい。
図1に示された可撓防汚性複合シート1において、繊維基布と、その表裏両面の全面上を被覆している可撓熱可塑性樹脂層3により構成されている基体シート4の表面側全面上に、可撓性光触媒防汚層5が形成され、基体シート4の裏面側全面上に、可撓性アクリル系樹脂層6が形成されている。
図2に示された可撓防汚性複合シート1においては、可撓性光触媒防汚層5が、基体シート4の表面側全面上に形成された下層5bと、下層5b上に形成された上層5aにより構成されている。
図2に示されている上下2層構造(5a,5b)を有する可撓性光触媒防汚層5において上層5aに含まれるラジカル捕捉物質の濃度は、下層5bのそれよりも高いことが好ましい。また上、下層中の光触媒濃度は、互に異なっていてもよい。また上、下層に含まれるフッ化ビニリデン系樹脂の組成も、互に異なっていてもよい。
図3に示された可撓防汚性複合シート1においては、基体シート4の表面側全面と、可撓性光触媒防汚層5の裏面側全面との間に接着保護層7が形成されている。
図5において、互に接合している可撓防汚性複合シート1C及び1Dは上、下2層5a,5bよりなる可撓性光触媒防汚層5を有し、複合シート1C及び1Dの接合体の接合端部において、複合シート1Cの可撓性アクリル系樹脂層6と、複合シート1Dの可撓性光触媒防汚層5の上層5aとが、互に対向して接合し熱溶着により接着されて、接合部8を形成し、可撓防汚性複合シートの接合体9が形成されている。
勿論、本発明の可撓防汚性複合シート接合体において、互に接合している複合シートの少なくとも一方が、図3に示されているように、その基体シート4の表面と、可撓性光触媒防汚層の裏面との間に接着保護層が形成されていてもよい。
1)屋外曝露試験
幅20cm×長さ2mの供試シートを可撓性光触媒防汚層を表側にして、南向きに設置された傾斜角30°方向の曝露台上に展張して屋外曝露試験に供し、曝露期間:12ヶ月後、供試シートの汚れの発生状態を下記のように観察及び評価した(色差 ΔE、艶ムラの状況、親水性:水の接触角)。
1−1)防汚性(色差 ΔE)
曝露開始時の試料の色を基準として、曝露12ヶ月後の試料の表面の色との色差 ΔE
(JIS Z 8729)をシート表面の5箇所において測定し、平均値を計算し下記の判定基準により防汚性を評価した。
ΔE= 3未満 : 1=汚れが認められない。
3以上6未満 : 2=わずかな汚れが認められる。
6以上12未満 : 3=汚れが認められる。
12以上 : 4=顕著な汚れが認められる。
1−2)艶ムラの状況
曝露後の供試シートの表面を目視観察を行い、艶のある部分と艶のない部分を特定し、その部分の光沢度を光沢針(日本電色工業(株)製 Gloass Meter VG−2000 測定角度:60°)で測定し、光沢度の差の絶対値を計算し、下記の判定基準により艶ムラの状況を評価した。
光沢度の差の絶対値 3未満 : 1=艶ムラが認められない。
3以上8未満 : 2=艶ムラが認められる。
8以上 : 3=顕著な艶ムラが認められる。
1−3)親水性:水の接触角
曝露後の供試シートの表面をメタノールで洗浄し、乾燥した後、可撓性光触媒防汚層に水滴を滴下し、30秒後の可撓性光触媒防汚層と水滴との接触角を、接触角計(協和界面科学社(株)製 CA−D)を用いて測定した。
2)接合部の溶着試験及び促進曝露試験
2枚の供試シートを用意し、一方の可撓性光触媒防汚層と、もう一方の可撓性アクリル樹脂層とが互いに接触するように重ね合わせ、ラップ巾40mmで高周波ウエルダー溶着して接合し、接着性を評価した。さらに溶着性があることを確認できた供試シートについて、接合部引張試験用に巾30mm長さ300mmにカットし、この試料を(社)日本膜構造協会試験標準(MSAJ/M−03−2003)促進曝露試験に準じて、供試シートの可撓性光触媒防汚層面の接合部に、キセノンアーク光源(照度 180W/m2(300〜400nm))による416時間(屋外曝露2年間に相当)の照射を行ない促進曝露試験を実施し、促進曝露後接合部引張試験を行ない、接合部引張強さの初期引張強さに対する保持率を算出し、下記の判定基準により評価した。
