JP2012193055A - SiC単結晶製造方法およびそれに用いる装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】溶液法により原料溶液2からSiC種結晶基板上にSiC単結晶を成長させるための種結晶3を有する成長炉4と、該種結晶3を支え且つ種結晶3から熱を成長炉4の外部に伝達するための支持軸5と、前記原料溶液2を収容する坩堝6と、前記坩堝6を成長炉4内の内壁から距離をおいて保持するための支持部8と、前記成長炉4を囲んで成長炉外に配置されたエネルギー放出体9とを含んで成る溶液法SiC単結晶製造装置1を用いるSiC単結晶製造方法であって、前記支持部8の少なくとも一部として、坩堝6を支える方向の熱伝導率(TCV)と前記方向に垂直な方向の熱伝導率(TCH)との間にTCH>TCVの関係を有する部材から構成されてなる伝熱異方性支持部11を用いる。
【選択図】図1
Description
この多結晶生成の問題は、昇華法によるSiC単結晶の成長法においても存在する。
一方、この多結晶の生成を防止若しくは抑制する必要性は化合物半導体などの半導体単結晶の製造においても解決すべき課題であり、さまざまな検討がされている。
従って、本発明の目的は、成長炉内を均熱化することが可能であり種結晶近傍でのSiC多結晶の発生を抑制し得る溶液法によるSiC単結晶製造方法およびそれに用いる装置を提供することである。
前記種結晶を支え且つ種結晶から熱を成長炉の外部に伝達するための支持軸と、
前記原料溶液を収容する坩堝と、
前記坩堝を成長炉内の内壁から距離をおいて保持するための支持部と、
前記成長炉を囲んで成長炉外に配置されたエネルギー放出体と
を含んで成る溶液法SiC単結晶製造装置を用いるSiC単結晶製造方法であって、
前記支持部の少なくとも一部として、坩堝を支える方向の熱伝導率(TCV)と前記方向に垂直な方向の熱伝導率(TCH)との間にTCH>TCVの関係を有する部材から構成されてなる伝熱異方性支持部を用いる、前記方法に関する。
前記種結晶を支え且つ種結晶から熱を成長炉の外部に伝達するための支持軸と、
前記原料溶液を収容する坩堝と、
前記坩堝を成長炉内の内壁から距離をおいて保持するための支持部と、
前記成長炉を囲んで成長炉外に配置されたエネルギー放出体と
を含んで成る溶液法SiC単結晶製造装置であって、
前記支持部の少なくとも一部が、坩堝を支える方向の熱伝導率(TCV)と前記方向に垂直な方向の熱伝導率(TCH)との間にTCH>TCVの関係を有する部材から構成されてなる伝熱異方性支持部である、前記装置に関する。
1)前記伝熱異方性支持部が、パイロリティック・カーボン製である前記装置。
2)前記支持部が、坩堝から近い順に前記伝熱異方性支持部および金属支持部がこの順に接続されて成る前記装置。
3)前記支持部が、さらに中空リングを備えて成る前記装置。
4)前記中空リングが、黒鉛製中空リング体である前記装置。
5)前記支持部と坩堝との間に、炭素製の断熱材が設けられている前記装置。
図1において、本発明の実施態様のSiC単結晶成長装置1は、溶液法により原料溶液2からSiC種結晶基板上にSiC単結晶を成長させるための種結晶3を有する成長炉4と、前記種結晶を支え且つ種結晶から熱を成長炉の外部に伝達するための支持軸5と、前記原料溶液を収容する坩堝6と、坩堝6からの放熱を防ぐための断熱材7と、坩堝6を成長炉4内の内壁から距離をおいて保持するための成長炉外の支持台によって支持されている支持部8と、成長炉を囲んで成長炉外に配置されたエネルギー放出体9とを含んでなり、前記支持部8の少なくとも一部が、坩堝6を支える方向の熱伝導率(TCV)と前記方向に垂直な方向の熱伝導率(TCH)との間にTCH>TCVの関係を有する部材から構成されてなる伝熱異方性支持部11であり、さらにエネルギー放出体9から出力されたエネルギーによって発熱して成長炉4内を加熱するための断熱材7の内側に設けられた発熱部材12、支持部8の上端部に炭素製の断熱材13、および支持部8を伝熱異方性支持部11とともに構成する黒鉛製中空リング体14およびその下方のステンレス製支持体15を備えてなる。
また、前記伝熱異方性支持部11とステンレス製支持体15との黒鉛製中空リング体14を介しての接続は、任意の手段、例えば機械的又は物理的な接続機構によってなされ得る。
本発明の実施態様の溶液法SiC単結晶製造方法および装置によれば、成長炉内を均熱化することが可能であり種結晶近傍に多結晶が付着していないか極めて少なくし得る。
このため、従来の溶液法製造装置によれば、種結晶に多結晶が付着し得る。
また、本発明の前記実施態様のSiC単結晶成長装置において、坩堝は通常炭素製であって原料溶液に炭素(C)を溶出してSiCの炭素源となり得る。そして、この坩堝は単一の構成材からなるものであってもよいが、中坩堝および外坩堝から構成されてもよい。
また、本発明の実施態様のSiC単結晶成長装置において、複数の異なるエネルギーを放出可能なエネルギー放出体としては高周波エネルギーを放出する高周波コイルが挙げられる。また、本発明のSiC単結晶成長装置において、前記発熱部材は例えば黒鉛製であり得て、通常サセプターと呼ばれるものが用いられ得る。
