JP2012182492A - 極端紫外光用ミラー、極端紫外光用ミラーの製造方法及び極端紫外光源装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】EUV集光ミラー130の表面131には、Mo/Siの多層膜が設けられており、この多層膜にブレーズド溝133が形成される。プラズマ201から放射された光202は、EUV集光ミラー130に入射し、反射または回折する。EUV反射光203(EUV回折光を含む)は、中間集光点IFに向けて進む。他の波長の光は、反射角度または回折角度が異なるため、IFから外れた位置に進む。IFには、開口部151を有するSPF用アパーチャ150が設けられている。従って、EUV光のみが開口部151を通過して露光機に供給され、他の光はアパーチャ150により遮光される。
【選択図】図1
Description
図1〜図4に基づいて第1実施形態を説明する。図1は、EUV集光ミラー130を拡大して示す説明図、図2は、EUV集光ミラー130を備えるEUV光源装置1の説明図、図3は、EUV集光ミラー130に設けられるブレーズド溝の説明図、図4は、EUV光の入射角度に応じてペア層の厚みを設定するための特性図である。先に図2を参照してEUV光源装置1の構成を説明し、次に図1等を参照してEUV集光ミラー130の構成を説明する。
以下、図5〜図7に基づいて第2実施形態を説明する。以下に述べる各実施形態は、第1実施形態の変形例に相当する。従って、第1実施形態との相違点を中心に説明する。本実施形態と第1実施形態との相違点は、ブレーズド溝の角度が逆である点と、その相違点に伴ってダンパ105が新たに設けられている点とにある。
図8,図9に基づいて第3実施形態を説明する。本実施形態では、ブレーズド溝の変形例について説明する。図8は、EUV集光ミラー130を正面からみた図である。図8(a)に示すように、ブレーズド溝133を同心円状に形成してもよいし、あるいは、図8(b)に示すように平行な直線状に形成してもよい。
図10に基づいて第4実施形態を説明する。以下、SPF機能を有するEUV集光ミラー130の製造方法について幾つかの例を説明する。
図11に基づいて第5実施形態を説明する。本実施形態では、EUV光の集まる中間集光点IFに対応する位置を回動軸412(IF)とし、イオンミリング装置410及びマスク420を回動させる。
図12に基づいて第6実施形態を説明する。本実施形態では、図12(a)に示すように、回動412(201)の位置を、プラズマ201の発生点に設定する。さらに、図12(b)に示すように、EUV集光ミラー130の半径に相当する長さのマスク420Aを用い、この長いマスク420Aには各ブレーズド溝に対応するパターン421をそれぞれ設けておく。従って、イオンミリング装置410を径方向に揺動させながらイオンビームを照射するだけで、各ブレーズド溝を形成することができる。
図13〜図15に基づいて第7実施形態を説明する。本実施形態のEUV集光ミラー130Bは、ブレーズド溝に代えて、三角波状の溝133Bを備える。本実施形態のEUV集光ミラー130Bでは、基板部135の表面を覆う多層膜に、三角波状の溝133Bを一体的に形成する。第1実施形態と同様に、本実施形態においても、Mo/Siペア層の多層膜を例えば300層積層し、表面から250層分を三角波状または三角屋根型に形成する。図13中、軸線AX1a,AX1bは、基板部135に垂直な軸を示し、他の軸線AX2a,AX2bは、三角波状の溝133Bの斜面に垂直な軸を示す。
図16〜図18に基づいて第8実施形態を説明する。本実施形態のEUV集光ミラー130Cは、波状の溝133Cを備える。波状の例として、正弦波状を挙げることができる。本実施形態においても、Mo/Siペア層の多層膜を例えば300層積層し、表面から250層分を波状に形成する。図13中、軸線AX1L,AX1Rは、基板部135に垂直な軸を示し、他の軸線AX2L,AX2Rは、円弧状の面に垂直な軸を示す。符号133C1は波の頂上を、符号133C2は波の谷をそれぞれ示す。
前記ドライバレーザは、炭酸ガスレーザであってもよい。
前記磁界生成部は、前記磁界を形成するための複数のコイルを含んでもよい。
前記ターゲット供給装置は、ドロップレットの形態で前記ターゲットを前記チャンバ内に供給するように構成されていてもよい。
前記ターゲットの材料は、Snであってもよい。
前記極端紫外光用ミラーを加熱するヒータをさらに備えてもよい。
前記チャンバ内の前記水素ガス、前記ハロゲンガス、前記水素ハロゲンガスおよび前記アルゴンガスのうち少なくとも1つを励起するための電磁波を生成するように構成された電磁波生成部をさらに備えてもよい。
前記遮光部は、前記ターゲットが前記プラズマへ状態変化する領域と前記露光装置との間に配置されていてもよい。
前記遮光部は、当該遮光部を冷却する冷却部を含んでもよい。
前記遮光部は、前記集光点に集光された前記光が通過するアパーチャを含んでもよい。
前記アパーチャの開口径は、10mm(ミリメートル)以下であってもよい。
前記アパーチャの開口径は、4mm以上6mm以下であってもよい。
前記溝は、前記第1焦点と前記第2焦点とを通る軸に対して同心円状に配置されていてもよい。
前記極端紫外光用ミラーは、楕円ミラーおよび放物面ミラーのうちいずれか一方であってもよい。
前記溝は、前記楕円ミラーおよび前記放物面ミラーのうちいずれか一方の前記多層反射面の対称軸に対して同心円状に配置されていてもよい。
