JP2002184690A - 格子素子を備えた照明光学系 - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 不用な波長を光源ユニットのすぐ下流側で選
別することができ、また、特に熱的な負荷に関して問題
の多いフィルターフィルムの代わりの役割を果たすこと
のできる１００ｎｍ以下の波長、とりわけ極短紫外線領
域に用いられる照明光学系を提供する。 【解決手段】 本発明は、物体面とフィールド面とを有
した、特に１００ｎｍ以下の波長に対して用いられる照
明光学系に関するものである。本発明は、格子素子を少
なくとも一つ有するとともに、物体面からフィールド面
に至る光路内において、格子素子の下流側に位置する絞
り面に物理的な絞りを少なくとも一つ有していることを
特徴とする。
別することができ、また、特に熱的な負荷に関して問題
の多いフィルターフィルムの代わりの役割を果たすこと
のできる１００ｎｍ以下の波長、とりわけ極短紫外線領
域に用いられる照明光学系を提供する。 【解決手段】 本発明は、物体面とフィールド面とを有
した、特に１００ｎｍ以下の波長に対して用いられる照
明光学系に関するものである。本発明は、格子素子を少
なくとも一つ有するとともに、物体面からフィールド面
に至る光路内において、格子素子の下流側に位置する絞
り面に物理的な絞りを少なくとも一つ有していることを
特徴とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、１００ｎｍ以下の
波長に用いられる照明光学系に関し、とりわけ、物体面
とフィールド面とを有した照明光学系に関する。
波長に用いられる照明光学系に関し、とりわけ、物体面
とフィールド面とを有した照明光学系に関する。
【０００２】１００ｎｍ以下の波長に用いられる照明光
学系においては、このような照明光学系に用いられる光
源から放射される光によって、ウェハ面にある感光物を
思うように露光できなかったり、例えば多層膜反射鏡と
いった露光装置の光学素子が加熱されたりするといった
問題が存在している。
学系においては、このような照明光学系に用いられる光
源から放射される光によって、ウェハ面にある感光物を
思うように露光できなかったり、例えば多層膜反射鏡と
いった露光装置の光学素子が加熱されたりするといった
問題が存在している。
【０００３】望まざる不用な光を取り去るために、１０
０ｎｍ以下の波長に用いられる照明光学系内に、透過フ
ィルターが用いられる。この種のフィルターは、光量の
損失が大きいという欠点を有している。しかも、この種
のフィルターは、熱の負荷がかかるとすぐに破壊されて
しまう可能性がある。
０ｎｍ以下の波長に用いられる照明光学系内に、透過フ
ィルターが用いられる。この種のフィルターは、光量の
損失が大きいという欠点を有している。しかも、この種
のフィルターは、熱の負荷がかかるとすぐに破壊されて
しまう可能性がある。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、１０
０ｎｍ以下の波長、とりわけ極短紫外線領域（EUV領
域）に用いられる照明光学系を提供し、上記の問題点を
回避できるようにすることにある。
０ｎｍ以下の波長、とりわけ極短紫外線領域（EUV領
域）に用いられる照明光学系を提供し、上記の問題点を
回避できるようにすることにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】この課題は、本発明によ
り、格子素子を少なくとも一つ有するとともに、物体面
からフィールド面に至る光路内において、前記格子素子
の下流側に位置する絞り面に物理的な絞りを少なくとも
一つ有している照明光学系を用いることによって解決さ
れる。
り、格子素子を少なくとも一つ有するとともに、物体面
からフィールド面に至る光路内において、前記格子素子
の下流側に位置する絞り面に物理的な絞りを少なくとも
一つ有している照明光学系を用いることによって解決さ
れる。
【０００６】例えば反射型回折格子、とりわけ、ブレー
ズ格子とも称されるエシェレット格子といった格子素子
は、シンクロトロン放射光源用モノクロメータの構成よ
り、かなり以前から知られるものであって、優れた経験
の蓄積、とりわけ、非常に高いフラックスの場合におけ
る経験の蓄積がある。
ズ格子とも称されるエシェレット格子といった格子素子
は、シンクロトロン放射光源用モノクロメータの構成よ
り、かなり以前から知られるものであって、優れた経験
の蓄積、とりわけ、非常に高いフラックスの場合におけ
る経験の蓄積がある。
【０００７】モノクロメータ内の回折格子の利用に関し
ては、以下の出版物に示されており、これらの開示内容
は、本願に包括的に取り入れられている。 H. Petersen, C. Jung, C. Hellwig, W. B. Peatman,
W. Gudat : "Review ofplane grating focusing for so
ft x-ray monochromators", Rev. Sci. Instrum. 66
(1), January 1995 M. V. R. K. Murty : "Use of convergent and diverge
nt illumination withplane gratings", Journal of th
e Optical Society of America, Vol. 52, No. 7, july
1962, S. 768-773 T. Oshio, E. Ishiguro, R. Iwanaga : "A theory of n
ew astigmatism- andcoma-free spectrometer", Nuclea
r Instruments and Methods 208 (1993) 297-301 である。
ては、以下の出版物に示されており、これらの開示内容
は、本願に包括的に取り入れられている。 H. Petersen, C. Jung, C. Hellwig, W. B. Peatman,
W. Gudat : "Review ofplane grating focusing for so
ft x-ray monochromators", Rev. Sci. Instrum. 66
(1), January 1995 M. V. R. K. Murty : "Use of convergent and diverge
nt illumination withplane gratings", Journal of th
e Optical Society of America, Vol. 52, No. 7, july
1962, S. 768-773 T. Oshio, E. Ishiguro, R. Iwanaga : "A theory of n