接合部引張強さ保持率 100%〜80%:1=(社)日本膜構造協会品質基準に適合
80%未満:2=(社)日本膜構造協会品質基準に適合せず
(1)シート基体の作製
基布として、下記組織のポリエステルフィラメント平織物を用いた。
(1111dtex×1111dtex)/(22糸条/25.4mm×25糸条/25.4mm)目付:215g/m2
この基布を、ポリ塩化ビニル樹脂(乳化重合タイプ)を含む下記配合(1)の樹脂組成物の溶剤希釈液中に浸漬して、繊維布帛に樹脂液を含浸し、絞り、150℃で1分間乾燥後、185℃で1分間熱処理して、繊維布帛に対し前記樹脂を145g/m2の付着量で付着させて、下塗り層を形成した。次に、塩化ビニル樹脂(懸濁重合タイプ)を含む、下記配合(2)の樹脂組成物からなるフィルム(厚さ:0.16mm、質量:200g/m2)を、カレンダーを用いて作製し、これを前記下塗り層含浸基布の両面に貼着して、片面当り付着量200g/m2の可撓性ポリ塩化ビニル系樹脂層を形成し、合計重量760g/m2の基体シートを作製した。
配合(1)(基布含浸下塗り樹脂組成)
ポリ塩化ビニル樹脂(乳化重合タイプ)重合度p=1700 100質量部
DOP(可塑剤) 70質量部
エポキシ化大豆油(安定剤) 4質量部
Ba−Zn系安定剤 2質量部
トルエン(溶剤) 20質量部
配合(2)(可撓性ポリ塩化ビニル樹脂層組成)
ポリ塩化ビニル樹脂(懸濁重合タイプ)重合度p=1300 100質量部
DOP(可塑剤) 55質量部
エポキシ化大豆油(安定剤) 4質量部
Ba−Zn系安定剤 2質量部
白顔料(TiO2) 0.5質量部
前記基体シートの表面上に、下記配合(3)に示された組成のアクリルシリコン樹脂処理液をグラビヤコーターで30g/m2の塗布量で塗布し、100℃で1分間乾燥後冷却して、6.0g/m2の保護接着層を形成した。
配合(3)(接着保護層処理液組成)
シリコン含有量3mol%のアクリル−シリコン共重合体樹脂8重量%(固形分)を含有する
エタノール−酢酸エチル(50/50重量比)溶液 100質量部
ポリシロキサンとして、メチルシリケートMS51(コルコート(株)製)の20%エタノール溶液 8質量部
シランカップリング剤としてγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン 1質量部
前記基体シート上の接着保護層上に、下記配合(4)に示された組成の可撓性光触媒防汚層処理をグラビヤコーターで30g/m2の塗布量で塗布し、100℃で1分間乾燥後冷却して、6.0g/m2の光触媒防汚層を形成した。
配合(4)(可撓性光触媒防汚層処理液組成)
フッ化ビニリデン系樹脂(商標:KYNAR710、アルケマ社製) 20質量部
MEK−トルエン−DMF(40/30/30重量比)(溶剤) 80質量部
酸化チタン光触媒粒子(品番:PC−101(住友化学(株))) 1質量部
ラジカル捕捉物質(フェノール系酸化防止性化合物)
商標イルガノックス1076(BASFジャパン(株)) 0.2質量部
前記イルガノックス1076は、オクタデシル−3−(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネートからなるラジカル捕捉物質であり、光触媒粒子の質量に対し20質量%の配合量で用いられた。
前記基体シートの裏面上に、下記配合(5)に示された組成の可撓性アクリル系樹脂層処理液をグラビヤコーターで30g/m2の塗布量で塗布し、100℃で1分間乾燥後冷却して、6.0g/m2の可撓性アクリル系樹脂層を形成し、防汚性シートを作製した。
配合(5)(可撓性アクリル系樹脂層組成)
アクリル系樹脂(商標:アクリプレン ペレットHBS001、三菱レイヨン(株))