隣接する前記溝同士の最下部の間の距離は、300μm以上800μm以下であってもよい。
前記表面コーティングの材料は、ルテニウムを含んでもよい。
前記極端紫外光用ミラーは、前記プラズマから放射した前記極端紫外光が直接入射する位置に配置されていてもよい。
前記溝は、前記ターゲットによって反射または散乱した前記レーザ光を回折するように構成されていてもよい。
前記溝は、前記ターゲットによって反射または散乱した前記レーザ光が所定の位置に集光するように、該反射または散乱したレーザ光を回折してもよい。
前記ターゲットによって反射または散乱した前記レーザ光が前記極端紫外光の集光点とは異なる位置に集光するように、該反射または散乱したレーザ光を回折してもよい。
前記多層反射面は、ブラッグ反射によって前記極端紫外光を前記集光点に集光するように構成されていてもよい。
前記溝は、少なくとも前記ドライバレーザからの前記レーザ光の波長と同じ波長の光の回折光が前記極端紫外光の集光点とは異なる位置に集光するように、前記光を回折してもよい。
Claims (17)
- 極端紫外光を反射させるミラーであって、
基板部と、
前記基板部の前記一面側に設けられる基礎部であって、前記基板部の前記一面側に設けられる第1多層膜から形成される基礎部と、
前記基礎部の一面側に一体的に設けられる反射部であって、前記基礎部の前記一面側に設けられる第2多層膜に所定形状の溝を形成することにより生成される反射部と、
を備える極端紫外光用ミラー。 - 前記反射部は焦点を有するように形成されており、前記反射部により反射される極端紫外光は、前記焦点に集まるようになっている請求項1に記載の極端紫外光用ミラー。
- 前記焦点の近傍には、前記極端紫外光を通過させるための開口部を有する遮光部材が設けられる請求項1または請求項2に記載の極端紫外光用ミラー。
- 前記第1多層膜及び前記第2多層膜は一体的に形成されており、前記第1多層膜及び前記第2多層膜をそれぞれ構成する複数のペア層の厚み寸法は、入射する極端紫外光の角度に応じて設定される請求項1または請求項2に記載の極端紫外光用ミラー。
- 前記所定形状の溝は、ブレーズド状の溝として形成される請求項1に記載の極端紫外光用ミラー。
- 前記所定形状の溝は、三角波状の溝として形成される請求項1に記載の極端紫外光用ミラー。
- 前記所定形状の溝は、波状の溝として形成される請求項1に記載の極端紫外光用ミラー。
- 前記所定形状の溝は、同心円状または平行線状に設けられる請求項1に記載の極端紫外光用ミラー。
- 前記第1多層膜及び前記第2多層膜を構成するペア層の合計数は、100以上1000以下の範囲である請求項1に記載の極端紫外光用ミラー。
- 極端紫外光用ミラーを製造するための方法であって、
所定層数の多層膜が一面側に形成された基板部を回転させながら、所定のマスクを介して加工用ビームを前記多層膜に照射することにより、前記多層膜の一部を除去して所定形状の溝を形成する、極端紫外光用ミラーの製造方法。 - 前記加工用ビームを所定の回動軸を中心として回動させながら前記多層膜に向けて照射させる請求項10に記載の極端紫外光用ミラーの製造方法。
- 前記所定の回動軸は、前記プラズマの発生点に対応して設定される請求項11に記載の極端紫外光用ミラーの製造方法。
- 前記反射部は焦点を有しており、
前記所定の回動軸は、前記焦点の位置に対応して設定される請求項11に記載の極端紫外光用ミラーの製造方法。 - レーザ光をターゲット物質に照射してプラズマ化させることにより、極端紫外光を発生させる極端紫外光源装置であって、
第1排気ポンプが設けられている第1チャンバと、
前記第1チャンバに接続され、第2排気ポンプが設けられている第2チャンバと、
前記第1チャンバ内に前記ターゲット物質を供給するターゲット物質供給手段と、
前記ターゲット物質にレーザ光を照射することにより、前記ターゲット物質をプラズマ化させて極端紫外光を放射させるためのレーザ光源と、
前記プラズマから放射される前記極端紫外光を集光する極端紫外光用集光ミラーであって、前記プラズマから入射する前記極端紫外光を前記第2チャンバ内に設けられる焦点に向けて反射させる極端紫外光用ミラーと、
前記焦点の近傍に設けられる遮光手段であって、前記極端紫外光を通過させるための開口部を有し、前記開口部以外の部分では前記極端紫外光以外の波長の電磁波を減衰させる遮光手段と、
前記焦点に集まる前記極端紫外光を出力する出口部を連通または遮断するための遮断弁とを備え、さらに、
前記極端紫外光用ミラーは、一面が少なくとも一つ以上の曲率を有して形成される基板部と、前記基板部の前記一面側に設けられる基礎部であって、前記基板部の前記一面側に設けられる第1多層膜から形成される基礎部と、前記基礎部の一面側に一体的に設けられる反射部であって、前記基礎部の前記一面側に設けられる第2多層膜に所定形状の溝を形成することにより生成される反射部と、を備えて構成されることを特徴とする極端紫外光源装置。 - 前記所定形状の溝は、ブレーズド状の溝、または、三角波状の溝として形成される請求項14に記載の極端紫外光源装置。
- 前記反射部によって反射される前記レーザ光が集光する位置に、この反射されたレーザ光を吸収するための吸収手段を設けた請求項14に記載の極端紫外光源装置。
- 複数の磁場発生手段を備え、これら磁場発生手段から生じる磁場によって、前記プラズマから放出される荷電粒子を捕捉させる請求項14または請求項15に記載の極端紫外光源装置。
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