ew astigmatism- andcoma-free spectrometer", Nuclea
r Instruments and Methods 208 (1993) 297-301 である。
【０００８】さて、本発明者らは、個々の回折の次数、
及び個々の波長が互いに明確に分離されれば、１００nm
以下の波長に用いられる照明光学系内で分光による選別
を行なうことを目的として、物体面からフィールド面に
至る光路内で格子素子を用いればよいことを見出した。
及び個々の波長が互いに明確に分離されれば、１００nm
以下の波長に用いられる照明光学系内で分光による選別
を行なうことを目的として、物体面からフィールド面に
至る光路内で格子素子を用いればよいことを見出した。
【０００９】このことは、集束する光束内の格子素子に
対して最も容易に実現される。この集束する光束は、有
限の直径の焦点を有する。
対して最も容易に実現される。この集束する光束は、有
限の直径の焦点を有する。
【００１０】集束する光路内の格子素子を用いて、物理
的な絞りの置かれた平面（本明細書中、絞り面というこ
ともある）に非点収差無しで物体を結像させるために、
本発明の第一の態様において、光学素子が子午面内にお
いて凹に湾曲するものであってもよい。光学素子の子午
面とは、ここでは、格子素子の支持面、及び格子素子の
格子線に対して垂直に配される平面のことをいう。
的な絞りの置かれた平面（本明細書中、絞り面というこ
ともある）に非点収差無しで物体を結像させるために、
本発明の第一の態様において、光学素子が子午面内にお
いて凹に湾曲するものであってもよい。光学素子の子午
面とは、ここでは、格子素子の支持面、及び格子素子の
格子線に対して垂直に配される平面のことをいう。
【００１１】上記の態様に代わる、もしくは上記の態様
を補完する態様として、光学素子がサジタル面内におい
て凸に湾曲されていてもよい。ここで、サジタル面と
は、上記支持面及び上記子午面に垂直で、格子素子の中
点を含む面のことをいう。
を補完する態様として、光学素子がサジタル面内におい
て凸に湾曲されていてもよい。ここで、サジタル面と
は、上記支持面及び上記子午面に垂直で、格子素子の中
点を含む面のことをいう。
【００１２】内側の回折の次数（ｋ＝１，２，３）を用
いる場合、子午面の方向における屈折力は、サジタル面
の方向におけるものよりも強いものとされている。つま
り、上記素子は、例えば子午面の方向に凹形、かつ、サ
ジタル面の方向に平面形、あるいは、子午面の方向に平
面形、かつ、サジタル面の方向に凸形、あるいは、子午
面の方向に凹形、かつ、サジタル面の方向に凸形に形成
されている。
いる場合、子午面の方向における屈折力は、サジタル面
の方向におけるものよりも強いものとされている。つま
り、上記素子は、例えば子午面の方向に凹形、かつ、サ
ジタル面の方向に平面形、あるいは、子午面の方向に平
面形、かつ、サジタル面の方向に凸形、あるいは、子午
面の方向に凹形、かつ、サジタル面の方向に凸形に形成
されている。
【００１３】外側の回折の次数（ｋ＝−１，−２，−
３）を用いる場合、サジタル面の方向における屈折力
は、子午面の方向におけるものよりも強いものとされて
いる。つまり、上記素子は、サジタル面の方向に凹形、
かつ、子午面の方向に平面形、あるいは、サジタル面の
方向に平面形、かつ、子午面の方向に凸形、あるいは、
サジタル面の方向に凹形、かつ、子午面の方向に凸形に
形成されている。
３）を用いる場合、サジタル面の方向における屈折力
は、子午面の方向におけるものよりも強いものとされて
いる。つまり、上記素子は、サジタル面の方向に凹形、
かつ、子午面の方向に平面形、あるいは、サジタル面の
方向に平面形、かつ、子午面の方向に凸形、あるいは、
サジタル面の方向に凹形、かつ、子午面の方向に凸形に
形成されている。
【００１４】この明細書においては、法線方向に対して
向かってくる方向に回折される次数のものを内側の次数
と称して正の数を有するものとし、法線方向に対して離
れる方向に回折される次数のものを外側の次数と称して
負の数を有するものとする。
向かってくる方向に回折される次数のものを内側の次数
と称して正の数を有するものとし、法線方向に対して離
れる方向に回折される次数のものを外側の次数と称して
負の数を有するものとする。
【００１５】本発明に係るさらなる態様において、非点
収差のない結像は、格子線の間隔を変えることによって
得ることができる。
収差のない結像は、格子線の間隔を変えることによって
得ることができる。
【００１６】本発明に係る少なくとも一つの物理的な絞
りによって、特に０次の回折の次数の回折光（本明細書
中、単に０次の回折、もしくは０次の回折光と称する場
合もある）を遮断することにより、１００ｎｍをはるか
に超えるような波長を有した光が、照明光学系内に達し
ないようにすることが概ね可能となる。この一つの物理
的な絞りによって、使用される次数の光以外の全ての回
折光が遮断されることが好ましい。使用される回折の次
数は、例えば１次である。
りによって、特に０次の回折の次数の回折光（本明細書
中、単に０次の回折、もしくは０次の回折光と称する場
合もある）を遮断することにより、１００ｎｍをはるか
に超えるような波長を有した光が、照明光学系内に達し
ないようにすることが概ね可能となる。この一つの物理
的な絞りによって、使用される次数の光以外の全ての回
折光が遮断されることが好ましい。使用される回折の次
数は、例えば１次である。
【００１７】格子及び物理的な絞りの組み合わせによっ
て、物理的な絞りの後の光線が７〜２６ｎｍの領域の波
長を有するものであれば、とりわけ好ましい。
て、物理的な絞りの後の光線が７〜２６ｎｍの領域の波
長を有するものであれば、とりわけ好ましい。
【００１８】格子素子は、あらかじめ設定された回折の
次数において最大の効率が得られるように最適化された
ブレーズ格子として設けられていることが好ましい。ブ
レーズ格子については、例えば「Lexikon der Optik
（光学辞典）」、Heinz Haferkorn 編、VEB Bibliograp
hisches Institut, Leipzig（ライプチッヒ） 1990, ４
８〜４９ページに記載されている。ブレーズ格子は、い
わば三角形に近似される溝形状をなすものである。
次数において最大の効率が得られるように最適化された
ブレーズ格子として設けられていることが好ましい。ブ
レーズ格子については、例えば「Lexikon der Optik
（光学辞典）」、Heinz Haferkorn 編、VEB Bibliograp
hisches Institut, Leipzig（ライプチッヒ） 1990, ４
８〜４９ページに記載されている。ブレーズ格子は、い
わば三角形に近似される溝形状をなすものである。
【００１９】上記絞り面にある上記物理的な絞りでの過
大な熱的負荷を回避するため、照明光学系内において、