20質量部
トルエン−MEK(50/50質量比)(溶剤) 80質量部
上記の工程により得られた可撓防汚性複合シートの可撓性光触媒防汚層の表面にはFT−IRによる分析により、ラジカル捕捉物質(フェノール系酸化防止性化合物)が露出存在していることを確認した。得られた可撓防汚性複合シートの試験結果を表1に示す。
実施例1と同様にして可撓防汚性複合シートを作製した。但し、可撓性光触媒防汚層を上層と下層からなる2層構造に構成した。可撓性光触媒防汚層の上層は下記の可撓性光触媒防汚層処理液配合(6)を用いて、塗布量3g/m2に形成し、可撓性光触媒防汚層の下層は下記の可撓性光触媒防汚層処理液配合(7)を用いて、塗布量3g/m2に形成した。
配合(6)可撓性光触媒防汚層処理液組成(上層)
フッ化ビニリデン系樹脂(商標:KYNAR710、アルケマ社製) 20質量部
MEK−トルエン−DMF(40/30/30重量比)(溶剤) 80質量部
酸化チタン光触媒粒子(品番:PC−101(住友化学(株))) 1質量部
ラジカル捕捉物質(フェノール系酸化防止性化合物)
商標:イルガノックス1076(BASFジャパン(株)) 0.3質量部
配合(7)可撓性光触媒防汚層処理液組成(下層)
フッ化ビニリデン系樹脂(商標:KYNAR710、アルケマ社製) 20質量部
MEK−トルエン−DMF(40/30/30重量比)(溶剤) 80質量部
酸化チタン光触媒粒子(品番:PC−101(住友化学(株))) 1質量部
ラジカル捕捉物質(フェノール系酸化防止性化合物)
商標:イルガノックス1076(BASFジャパン(株)) 0.1質量部
前記イルガノックス1076は、オクタデシル−3−(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネートからなるラジカル捕捉物質であり、光触媒防汚下層においては光触媒粒子の質量に対し10質量%の配合量である。一方、光触媒防汚上層におけるラジカル捕捉物質の配合量は光触媒粒子の質量に対し30質量%であるから、可撓性光触媒防汚層の表面近傍においてのラジカル捕捉物質の高密度偏在が明らかである。また、上記の工程により得られた可撓防汚性複合シートの可撓性光触媒防汚層の表面にはFT−IR分析により、ラジカル捕捉物質(フェノール系酸化防止性化合物)が露出存在することを確認した。得られた可撓防汚性複合シートの試験結果を表1に示す。
実施例1と同様にして可撓防汚性複合シートを作製した。但し、可撓性光触媒防汚層の形成に使用する可撓性光触媒防汚層処理液配合(4)の酸化チタン光触媒粒子を、ラジカル捕捉物質担持アパタイト被覆酸化チタン光触媒粒子に変更して、下記配合(8)に示す処理液組成を用いた。
配合(8)(可撓性光触媒防汚層処理液組成)
フッ化ビニリデン系樹脂(商標:KYNAR710、アルケマ社製) 20質量部
MEK−トルエン−DMF(40/30/30重量比)(溶剤) 80質量部
ラジカル捕捉物質担持アパタイト被覆酸化チタン光触媒粒子 1.1質量部
前記ラジカル捕捉物質担持アパタイト被覆酸化チタン光触媒粒子は、昭和電工(株)のアパタイト被覆酸化チタン光触媒粒子(商標:ジュピター)100質量部に対し、ラジカル捕捉物質(フェノール系酸化防止性化合物)として、BASFジャパン(株)の商品名:イルガノックス1076を10質量部をアパタイト部に担持させた複合調整粒子である。イルガノックス1076は、オクタデシル−3−(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネートからなるラジカル捕捉物質であり、光触媒粒子の質量に対し10質量%の配合量である。
上記の工程により得られた可撓防汚性複合シートの可撓性光触媒防汚層の表面にはFT−IR分析により、ラジカル捕捉物質(フェノール系酸化防止性化合物)が露出存在することを確認した。得られた可撓防汚性複合シートの試験結果を表1に示す。
