JP2012229459A - 半導体・液晶製造装置からの排ガス処理装置用部材 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基材の表面にNi−Al合金層を形成した半導体・液晶製造装置からの排ガス処理装置用部材であって、基材の材質がNi−Cr−Mo合金またはNi−Cr−Fe合金であり、Ni−Al合金層が厚さ:10〜200μmであり、組成:Al;10〜60重量%で、CoとMoとFeとWの含有量の合計が25重量%以下で、残部:Niと不可避不純物であることを特徴とする排ガス処理装置用部材基材により、前記課題を解決する。
【選択図】なし
Description
さらに、排ガス処理装置を軽量化・小型化するためにも、排ガス処理装置用部材には金属材料を採用したいというニーズがある。
「(1) 基材の表面にNi−Al合金層を形成した半導体・液晶製造装置からの排ガス処理装置用部材であって、
前記基材の材質がNi−Cr−Mo合金またはNi−Cr−Fe合金であり、
前記Ni−Al合金層が厚さ:10〜200μmであり、組成:Al;10〜60重量%で、CoとMoとFeとWの含有量の合計が25重量%以下で、残部:Niと不可避不純物であることを特徴とする排ガス処理装置用部材。
(2) 前記Ni−Al合金層の直下にCr濃縮層を有していることを特徴とする(1)に記載の排ガス処理装置用部材。」
に特徴を有するものである。
ここで、Ni−Al合金層の厚さとしては、10μm未満であると高温での保護性の高い緻密なアルミナを形成するのには不十分である。一方、200μmを超えると基材との熱膨張差などにより、高温での繰り返し使用中にNi−Al合金層に亀裂などが発生しやすくなるため好ましくない。したがって、Ni−Al合金層の厚さは、10〜200μmと定めた。
基材の材質は、Ni−Cr−Mo合金またはNi−Cr−Fe合金を用いる。Ni−Cr−Mo合金は、固溶強化元素であるMoを含有しているため、高温強度を重視する場合に適している。また、湿潤なHFに対しても耐食性がすぐれている。Ni−Cr−Mo合金の具体例としては、重量%でCr:18.0〜20.0%、Mo:18.0〜20.0%、残部Niおよび不可避不純物の化学組成を持つ、商品名MAT(登録商標)21(UNS N06210)や、Cr:14.5〜16.5%、Mo:15.0〜17.0%、W:3.0〜4.5%、Fe:4.0〜7.0%、残部Niおよび不可避不純物の化学組成を持つ、C−276合金(UNS N10276)や、Cr:20.0〜22.5%以下、Mo:12.5〜14.5%、W:2.5〜3.5%、Fe:2.0〜6.0%、残部Niおよび不可避不純物の化学組成を持つ、22合金(UNS N06022)などがある。
一方、Ni−Cr−Fe合金は、特に高温HFガスにすぐれた耐食性を有している。Ni−Cr−Fe合金の具体例としては、重量%で、Cr:15.5%、Fe:7%、残部Niおよび不可避不純物の化学組成をもつ、いわゆる600合金OLE_LINK1OLE_LINK2(UNS N06600)OLE_LINK1OLE_LINK2や、Cr:23%、Fe:14%、残部Niおよび不可避不純物の化学組成を持つ、いわゆる601合金(UNS N06601)や、Cr:30%、Fe:9.5%、残部Niおよび不可避不純物の化学組成を持つ、いわゆる690合金(UNS N06690)などがあげられる。
なお、表1中でMAT21と示した基材は、前述したように重量%でCr:18.0〜20.0%、Mo:18.0〜20.0%、残部Niおよび不可避不純物の化学組成を持つ、商品名MAT(登録商標)21と表されるNi−Cr−Mo合金を意味しており、C−276と示した基材は、Cr:14.5〜16.5%、Mo:15.0〜17.0%、W:3.0〜4.5%、Fe:4.0〜7.0%、残部Niおよび不可避不純物の化学組成を持つ、C−276と表されるNi−Cr−Mo合金を意味しており、22合金と示した基材は、Cr:20.0〜22.5%以下、Mo:12.5〜14.5%、W:2.5〜3.5%、Fe:2.0〜6.0%、残部Niおよび不可避不純物の化学組成を持つ、22合金と表されるNi−Cr−Mo合金を意味している。
また、表1中で600合金と示した基材は、前述したように重量%で、Cr:15.5%、Fe:7%、残部Niおよび不可避不純物の化学組成をもつNi−Cr−Fe合金を示しており、601合金と示した基材は、Cr:23%、Fe:14%、残部Niおよび不可避不純物の化学組成を持つNi−Cr−Fe合金を示しており、690合金と示した基材は、Cr:30%、Fe:9.5%、残部Niおよび不可避不純物の化学組成を持つNi−Cr−Fe合金を示している。
Claims (2)
- 基材の表面にNi−Al合金層を形成した半導体・液晶製造装置からの排ガス処理装置用部材であって、
前記基材の材質がNi−Cr−Mo合金またはNi−Cr−Fe合金であり、
前記Ni−Al合金層が厚さ:10〜200μmであり、組成:Al;10〜60重量%で、CoとMoとFeとWの含有量の合計が25重量%以下で、残部:Niと不可避不純物であることを特徴とする排ガス処理装置用部材。 - 前記Ni−Al合金層の直下にCr濃縮層を有していることを特徴とする請求項1に記載の排ガス処理装置用部材。
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JP2011096824A JP2012229459A (ja) | 2011-04-25 | 2011-04-25 | 半導体・液晶製造装置からの排ガス処理装置用部材 |
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JPH10219426A (ja) * | 1997-02-04 | 1998-08-18 | Ebara Corp | 半導体製造プロセス用部材 |
JP2004269946A (ja) * | 2003-03-07 | 2004-09-30 | Hitachi Ltd | ハロゲン耐食性部材及びパーフルオロコンパウンド分解処理装置 |
JP2006028566A (ja) * | 2004-07-14 | 2006-02-02 | Mitsubishi Kakoki Kaisha Ltd | 炭化水素改質装置用部材 |
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