さらに他の絞りによって不用な光の一部を取り除くこと
もできる。
大な熱的負荷を回避するため、照明光学系内において、
さらに他の絞りによって不用な光の一部を取り除くこと
もできる。
【００２０】本発明は、斯かる照明光学系の他にも、こ
の種の照明光学系を備えた投影露光装置、ならびにマイ
クロ電子デバイスを製造するための製造方法を提供す
る。
の種の照明光学系を備えた投影露光装置、ならびにマイ
クロ電子デバイスを製造するための製造方法を提供す
る。
【００２１】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態を図面に
基づき詳述する。
基づき詳述する。
【００２２】図１に、格子素子１、及び絞り面にある物
理的な絞りを有した照明光学系が示されている。光源３
の光は、ここに示された照明光学系においては、集光素
子によって集光器５に集められる。集光器５は、本実施
形態においては、光源３の像を生成する楕円形の反射鏡
とされている。集束する光束は、集光器５の下流側でＮ
Ａ＝０．１の開口数を有し、格子素子１上に斜入射し
て、物理的な絞り７．３の絞り面内、もしくはその近く
に光源の中間像がくるように方向が転じられる。
理的な絞りを有した照明光学系が示されている。光源３
の光は、ここに示された照明光学系においては、集光素
子によって集光器５に集められる。集光器５は、本実施
形態においては、光源３の像を生成する楕円形の反射鏡
とされている。集束する光束は、集光器５の下流側でＮ
Ａ＝０．１の開口数を有し、格子素子１上に斜入射し
て、物理的な絞り７．３の絞り面内、もしくはその近く
に光源の中間像がくるように方向が転じられる。
【００２３】上記物理的な絞り７．３の上流側に配置さ
れた複数の部分的な絞り７．１，７．２によって、不用
な光を前もって取り除くことができ、これにより、所望
の回折の次数の回折光、ここでは−１次の回折光１６と
されているが、この回折光の焦平面に存在する円形の開
口形状を有した物理的な絞り７．３における熱的負荷が
低減される。ここでは図示しないが、これらの部分的な
絞り７．１，７．２は、さらに冷却されてもよい。格子
素子１も背面側を冷却するなどの方法で冷却することが
できる。格子素子１の背面側の冷却装置８は、供給口及
び排出口１０．１，１０．２を有した何らかの流体によ
る冷却装置であることが好ましい。上記格子素子１及び
物理的な絞り７．３によって、光源の全ての波長の光を
含んだ０次の回折光が、本発明に係る照明光学系内で完
全に遮断される。さらに、−１次の回折光以外の全ての
次数の回折光が遮断される。
れた複数の部分的な絞り７．１，７．２によって、不用
な光を前もって取り除くことができ、これにより、所望
の回折の次数の回折光、ここでは−１次の回折光１６と
されているが、この回折光の焦平面に存在する円形の開
口形状を有した物理的な絞り７．３における熱的負荷が
低減される。ここでは図示しないが、これらの部分的な
絞り７．１，７．２は、さらに冷却されてもよい。格子
素子１も背面側を冷却するなどの方法で冷却することが
できる。格子素子１の背面側の冷却装置８は、供給口及
び排出口１０．１，１０．２を有した何らかの流体によ
る冷却装置であることが好ましい。上記格子素子１及び
物理的な絞り７．３によって、光源の全ての波長の光を
含んだ０次の回折光が、本発明に係る照明光学系内で完
全に遮断される。さらに、−１次の回折光以外の全ての
次数の回折光が遮断される。
【００２４】図１に示すような集光器を有した照明光学
系に、格子間隔が等しい平面格子とされた回折格子を配
設すると、光源は非点収差を有して結像される。異なる
回折の次数を有した複数の回折光を互いにうまく分離で
きるようにするためには、０次の回折光ではないある次
数の回折光に対して、物理的な絞り７．３の平面に、光
源３が非点収差無く結像されることが不可欠である。
系に、格子間隔が等しい平面格子とされた回折格子を配
設すると、光源は非点収差を有して結像される。異なる
回折の次数を有した複数の回折光を互いにうまく分離で
きるようにするためには、０次の回折光ではないある次
数の回折光に対して、物理的な絞り７．３の平面に、光
源３が非点収差無く結像されることが不可欠である。
【００２５】ところで、このような非点収差を修正する
ためには、様々な方法を試みることができる。例えば、
子午面、あるいはサジタル面内での屈折力を増し加えた
り、あるいは格子線の間隔を変えたりすることができ
る。
ためには、様々な方法を試みることができる。例えば、
子午面、あるいはサジタル面内での屈折力を増し加えた
り、あるいは格子線の間隔を変えたりすることができ
る。
【００２６】以下に、この点に関して導き出してみた
い。
い。
【００２７】以下の考察に対する出発点は、平行な光束
に対する回折格子の式、 Ｎｋ・λ＝sinα＋sinβ （１） である。ここで、Ｎは格子線の密度、ｋは回折の次数、
λは波長、αは入射角、そしてβは回折角（支持面の法
線に関し、それぞれ主光線ＣＲ前ないしはＣＲ後を基準
とする）である。以下の導出にあたって用いられる専門
用語は、「Lexikon der Optik（光学辞典）」全２巻、
H. Paul 編、Berlin（ベルリン）、Spektrum、Akad. Ve
rlag 1999、第１巻、Ａ〜Ｌ、７７〜８０ページに基づ
いている。
に対する回折格子の式、 Ｎｋ・λ＝sinα＋sinβ （１） である。ここで、Ｎは格子線の密度、ｋは回折の次数、
λは波長、αは入射角、そしてβは回折角（支持面の法
線に関し、それぞれ主光線ＣＲ前ないしはＣＲ後を基準
とする）である。以下の導出にあたって用いられる専門
用語は、「Lexikon der Optik（光学辞典）」全２巻、
H. Paul 編、Berlin（ベルリン）、Spektrum、Akad. Ve
rlag 1999、第１巻、Ａ〜Ｌ、７７〜８０ページに基づ
いている。
【００２８】図２を参照して、以下の導出を説明する。
【００２９】図２には、図示されぬ光源からの集束され
た光が格子素子１によって分光され、かつ、中間焦点１
９が物理的な絞り７．３によって選択される場合が示さ
れている。中間焦点１９においては、ＮＡとして０．１
２の値が得られる。図２には、集束しながら入射する光
束１００が示されている。この光束１００は、格子１で
回折される。ここで示されているのは、０次の回折の方
向に回折された光束１２ならびに１次の回折の方向に回
折された光束１４である。０次の回折の方向に回折され
た光束は、焦点１１２を有し、１次の回折の方向に回折
された光束は、焦点１１４を有している。各焦点１１
２，１１４と、入射光束１００の主光線ＣＲ前の格子１
への入射点１０２とから、像距離ｓ前、及びｓ後が定義
されている。ここで、ｓ前は、０次の回折の方向に回折
された光束の焦点１１２からの入射点１０２の距離を指
し、ｓ後は、１次の回折の方向に回折された光束の焦点
