JP2012204839A5 - - Google Patents
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- 第1導電型半導体層と、
前記第1導電型半導体層の上に井戸層及び障壁層を有する活性層と、
前記活性層の上に第2導電型半導体層とを備え、
前記井戸層は、
前記第1導電型半導体層に最も隣接し、第1エネルギーバンドギャップを有する第1井戸層と、
前記第2導電型半導体層に最も隣接し、第3エネルギーバンドギャップを有する第3井戸層と、
前記第1井戸層と前記第3井戸層との間に位置し、第2エネルギーバンドギャップを有する第2井戸層とを備え、
前記第1導電型半導体層はn型半導体層であり、前記第2導電型半導体層はp型半導体層であり、
前記井戸層のうち前記第3井戸層が前記p型半導体層に最も隣接するように配置され、
前記第3井戸層の前記第3エネルギーバンドギャップは前記第2井戸層の前記第2エネルギーバンドギャップ及び前記第1井戸層の前記第1エネルギーバンドギャップより大きい、発光素子。 - 前記第3井戸層の厚さは前記第2井戸層の厚さより厚く、
前記第1井戸層と前記第2井戸層は組成が同一である請求項1に記載の発光素子。 - 前記第2井戸層の厚さは前記第1井戸層の厚さより厚い、請求項1または2に記載の発光素子。
- 前記第3井戸層の厚さは前記第1井戸層の厚さより厚い、請求項1乃至3のいずれかに記載の発光素子。
- 前記第3井戸層の厚さは、前記第1井戸層または第2井戸層の厚さの110%乃至130%である、請求項1乃至4のいずれかに記載の発光素子。
- 前記活性層で発光する光がブルー(Blue)光の場合、前記第3井戸層の厚さは3.9nmである、請求項1乃至5のいずれかに記載の発光素子。
- 前記第1井戸層の第1エネルギーバンドギャップは、前記第2井戸層の第2エネルギーバンドギャップと同一である、請求項1乃至6のいずれかに記載の発光素子。
- 前記第1井戸層の第1エネルギーバンドギャップと前記第3井戸層の第3エネルギーバンドギャップは互いに同一である、請求項1乃至7のいずれかに記載の発光素子。
- 前記第3井戸層の厚さは前記第2井戸層の厚さより厚い、請求項1、請求項3乃至8のいずれかに記載の発光素子。
- 前記第1井戸層の厚さは前記第2井戸層の厚さより厚い、請求項1、請求項2、請求項4乃至9のいずれかに記載の発光素子。
- 前記第3エネルギーバンドギャップは、前記第2エネルギーバンドギャップ対比101%乃至110%である、請求項1乃至10のいずれかに記載の発光素子。
- 前記活性層で発光する光がブルー(Blue)光の場合、前記第3エネルギーバンドギャップは、2.8eV乃至3.08eVである、請求項1乃至11のいずれかに記載の発光素子。
- 前記第3井戸層の第3エネルギーバンドギャップと前記第2井戸層の第2エネルギーバンドギャップ、または前記第1井戸層の第1エネルギーバンドギャップとのエネルギーギャップの差(energy gap difference)は0.1eV以内である、請求項1乃至12のいずれかに記載の発光素子。
- 前記第3井戸層で発生する光の波長は前記第2井戸層で発生する光の波長より20nm以内と、より短い、請求項1乃至13のいずれかに記載の発光素子。
- 前記第3井戸層で発生する光の波長は、前記第2井戸層で発生する光の波長より2nm以上20nm以内と、より短い、請求項1乃至14のいずれかに記載の発光素子。
- 前記井戸層はInを含み、
前記第3井戸層は、前記第2井戸層より小さなIn含有量を有する、請求項1乃至15のいずれかに記載の発光素子。 - 前記第3井戸層のIn含有量は、前記第2井戸層のIn含有量対比90%乃至99%である、請求項1乃至16のいずれかに記載の発光素子。
- 前記井戸層の組成式がInxAlyGa1−x−yN(0≦x≦1,0≦y≦1,0≦x+y≦1)の場合、
前記第3井戸層のInの組成(x3)が前記第2井戸層のInの組成(x2)対比0.02以内の範囲の小さい、請求項1乃至17のいずれかに記載の発光素子。 - 前記活性層では、実質的に同じ色の光が発光する、請求項1乃至18のいずれかに記載の発光素子。
- 前記第3井戸層、第2井戸層で発光する光の波長は異なり、かつ前記活性層で発光する光は実質的に同じ色の光である、請求項1乃至19のいずれかに記載の発光素子。
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