実施例2と同様にして防汚性シートを作製した。但し、可撓性光触媒防汚層の上層の形成に使用する可撓性光触媒防汚層処理液配合(6)を、下記の可撓性光触媒防汚層処理液配合(9)に変更した。
配合(9)可撓性光触媒防汚層処理液組成(上層)
フッ化ビニリデン系樹脂(商標:KYNAR710、アルケマ社製) 20質量部
MEK−トルエン−DMF(40/30/30重量比)(溶剤) 80質量部
酸化チタン光触媒粒子(品番:PC−101(住友化学(株))) 1.5質量部
ラジカル捕捉物質(フェノール系酸化防止性化合物)
商標:イルガノックス1076(BASFジャパン(株)) 0.3質量部
イルガノックス1076は、オクタデシル−3−(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネートからなるラジカル捕捉物質であり、光触媒防汚下層においては光触媒粒子の質量に対し10質量%の配合量である。一方、光触媒防汚上層におけるラジカル捕捉物質の配合量は光触媒粒子の質量に対し20質量%であるから、可撓性光触媒防汚層の表面近傍においてのラジカル捕捉物質の高密度偏在が明らかである。さらに、光触媒防汚上層の光触媒粒子含有率は、光触媒防汚下層の光触媒粒子含有率よりも高くなっている。上記の工程により得られた可撓防汚性複合シートの可撓性光触媒防汚層の表面にはFT−IR分析により、ラジカル捕捉物質(フェノール系酸化防止性化合物)が露出存在することを確認した。得られた可撓防汚性複合シートの試験結果を表1に示す。
実施例1と同様にして可撓防汚性複合シートを作製した。但し、実施例1の可撓性光触媒防汚層にラジカル捕捉物質を添加しなかった。このシートを前記試験に供した。試験結果を表1に示す。このシートは、表1に示すように、屋外曝露試験12ヶ月後の表面のΔEは6〜10(平均8)とシートの場所によってバラツキがあり、不均一に汚れており、艶ムラも認められ防汚性は不十分なレベルであった。また、水との接触角は75°で親水性は全く示さず、この可撓防汚性複合シートの防汚性の発現は可撓性光触媒防汚層の分解性によるものであり、この分解性の不均一化によってΔEのばらつきと艶ムラが発生したと考えられる。また、接合部の促進曝露試験後の接合部引張強さ保持率は、55%と低値を示した。これは、促進曝露試験によりシートの可撓性光触媒防汚層が分解が進行し、接合部の端の部分も基材の可撓性光触媒防汚層の分解が進み、その断面から接合部に挟まれた防汚層への分解の侵食が進み接合部の樹脂強度が低下したと考えられ、屋外で長期使用した場合には、接合部の信頼性に大きな不安がある。
実施例1と同様にして可撓防汚性複合シートを作製した。但し、実施例1の可撓性アクリル系樹脂層を形成しなかった。
このシートを前記試験に供した。試験結果を表1に示す。このシートは、表1に示すように、屋外曝露試験12ヶ月後の防汚性は実施例1と同様に良好であったが、可撓性光触媒防汚層と、裏面の最外層とが互いに接触するように重ね合わせ状態での熱溶着性が全くなかった。得られた可撓防汚性複合シートを実際に接合するには、接合する部分の可撓性光触媒防汚層を削り取り熱溶着するか、或いは、断面同士を突合せてシーミングテープを使用し裏面から熱溶着する必要があり、接合が非常に煩雑になる。
実施例1と同様にして可撓防汚性複合シートを作製した。但し、実施例1の可撓性光触媒防汚層用樹脂としてアクリル系樹脂を使用し、下記配合(10)の処理液組成の可撓性光触媒防汚層に変更した。
配合(10)(可撓性光触媒防汚層処理液組成)
アクリル樹脂(商標:アクリプレン ペレットHBS001、三菱レイヨン(株))
20質量部
トルエン−MEK(50/50質量比)(溶剤) 80質量部
酸化チタン光触媒粒子(品番:PC−101(住友化学(株))) 1質量部
ラジカル捕捉物質:商標:イルガノックス1076(BASFジャパン(株))