１１４からの入射点１０２の距離を指す。角度αは、格
子１の支持面の法線方向に対する入射光束の主光線ＣＲ
前の入射角を指し、βは、支持面の法線方向に対する１
次の回折の方向に回折された光束１４の主光線ＣＲ後の
回折角を指す。さらに、平面１０６，１０８が示されて
おり、これらは、入射点１０２において格子１上に存在
し、入射する光束１００の主光線ＣＲ前に垂直な平面、
及び、１次の回折の方向に回折された光束１４の主光線
ＣＲ後に垂直な平面である。
た光が格子素子１によって分光され、かつ、中間焦点１
９が物理的な絞り７．３によって選択される場合が示さ
れている。中間焦点１９においては、ＮＡとして０．１
２の値が得られる。図２には、集束しながら入射する光
束１００が示されている。この光束１００は、格子１で
回折される。ここで示されているのは、０次の回折の方
向に回折された光束１２ならびに１次の回折の方向に回
折された光束１４である。０次の回折の方向に回折され
た光束は、焦点１１２を有し、１次の回折の方向に回折
された光束は、焦点１１４を有している。各焦点１１
２，１１４と、入射光束１００の主光線ＣＲ前の格子１
への入射点１０２とから、像距離ｓ前、及びｓ後が定義
されている。ここで、ｓ前は、０次の回折の方向に回折
された光束の焦点１１２からの入射点１０２の距離を指
し、ｓ後は、１次の回折の方向に回折された光束の焦点
１１４からの入射点１０２の距離を指す。角度αは、格
子１の支持面の法線方向に対する入射光束の主光線ＣＲ
前の入射角を指し、βは、支持面の法線方向に対する１
次の回折の方向に回折された光束１４の主光線ＣＲ後の
回折角を指す。さらに、平面１０６，１０８が示されて
おり、これらは、入射点１０２において格子１上に存在
し、入射する光束１００の主光線ＣＲ前に垂直な平面、
及び、１次の回折の方向に回折された光束１４の主光線
ＣＲ後に垂直な平面である。
【００３０】ところで、照明光学系の集束する光路内の
反射型回折格子、つまり、図２に示されるように、本実
施形態においては、１次の回折の方向に回折された光束
の焦点１１４に重なる中間焦点１９の上流側に配置され
る回折格子というものについて考える場合、この回折格
子の光学的な作用について留意すべきである。光学的な
作用は、位相空間中の体積の保存、あるいは、光学的な
コンダクタンス値やエタンデュの保存から導き出すこと
ができる。０次と異なる次数に対しては、回折角βは入
射角αに等しくないので、光束の断面積は、入射する光
束の主光線ＣＲ 前ないしは回折された光束の主光線ＣＲ
後に垂直な平面１０６，１０８内において変化する。上
述した保存則によって、発散が相関して変化しなけれな
ならない。すなわち、仮に格子が内側の回折の次数（｜
α｜＞｜β｜）に用いられると、光束はcos（β）／cos
（α）分だけ大きくなり、発散は同じ因子だけ小さくな
る。したがって、焦点もしくは集光点までの距離は、上
記の因子の２乗で変化する。この因子をフィクスドフォ
ーカス係数と呼び、以下のように表す。 ｃff＝cos（β）／cos（α） （２） これにより、回折格子での光束の断面に対して、 ｄ後＝ｄ前ｃff （３） ないしは開口数ＮＡに対して、 ＮＡ後＝ＮＡ前／ｃff （４） が成立する。ここで、ｄ後は回折された光束１４の平面
１０８における光束の断面積、ｄ前は入射する光束１０
０の平面１０６における光束の断面積、ＮＡ後は回折さ
れた光束１４の開口数、そして、ＮＡ前は入射する光束
の開口数である。
反射型回折格子、つまり、図２に示されるように、本実
施形態においては、１次の回折の方向に回折された光束
の焦点１１４に重なる中間焦点１９の上流側に配置され
る回折格子というものについて考える場合、この回折格
子の光学的な作用について留意すべきである。光学的な
作用は、位相空間中の体積の保存、あるいは、光学的な
コンダクタンス値やエタンデュの保存から導き出すこと
ができる。０次と異なる次数に対しては、回折角βは入
射角αに等しくないので、光束の断面積は、入射する光
束の主光線ＣＲ 前ないしは回折された光束の主光線ＣＲ
後に垂直な平面１０６，１０８内において変化する。上
述した保存則によって、発散が相関して変化しなけれな
ならない。すなわち、仮に格子が内側の回折の次数（｜
α｜＞｜β｜）に用いられると、光束はcos（β）／cos
（α）分だけ大きくなり、発散は同じ因子だけ小さくな
る。したがって、焦点もしくは集光点までの距離は、上
記の因子の２乗で変化する。この因子をフィクスドフォ
ーカス係数と呼び、以下のように表す。 ｃff＝cos（β）／cos（α） （２） これにより、回折格子での光束の断面に対して、 ｄ後＝ｄ前ｃff （３） ないしは開口数ＮＡに対して、 ＮＡ後＝ＮＡ前／ｃff （４） が成立する。ここで、ｄ後は回折された光束１４の平面
１０８における光束の断面積、ｄ前は入射する光束１０
０の平面１０６における光束の断面積、ＮＡ後は回折さ
れた光束１４の開口数、そして、ＮＡ前は入射する光束
の開口数である。
【００３１】像距離ｓに対しては、既に定義したよう
に、回折格子から測って以下のように表される。 ｓ後＝ｓ前ｃff （５）
に、回折格子から測って以下のように表される。 ｓ後＝ｓ前ｃff （５）
【００３２】上記回折格子は、子午面内、あるいは発散
する方向のみに作用することに留意すべきである。結像
に非点収差が現れないようにするために、例えばサジタ
ル面の方向に、さらに光学的な作用を追加的に導入する
ことが好ましい。
する方向のみに作用することに留意すべきである。結像
に非点収差が現れないようにするために、例えばサジタ
ル面の方向に、さらに光学的な作用を追加的に導入する
ことが好ましい。
【００３３】これは、例えば、内側の回折の次数（ｋ＝
１，２，３）が用いられる場合には、回折格子がサジタ
ル面の方向に凸に湾曲していることによって達成するこ
とができる。
１，２，３）が用いられる場合には、回折格子がサジタ
ル面の方向に凸に湾曲していることによって達成するこ
とができる。
【００３４】外側の回折の次数（ｋ＝−１，−２，−
３）が用いられる場合には、回折格子がサジタル面の方
向に凹に湾曲するように選ばれることが好ましい。
３）が用いられる場合には、回折格子がサジタル面の方
向に凹に湾曲するように選ばれることが好ましい。
【００３５】湾曲した回折格子とは別に、格子線の間隔
を変えることもできる。
を変えることもできる。
【００３６】サジタル面の方向に凸に湾曲している場
合、この半径は、０次における像距離ｓ前が、ｓ前ｃff
2の像距離となるように選ばれる必要がある。結像に関
する式より、サジタル面の方向の焦点距離ｆsを計算す
ることができ、 ｆs＝ｓ前／（１／ｃff 2−１） （６） と表される。
合、この半径は、０次における像距離ｓ前が、ｓ前ｃff
2の像距離となるように選ばれる必要がある。結像に関
する式より、サジタル面の方向の焦点距離ｆsを計算す