このような部材としては、パイロリティック・カーボン(pyrolytic carbon)製の支持部材が挙げられ、このような部材は例えば巴工業社から市販(商品名:PG部品)されている。
本発明のSiC単結晶成長装置においては、前記の構成を必須要件とするものであるが、図1に示すように、坩堝の下部に中空の黒鉛製中空リング14のような中空リングが設けられることにより、坩堝6から熱が放出されるのをさらに抑制し得る。
また、本発明の実施態様のSiC単結晶成長装置における支持部8の上端部の断熱材としては、炭素製の断熱材が挙げられ、通常多孔質カーボンとして用いられる炭素製シート1枚以上、例えば2枚以上積層したものが用いられ得る。
本発明の実施態様のSiC単結晶成長装置において、前記発熱部材は、一体的であり得て鉛直方向の長さが坩堝の長さの1.5倍以上、特に2倍以上であり得て、炉内の空間全体を均一に加熱し得る。
そして、本発明の実施態様のSiC単結晶製造装置を用いれば、少なくとも2個の高周波コイルのエネルギー出力比率、例えば電流比率を変えることにより、坩堝内の溶液中の深さ方向の温度分布を狭い範囲で付与することが可能となり、溶液内での対流を起こし易くなり、炭素(C)濃度の均一化が達成し得て、経時的なSiC単結晶成長の変化を抑制し得る。
前記の原料溶液の温度は1800〜2100℃、特に1850〜2050℃程度であり得る。
例えば、高周波コイルから出力されたエネルギーを受けた発熱部材による間接的な加熱による加熱時間(原料の仕込みからSiC飽和濃度に達するまでの凡その時間)としては坩堝の大きさにもよるが20分間〜50時間程度(例えば1〜50時間程度)で、雰囲気としては希ガス、例えばHe、Ne、Arなどの不活性ガスやそれらの一部をN2やメタンガスで置き換えたものが挙げられる。
本発明のSiC単結晶製造装置を用いることによって、2000℃程度の高温、例えば1800〜2100℃、特に1850〜2050℃程度の溶液温度で長時間、例えば1時間以上、多結晶の成長を防止乃至は抑制したSiC単結晶を得ることができる。
以下の各例において、実験は以下の条件で行った。
溶液温度:1900℃
ガス流量:5L/分
伝熱異方性支持部としてパイロリティック・カーボン製支持部を用い、図1に示す本発明の実施態様のSiC単結晶製造装置を用いて、図3に模式的に示す測定法によって行った。
得られた坩堝内の深さ方向の温度分布をまとめて図4に示す。
図2に示す従来の溶液法によるSiC単結晶製造装置を用いて、図3に模式的に示す測定法によって行った。
得られた坩堝内の深さ方向の温度分布を図4に示す。
4 成長炉
2 原料溶液
3 種結晶
5 支持軸
6 坩堝
7 断熱材
8 支持部
9 エネルギー放出体
10 従来のSiC単結晶製造装置
11 伝熱異方性支持部
12 発熱部材
13 炭素製の断熱材
14 黒鉛製中空リング体
15 ステンレス製支持体
16 冷却機構
18 等方性黒鉛製の支持部材
Claims (7)
- 溶液法により原料溶液からSiC種結晶基板上にSiC単結晶を成長させるための種結晶を有する成長炉と、
前記種結晶を支え且つ種結晶から熱を成長炉の外部に伝達するための支持軸と、
前記原料溶液を収容する坩堝と、
前記坩堝を成長炉内の内壁から距離をおいて保持するための支持部と、
前記成長炉を囲んで成長炉外に配置されたエネルギー放出体と
を含んで成る溶液法SiC単結晶製造装置を用いるSiC単結晶製造方法であって、
前記支持部の少なくとも一部として、坩堝を支える方向の熱伝導率(TCV)と前記方向に垂直な方向の熱伝導率(TCH)との間にTCH>TCVの関係を有する部材から構成されてなる伝熱異方性支持部を用いる、前記方法。 - 溶液法により原料溶液からSiC種結晶基板上にSiC単結晶を成長させるための種結晶を有する成長炉と、
前記種結晶を支え且つ種結晶から熱を成長炉の外部に伝達するための支持軸と、
前記原料溶液を収容する坩堝と、
前記坩堝を成長炉内の内壁から距離をおいて保持するための支持部と、
前記成長炉を囲んで成長炉外に配置されたエネルギー放出体と
を含んで成る溶液法SiC単結晶製造装置であって、
前記支持部の少なくとも一部が、坩堝を支える方向の熱伝導率(TCV)と前記方向に垂直な方向の熱伝導率(TCH)との間にTCH>TCVの関係を有する部材から構成されてなる伝熱異方性支持部である、前記装置。 - 前記伝熱異方性支持部が、パイロリティック・カーボン製である請求項2に記載の装置。
- 前記支持部が、坩堝から近い順に前記伝熱異方性支持部および金属支持部がこの順に接続されて成る請求項2又は3に記載の装置。
- 前記支持部が、さらに中空リングを備えて成る請求項2〜4のいずれか1項に記載の装置。
- 前記中空リングが、黒鉛製中空リング体である請求項5に記載の装置。
- 前記支持部と坩堝との間に、炭素製の断熱材が設けられている請求項2〜6のいずれか1項に記載の装置。
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