0.2質量部
イルガノックス1076は、オクタデシル−3−(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネートからなるラジカル捕捉物質であり、光触媒粒子の質量に対し20質量%の配合量である。
得られた可撓防汚性複合シートは、表1に示すように、屋外曝露試験12ヶ月後の表面のΔEは12以上と全面が汚れており、汚れの程度はシートの場所によってバラツキがあり、艶ムラも認められ、防汚性は不十分なレベルであった。表面の観察では可撓性光触媒防汚層の分解が進んでおり、表面には可撓性光触媒防汚層が脱落した部分があり、その部分の水の接触角は90°と高い値を示した。また、接合部の促進曝露試験後の接合部引張強さ保持率は、51%と低値を示した。これは、促進曝露試験によりシートの可撓性光触媒防汚層が分解され、接合部の端の部分も基材の可撓性光触媒防汚層の分解が進み、その断面から接合部に挟まれた防汚層への分解の侵食が進み接合部の樹脂強度が低下したと考えられ、屋外で長期使用した場合には、接合部の信頼性に大きな不安がある。
実施例1と同様にして可撓防汚性複合シートを作製し試験に供した。但し、ラジカル捕捉物質として、0.2質量部の商標:イルガフォス168(BASFジャパン(株))(〔トリス(2,4−ジ第三ブチルフェニル)ホスファイト〕、ホスファイト系酸化防止性化合物)を用いた。得られた可撓防汚性複合シート中のラジカル捕捉物質の含有量は、光触媒粒子の質量に対して、20質量%であった。また、得られた光触媒防汚層の表面には前記ラジカル捕捉物質が露出存在していることが、FT−IR分析により確認された。得られた可撓防汚性複合シートの試験結果を表2に示す。
実施例1と同様にして可撓防汚性複合シートを作製し試験に供した。但し、ラジカル捕捉物質として、0.2質量部の商標:イルガノックスE201(BASFジャパン(株))(〔3,4−ジヒドロ−2,5,7,8−テトラメチル−2−(4,8,12−トリメチルトリデシル)−2H−ベンゾピラン−6−オール〕、ビタミンE系酸化防止性化合物)を用いた。得られた可撓防汚性複合シート中のラジカル捕捉物質の含有量は、光触媒粒子の質量に対して、20質量%であった。また、得られた光触媒防汚層の表面には前記ラジカル捕捉物質が露出存在していることが、FT−IR分析により確認された。得られた可撓防汚性複合シートの試験結果を表2に示す。
実施例2と同様にして可撓防汚性複合シートを作製し試験に供した。但し、光触媒防汚層の上層は実施例2の光触媒防汚層の上層と同一にし、光触媒防汚層下層は実施例6の光触媒防汚層(ビタミンE系酸化防止性化合物)と同様に形成した。得られた可撓防汚性複合シートの光触媒防汚層上層におけるラジカル捕捉物質の含有量は、光触媒粒子の質量に対し30質量%であり、光触媒防汚層の下層においては光触媒粒子の質量に対し20質量%の配合量であった。従って光触媒防汚上層におけるラジカル捕捉物質の配合量は、光触媒防汚下層におけるラジカル捕捉物質の配合量よりも高濃度であり、光触媒防汚層の表面近傍においてのラジカル捕捉物質の高密度偏在が明らかであった。また、得られた可撓防汚性複合シートの光触媒防汚層の表面にはFT−IRによる分析で、ラジカル捕捉物質(フェノール系酸化防止性化合物)の露出存在を確認した。得られた可撓防汚性複合シートの試験結果を表2に示す。
実施例3と同様にして可撓防汚性複合シートを作製し試験に供した。但し、ラジカル捕捉物質担持アパタイト被覆酸化チタン光触媒粒子のアパタイト部に担持させるラジカル捕捉物質として、イルガフォス168(商標)、BASFジャパン(株)(〔トリス(2,4−ジ第三ブチルフェニル)ホスファイト〕、ホスファイト系酸化防止性化合物)を用いた。得られた可撓防汚性複合シートの光触媒防汚層中のラジカル捕捉物質の含有量は、光触媒粒子の質量に対し10質量%であった。この可撓防汚性複合シートの光触媒防汚層の表面に、前記ラジカル捕捉物質(ホスファイト系酸化防止性化合物)が露出存在することを、FT−IR分析により確認した。得られた可撓防汚性複合シートの試験結果を表2に示す。