ることができ、 ｆs＝ｓ前／（１／ｃff 2−１） （６） と表される。
【００３７】回折角とともに、最終的にサジタル面の方
向の半径は、 Ｒs＝ｆs（cosα＋cosβ） と表される。
向の半径は、 Ｒs＝ｆs（cosα＋cosβ） と表される。
【００３８】続いて、以下の条件を満足させるために、
格子素子１がどのように形成されなければならないか、
一実施形態をもとに評価を行っておく必要があろう。そ
の条件とは、 ・０次、及び１次ないしは−１次の回折光の光束が分離
されていること。すなわち、ある回折の次数の光束の焦
点において、この光束が他の回折の次数の光束と重なら
ないこと、 ・使用する波長の光は、邪魔をする成分の光から分離さ
れなければならないこと、 ・回折格子が大きくなりすぎないように、中間焦点まで
の距離は、小さくなければならないこと、 ・回折格子の幾何学的な形状は、最良の回折の効率が得
られるよう最適化されていなければならないこと、 ・内側の回折の次数の回折光に対して発散させるような
作用を及ぼし、外側の回折の次数の回折光に対して集束
させるような作用を及ぼす非点収差が小さく抑えられて
いること、である。
格子素子１がどのように形成されなければならないか、
一実施形態をもとに評価を行っておく必要があろう。そ
の条件とは、 ・０次、及び１次ないしは−１次の回折光の光束が分離
されていること。すなわち、ある回折の次数の光束の焦
点において、この光束が他の回折の次数の光束と重なら
ないこと、 ・使用する波長の光は、邪魔をする成分の光から分離さ
れなければならないこと、 ・回折格子が大きくなりすぎないように、中間焦点まで
の距離は、小さくなければならないこと、 ・回折格子の幾何学的な形状は、最良の回折の効率が得
られるよう最適化されていなければならないこと、 ・内側の回折の次数の回折光に対して発散させるような
作用を及ぼし、外側の回折の次数の回折光に対して集束
させるような作用を及ぼす非点収差が小さく抑えられて
いること、である。
【００３９】とりわけ１番目の条件が、格子素子の効率
に関して決定的となる。種々の回折の次数の光束を互い
に分離できるかどうかを評価する式は、図２に基づいて
導出することができる。つまり、０次の回折光の焦点で
の、互いに異なる回折の次数の光束の主光線の距離Δｘ
0は、回折角より、 Δｘ0＝ｓ前sin（α＋β） （８） と与えられ、また、この回折の次数の光束の焦点での距
離Δｘ1は、 Δｘ1＝ｓ前ｃff 2sin（α＋β） （９） となる。
に関して決定的となる。種々の回折の次数の光束を互い
に分離できるかどうかを評価する式は、図２に基づいて
導出することができる。つまり、０次の回折光の焦点で
の、互いに異なる回折の次数の光束の主光線の距離Δｘ
0は、回折角より、 Δｘ0＝ｓ前sin（α＋β） （８） と与えられ、また、この回折の次数の光束の焦点での距
離Δｘ1は、 Δｘ1＝ｓ前ｃff 2sin（α＋β） （９） となる。
【００４０】それぞれ場合において、他方の光束は焦点
を結ばず、よって、ある広がりを有するから、光束が焦
点において重ならないかどうか評価するために、他方の
光束の広がりを算出しておくことが必要である。これ
は、発散、ないしは、開口数から算出することができ
る。上記の回折の次数の光束の焦点での０次の光束の広
がりに対して、 Δｄ1＝２ＮＡｃff｜ｓ前ｃff 2−ｓ前｜ （１０） と与えられ、また、０次の光束の焦点での１次、ないし
は−１次の回折の次数の光束の広がりに対して、 Δｄ0＝２ＮＡ｜ｓ前ｃff 2−ｓ前｜ （１１） と与えられる。
を結ばず、よって、ある広がりを有するから、光束が焦
点において重ならないかどうか評価するために、他方の
光束の広がりを算出しておくことが必要である。これ
は、発散、ないしは、開口数から算出することができ
る。上記の回折の次数の光束の焦点での０次の光束の広
がりに対して、 Δｄ1＝２ＮＡｃff｜ｓ前ｃff 2−ｓ前｜ （１０） と与えられ、また、０次の光束の焦点での１次、ないし
は−１次の回折の次数の光束の広がりに対して、 Δｄ0＝２ＮＡ｜ｓ前ｃff 2−ｓ前｜ （１１） と与えられる。
【００４１】例えばΔｘ0及びΔｄ0／２の差は、例えば
０次の光束の焦点から測った回折された光束の周辺光線
までの距離を与える。この距離は、種々の光束の重なり
合いを防ぐためには、Δｘfと表された焦点における光
束の直径の少なくとも半分に相当すべきであり、そうす
れば、０次の回折の次数の光束を他の回折の次数の光束
から十分に分離することが達成される。
０次の光束の焦点から測った回折された光束の周辺光線
までの距離を与える。この距離は、種々の光束の重なり
合いを防ぐためには、Δｘfと表された焦点における光
束の直径の少なくとも半分に相当すべきであり、そうす
れば、０次の回折の次数の光束を他の回折の次数の光束
から十分に分離することが達成される。
【００４２】よって、以下の式が成立する。 ｓ前sin（α＋β）−ＮＡ｜ｓ前ｃff 2−ｓ前｜＞Δｘf （１２） あるいは、 ｓ前ｃff 2sin（α＋β）−ＮＡｃff｜ｓ前ｃff 2−ｓ前｜ｃff＞Δｘf （１３）
【００４３】上に述べた考察ならびに式を用いると、以
下の表１に与えられる大きさで特徴付けられた、サジタ
ル面の方向に凸の湾曲形状を有した格子素子を構成する
ことができる。この格子素子は、５６％の回折の効率を
有する点で優れている。
下の表１に与えられる大きさで特徴付けられた、サジタ
ル面の方向に凸の湾曲形状を有した格子素子を構成する
ことができる。この格子素子は、５６％の回折の効率を
有する点で優れている。
【００４４】
【表１】
【００４５】表１における実施形態による格子素子１
と、絞りとを組み合わせることによって、１８ｎｍを超
える波長、及び８ｎｍを下回る波長を略完全に取り除く
ことができる。これにより、投影光学系の反射鏡への熱
的な負荷を大幅に低減することができる。格子素子１が
最適な回折の効率を保持するためには、格子素子がブレ
ーズ格子として形成されていることが好ましい。
と、絞りとを組み合わせることによって、１８ｎｍを超
える波長、及び８ｎｍを下回る波長を略完全に取り除く
ことができる。これにより、投影光学系の反射鏡への熱
的な負荷を大幅に低減することができる。格子素子１が
最適な回折の効率を保持するためには、格子素子がブレ
ーズ格子として形成されていることが好ましい。
【００４６】図３には、略三角形に近似しうる溝形状を
有したブレーズ格子が示されている。符号１１は、ブレ
ーズ格子として形成された格子素子１に入射する光線を
示し、符号１２は、格子において０次の方向に反射され
た光線を示し、また、符号１６は、１次の方向に回折さ
れた光線を示す。ブレーズの深さＢは、入射角及び出射
角の関数である。したがって、最大の回折の効率を得る
ために、集束する光束においては、回折格子上での位置
に依ってブレーズの深さが変えられることが好ましい。
有したブレーズ格子が示されている。符号１１は、ブレ
ーズ格子として形成された格子素子１に入射する光線を
示し、符号１２は、格子において０次の方向に反射され
た光線を示し、また、符号１６は、１次の方向に回折さ
れた光線を示す。ブレーズの深さＢは、入射角及び出射
角の関数である。したがって、最大の回折の効率を得る
ために、集束する光束においては、回折格子上での位置
に依ってブレーズの深さが変えられることが好ましい。
【００４７】局所的なブレーズの深さＢが格子上の位置
によって変るこの種の格子素子を用いる場合、図４に従
う最大効率が得られる。図４に示すように、回折の効率
η（１）は、用いた材料に依存する。
によって変るこの種の格子素子を用いる場合、図４に従
う最大効率が得られる。図４に示すように、回折の効率
η（１）は、用いた材料に依存する。
【００４８】図４において、符号２００は、波長λ＝１
３．５ｎｍにおけるルテニウムに対する回折の効率η
（１）を示し、また、符号２０２はパラジウムに対す
る、符号２０４はロジウムに対する、そして符号２０６
は金に対する回折の効率をそれぞれ示している。
３．５ｎｍにおけるルテニウムに対する回折の効率η
（１）を示し、また、符号２０２はパラジウムに対す
る、符号２０４はロジウムに対する、そして符号２０６
は金に対する回折の効率をそれぞれ示している。
【００４９】図４から分かるように、ルテニウムを用い
た場合に、最も高い効率０．７を得ることができる。パ
ラジウムあるいはロジウムにより被覆すると、寿命が向
上するが、わずか３％程度低い０．６７の効率η（１）
を有している。金は、通常、シンクロトロン用の格子に
用いられるが、曲線２０６から分かるように、波長１
３．５ｎｍでは、上記の材料に比べて明らかに低い効率
を有している。
た場合に、最も高い効率０．７を得ることができる。パ
ラジウムあるいはロジウムにより被覆すると、寿命が向
上するが、わずか３％程度低い０．６７の効率η（１）
を有している。金は、通常、シンクロトロン用の格子に
用いられるが、曲線２０６から分かるように、波長１
３．５ｎｍでは、上記の材料に比べて明らかに低い効率
を有している。
【００５０】図５には、本発明に係る格子素子１を備え
た極短紫外線投影露光装置が示されている。この極短紫
外線投影露光装置は、光源３と、集光させる光学素子
と、いわゆる集光器５とを備えている。ここで、集光器
５は、出願人に対して西暦２００１年１月２３日付けで
独国特許庁に出願された独国特許出願第10102934号明細
書に記載の繰り込み型の集光器として形成された。この
明細書の開示内容は、本願に包括的に取り入れられてい
る。この集光器５は、照明光学系の物体面に位置してい
る光源３を、絞り面７．３内、もしくはその付近におい
て、２次光源４に結像させる。
た極短紫外線投影露光装置が示されている。この極短紫
外線投影露光装置は、光源３と、集光させる光学素子
と、いわゆる集光器５とを備えている。ここで、集光器
５は、出願人に対して西暦２００１年１月２３日付けで
独国特許庁に出願された独国特許出願第10102934号明細
書に記載の繰り込み型の集光器として形成された。この
明細書の開示内容は、本願に包括的に取り入れられてい
る。この集光器５は、照明光学系の物体面に位置してい
る光源３を、絞り面７．３内、もしくはその付近におい
て、２次光源４に結像させる。
【００５１】ここで、光源３は、例えばレーザプラズマ
光源、あるいはプラズマ放電光源とすることができ、照
明光学系の物体面に配置されている。照明光学系の絞り
面７．３には、２次光源とも称することのできる１次光
源の像がくる。
光源、あるいはプラズマ放電光源とすることができ、照
明光学系の物体面に配置されている。照明光学系の絞り
面７．３には、２次光源とも称することのできる１次光
源の像がくる。
【００５２】格子素子１及び物理的な絞り７．３の間に
は、不用な波長の光、とりわけ、３０ｎｍより大きい波
長の光を遮断するため、付加的な絞り７．１，７．２が
配置されている。本発明によれば、絞り７．３の平面に
１次の回折光の焦点がくる。すなわち、光源３は、集光
器、及び回折格子の分光フィルターによって、１次の回
折の方向において、絞り７．３の平面に略非点収差無く
結像される。他の全ての回折の次数の回折光は、非点収
差を有して結像される。
は、不用な波長の光、とりわけ、３０ｎｍより大きい波
長の光を遮断するため、付加的な絞り７．１，７．２が
配置されている。本発明によれば、絞り７．３の平面に
１次の回折光の焦点がくる。すなわち、光源３は、集光
器、及び回折格子の分光フィルターによって、１次の回
折の方向において、絞り７．３の平面に略非点収差無く
結像される。他の全ての回折の次数の回折光は、非点収
差を有して結像される。
【００５３】さらに、投影光学系の照明光学系は、リン
グ形状を有したフィールド面２２を形成して照明するた
めの光学系２０を有している。この光学系は、フィール
ドを一様に照明するためのミキシングユニットとして、
二つの切り子面反射鏡２９．１，２９．２、ならびに結
像反射鏡３０．１，３０．２、及びフィールドを形成す
る斜入射反射鏡３２を有している。光学系２０内には、
迷光を低減するために付加的な絞り７．４，７．５，
７．６，７．７が配置されている。
グ形状を有したフィールド面２２を形成して照明するた
めの光学系２０を有している。この光学系は、フィール
ドを一様に照明するためのミキシングユニットとして、
二つの切り子面反射鏡２９．１，２９．２、ならびに結
像反射鏡３０．１，３０．２、及びフィールドを形成す
る斜入射反射鏡３２を有している。光学系２０内には、
迷光を低減するために付加的な絞り７．４，７．５，
７．６，７．７が配置されている。
【００５４】第一の切り子面反射鏡２９．１は、いわゆ
るフィールド切り子面反射鏡であり、いわゆる瞳切り子
面反射鏡である第二の切り子面反射鏡２９．２の平面
内、もしくはその付近に複数の２次光源を生成する。下
流側の結像光学系は、投影光学系２６の入射瞳に位置す
る照明光学系の射出瞳に、瞳切り子面反射鏡２９．２を
結像する。第一及び第二の切り子面反射鏡２９．１，２
９．２の個々の切り子面の傾き角は、第一の切り子面反
射鏡２９．１の個々のフィールド切り子面の像が、照明
光学系のフィールド面２２において重なり合い、これに
より、このフィールド面２２に位置する構造を持ったマ
スクの概ね一様な照明が可能となるように設けられてい
る。リングフィールドのセグメントは、かするような入
射角で使用されるフィールドを形成する斜入射反射鏡３
２を介して形成される。
るフィールド切り子面反射鏡であり、いわゆる瞳切り子
面反射鏡である第二の切り子面反射鏡２９．２の平面
内、もしくはその付近に複数の２次光源を生成する。下
流側の結像光学系は、投影光学系２６の入射瞳に位置す
る照明光学系の射出瞳に、瞳切り子面反射鏡２９．２を