2 繊維基布
3 可撓性熱可塑性樹脂層
4 基体シート
5 可撓性光触媒防汚層
5a 上層
5b 下層
6 可撓性アクリル系樹脂層
7 接着保護層
8 接合部
9 可撓防汚性複合シートの接合体
Claims (8)
- 繊維基布と、この繊維基布の表裏両面を被覆している可撓熱可塑性樹脂層とを含む基体シートと、前記基体シートの表面の全面を被覆している可撓性光触媒防汚層と、前記シート基体の裏面の全面を被覆している可撓性アクリル系樹脂層とを含み、
前記可撓性光触媒防汚層が、光触媒粒子と、フッ化ビニリデン系樹脂含有熱可塑性樹脂バインダーと、ラジカル捕捉物質とを含み、
前記ラジカル捕捉物質が、フエノール系、ホスフアイト系、硫黄系、及びビタミンE系酸化防止性化合物から選ばれた少なくとも1種を含み、
前記可撓性光触媒防汚層中の前記ラジカル捕捉物質の含有質量が、前記光触媒粒子の含有質量の1〜50%の範囲内にあり、
かつ、前記可撓性光触媒防汚層の表面が水滴に対して15〜45度の静止水接触角を示す、
ことを特徴とする可撓防汚性複合シート。 - 前記ラジカル捕捉物質が、前記光触媒粒子の表面上に担持されている、請求項1に記載の可撓防汚性複合シート。
- 前記可撓性光触媒防汚層が、前記基体シートの可撓熱可塑性樹脂層に接する下層と、その上に形成された上層により形成され、前記上層及び下層の、光触媒粒子含有率が互に同一であり前記上層中のラジカル捕捉物質含有量の、前記光触媒粒子含有量に対する比率が前記下層のラジカル捕捉物質含有量の、前記光触媒粒子含有量に対する比率よりも高い、請求項1又は2に記載の可撓防汚性複合シート。
- 前記可撓性光触媒層が、前記基体シートの可撓熱可塑性樹脂層に接する下層と、その上に形成された上層により形成され、前記上層が前記下層よりも高い光触媒粒子含有率であり、前記上層中のラジカル捕捉物質含有量の、前記光触媒粒子含有量に対する比率が、前記下層のラジカル捕捉物質含有量の、前記光触媒粒子含有量に対する比率よりも高い、請求項1又は2に記載の可撓防汚性複合シート。
- 前記基体シートの可撓熱可塑性樹脂層と、前記可撓性光触媒防汚層との間に、アクリル系樹脂、アクリル−シリコーン共重合体系樹脂及びアクリル−フッ素化合物共重合体系樹脂から選ばれた少なくとも1種を含む接着保護層をさらに含む、請求項1〜4のいずれか1項に記載の可撓防汚性複合シート。
- 前記接着保護層が、その質量に対し、0.01〜5.0質量%の前記ラジカル捕捉物質をさらに含む、請求項5に記載の可撓防汚性複合シート。
- 請求項1〜6のいずれか1項に記載の可撓防汚性複合シートの複数枚を、その長手方向の互に隣り合う端末部において、一方の可撓防汚性複合シートの可撓性光触媒防汚層の端末部と他方の可撓防汚性複合シートの可撓性アクリル系樹脂層の端末部とが対向して、熱溶着された接合部が形成されている、可撓防汚性複合シートの接合体。
- 前記可撓防汚性複合シートの接合部に、(株)日本膜構造協会試験標準(MSAJ/M−03−2003)促進曝露試験法に従って、キセノンアーク光源(照度:180W/m2(300〜400nm))による416時間の促進曝露試験に供したとき、前記接合部の、引張り強さが、曝露試験前の初期引張り強さに対して、80%以上の保持率を有している、請求項7に記載の可撓防汚性複合シートの接合体。
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JP2011101592A JP5747236B2 (ja) | 2011-04-28 | 2011-04-28 | 可撓防汚性複合シート及びその接合体 |
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