結像する。第一及び第二の切り子面反射鏡２９．１，２
９．２の個々の切り子面の傾き角は、第一の切り子面反
射鏡２９．１の個々のフィールド切り子面の像が、照明
光学系のフィールド面２２において重なり合い、これに
より、このフィールド面２２に位置する構造を持ったマ
スクの概ね一様な照明が可能となるように設けられてい
る。リングフィールドのセグメントは、かするような入
射角で使用されるフィールドを形成する斜入射反射鏡３
２を介して形成される。
【００５５】切り子面を二箇所に有した照明光学系は、
例えば米国特許第6198793号明細書に開示されており、
結像させてフィールドを形成する素子は、PCT/EP00/072
58に開示されている。これらの文献の開示内容は本願に
包括的に取り入れられている。
例えば米国特許第6198793号明細書に開示されており、
結像させてフィールドを形成する素子は、PCT/EP00/072
58に開示されている。これらの文献の開示内容は本願に
包括的に取り入れられている。
【００５６】フィールド面２２に配置された構造を有し
たマスクは、レチクルとも称され、投影光学系２６によ
ってフィールド面２２の結像面２８に結像される。投影
光学系２６は、６枚の反射鏡を用いた投影光学系とさ
れ、例えば、出願人に対して西暦２０００年１２月１３
日付けで米国特許庁に出願された米国特許出願第60/255
214号明細書、もしくは、独国特許第10037870号公開公
報に開示され、これらの開示内容は本願に包括的に取り
入れられている。結像面２８には、例えばウェハ等の感
光すべき対象物が配置されている。
たマスクは、レチクルとも称され、投影光学系２６によ
ってフィールド面２２の結像面２８に結像される。投影
光学系２６は、６枚の反射鏡を用いた投影光学系とさ
れ、例えば、出願人に対して西暦２０００年１２月１３
日付けで米国特許庁に出願された米国特許出願第60/255
214号明細書、もしくは、独国特許第10037870号公開公
報に開示され、これらの開示内容は本願に包括的に取り
入れられている。結像面２８には、例えばウェハ等の感
光すべき対象物が配置されている。
【００５７】本発明に係る格子素子の作成を可能にする
には、例えばレプリカ技術が考慮される。
には、例えばレプリカ技術が考慮される。
【００５８】本発明によって、不用な波長を光源ユニッ
トのすぐ下流側で選別することができ、また、特に熱的
な負荷に関して多くの問題を有するフィルターフィルム
の代わりの役割を果たす照明光学系がはじめて得られ
る。
トのすぐ下流側で選別することができ、また、特に熱的
な負荷に関して多くの問題を有するフィルターフィルム
の代わりの役割を果たす照明光学系がはじめて得られ
る。
【図１】 照明光学系の集光ユニットの光路内における
格子素子の配置を示す図である。
格子素子の配置を示す図である。
【図２】 照明光学系の格子素子及び物理的な絞りを示
す図である。
す図である。
【図３】 ブレーズ格子
【図４】 ブレーズ格子として形成された格子素子の場
合の最大の可能な回折の効率を示す図である。
合の最大の可能な回折の効率を示す図である。
【図５】 本発明に係る照明光学系を備えた極短紫外線
投影露光装置を示す図である。
投影露光装置を示す図である。
１・・・格子素子 ３・・・光源 ５・・・集光器 ７．１，７．２，７．３，７．４，７．５，７．６，
７．７・・・絞り ８・・・冷却装置 １０．１，１０．２・・・冷却装置の供給口及び排出口 １１・・・入射光線 １２・・・０次の波面 １４・・・１次の波面 １６・・・−１次の波面 ２０・・・光学系 ２２・・・フィールド面 ２６・・・投影光学系 ２８・・・フィールド面の結像面 ２９．１，２９．２・・・切り子面反射鏡 ３０．１，３０．２・・・結像反射鏡 ３２・・・フィールドを形成する反射鏡 ３４・・・照明光学系の射出瞳 １００・・・集束して入射する光束 １０２・・・主光線ＣＲ前の回折格子１上の入射点 １０６・・・主光線ＣＲ前に垂直な平面 １０８・・・主光線ＣＲ後に垂直な平面 １１２・・・０次の方向に回折された光束の焦点 １１４・・・１次の方向に回折された光束の焦点 ２００，２０２，２０４，２０６・・・異なる材料に対
する回折の効率η(1)
７．７・・・絞り ８・・・冷却装置 １０．１，１０．２・・・冷却装置の供給口及び排出口 １１・・・入射光線 １２・・・０次の波面 １４・・・１次の波面 １６・・・−１次の波面 ２０・・・光学系 ２２・・・フィールド面 ２６・・・投影光学系 ２８・・・フィールド面の結像面 ２９．１，２９．２・・・切り子面反射鏡 ３０．１，３０．２・・・結像反射鏡 ３２・・・フィールドを形成する反射鏡 ３４・・・照明光学系の射出瞳 １００・・・集束して入射する光束 １０２・・・主光線ＣＲ前の回折格子１上の入射点 １０６・・・主光線ＣＲ前に垂直な平面 １０８・・・主光線ＣＲ後に垂直な平面 １１２・・・０次の方向に回折された光束の焦点 １１４・・・１次の方向に回折された光束の焦点 ２００，２０２，２０４，２０６・・・異なる材料に対
する回折の効率η(1)
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｈ０１Ｌ 21/30 ５１５Ｄ ５１７ (72)発明者 ベルント・クレーマン ドイツ・73439・アーレン・シェルメンシ ュトラーセ・14 (72)発明者 マルコ・ヴェドウスキー ドイツ・73431・アーレン・オットー−シ ョット−シュトラーセ・15 Ｆターム(参考） 2H042 AA05 AA13 AA17 AA18 AA25 2H049 AA07 AA13 AA52 AA55 AA63 AA70 2H052 BA03 BA06 BA12 5F046 BA03 CA07 CB05 CB12 CB25 CB27 FB12 GB02 GB09
Claims (17)
- 【請求項１】 物体面及びフィールド面（２２）を有し
た、とりわけ１００ｎｍ以下の波長に用いられる照明光
学系において、 格子素子（１）を少なくとも一つ有するとともに、 前記物体面から前記フィールド面（２２）に至る光路内
において、前記格子素子の下流側に位置する絞り面に物
理的な絞り（７．３）を少なくとも一つ有していること
を特徴とする照明光学系。 - 【請求項２】 請求項１に記載の照明光学系において、 集束する光束を生成する集光ユニット（５）を有し、 この集束する光束が前記格子素子（１）に入射するよう
設けられていることを特徴とする照明光学系。 - 【請求項３】 請求項２に記載の照明光学系において、 前記格子素子（１）は、それぞれある焦点が存在する異
なる回折の次数の光束を生成するように形成されている
とともに、｜ｋ｜≧１とされた前記格子素子によるｋ次
の回折光の前記焦点が、前記物理的な絞りの位置にくる
ように形成されていることを特徴とする照明光学系。 - 【請求項４】 請求項３に記載の照明光学系において、 前記少なくとも一つの物理的な絞り（７．３）は、前記
格子素子によるｋ次の回折光を通過させ、全てのｍ≠ｋ
とされたｍ次の回折光を９０％以上遮断することを特徴
とする照明光学系。 - 【請求項５】 請求項１から４のいずれか１項に記載の
照明光学系において、 前記物理的な絞り（７．３）の下流側の光線は、７〜２
６ｎｍの領域の波長を有していることを特徴とする照明
光学系。 - 【請求項６】 請求項１から５のいずれか１項に記載の
照明光学系において、 前記格子素子の支持面に垂直、かつ、前記格子素子の格
子線に対して垂直となる子午面が、前記格子素子に対し
て与えられ、前記格子素子の前記支持面は、この子午面
内で凹又は凸に湾曲していることを特徴とする照明光学
系。 - 【請求項７】 請求項１から６のいずれか１項に記載の
照明光学系において、 前記格子素子の支持面に垂直、かつ、前記格子素子の格
子線に対して平行で、前記格子素子の中点を含んでいる
サジタル面が、前記格子素子に対して与えられ、前記格
子素子は、このサジタル面内で凸又は凹に湾曲している
ことを特徴とする照明光学系。 - 【請求項８】 請求項１から６のいずれか１項に記載の
照明光学系において、 前記格子素子の格子線の間隔が変えられることを特徴と
する照明光学系。 - 【請求項９】 請求項８に記載の照明光学系において、 前記格子の線の間隔は、入射する光束の光線の入射角が
増加するにつれて狭められることを特徴とする照明光学
系。 - 【請求項１０】 請求項１から９のいずれか１項に記載
の照明光学系において、 前記格子素子は、ブレーズ格子であることを特徴とする
照明光学系。 - 【請求項１１】 請求項１から１０のいずれか１項に記
載の照明光学系において、 該照明光学系の前記物体面に１次光源（３）、とくにレ
ーザプラズマ光源が配置され、前記物理的な絞り（７．
３）の位置に２次光源（４）として結像されるように設
けられていることを特徴とする照明光学系。 - 【請求項１２】 請求項１から１１のいずれか１項に記
載の照明光学系において、 前記物理的な絞りが設けられた前記絞り面及び前記フィ
ールド面の間に、このフィールド面にフィールドを形成
して照明する光学系（２０）を有していることを特徴と
する照明光学系。 - 【請求項１３】 請求項１２に記載の照明光学系におい
て、 前記光学系（２０）は、前記フィールドを一様に照明す
るためのミキシングユニットを有していることを特徴と
する照明光学系。 - 【請求項１４】 請求項１２または１３に記載の照明光
学系において、 前記フィールドは、リングフィールドのセグメントとさ
れ、前記光学系（２０）は、フィールド形成素子（３
２）を有していることを特徴とする照明光学系。 - 【請求項１５】 請求項１から１４のいずれか１項に記
載の照明光学系において、 前記物体面及び前記絞り面（７．３）の間の光路内に、
他の絞り（７．１，７．２）をさらに有していることを
特徴とする照明光学系。 - 【請求項１６】 請求項１から１５のいずれか１項に記
載の照明光学系と、 構造を持ったマスクと、 投影光学系（２６）と、 感光物とを有し、 前記構造を持ったマスクが前記感光物上に結像されるよ
うに構成されているマイクロ電子デバイスを製造する投
影露光装置。 - 【請求項１７】 請求項１６に記載の投影露光装置を用
いてマイクロ電子デバイス、とりわけ半導体素子を製造
するマイクロ電子デバイスの製造方法。
Applications Claiming Priority (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US09/679,718 US6438199B1 (en) | 1998-05-05 | 2000-09-29 | Illumination system particularly for microlithography |
| DE10103738 | 2001-01-26 | ||
| DE10103738.4 | 2001-01-26 | ||
| DE10127298 | 2001-06-06 | ||
| DE10127298.7 | 2001-06-06 | ||
| DE679,718 | 2001-06-06 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002184690A true JP2002184690A (ja) | 2002-06-28 |
Family
ID=27214253
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001303701A Pending JP2002184690A (ja) | 2000-09-29 | 2001-09-28 | 格子素子を備えた照明光学系 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP1202291B1 (ja) |
| JP (1) | JP2002184690A (ja) |
| KR (1) | KR100931335B1 (ja) |
| DE (1) | DE50112953D1 (ja) |
| TW (1) | TW530164B (ja) |
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004272264A (ja) * | 2003-03-07 | 2004-09-30 | Leica Microsystems (Schweiz) Ag | 観察対象野照明を有する手術顕微鏡及び顕微鏡照明制御方法 |
| JP2006511070A (ja) * | 2002-12-19 | 2006-03-30 | カール・ツァイス・エスエムティー・アーゲー | 効率的な集光器光学系を有する照明システム |
| JP2006323346A (ja) * | 2005-04-20 | 2006-11-30 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 画像記録装置 |
| US7781750B2 (en) | 2003-08-27 | 2010-08-24 | Carl Zeiss Smt Ag | Oblique mirror-type normal-incidence collector system for light sources, particularly EUV plasma discharge sources |
| JP2010287892A (ja) * | 2009-06-15 | 2010-12-24 | Asml Netherlands Bv | 放射ビーム変更装置および方法 |
| JP2012182492A (ja) * | 2008-05-20 | 2012-09-20 | Gigaphoton Inc | 極端紫外光用ミラー、極端紫外光用ミラーの製造方法及び極端紫外光源装置 |
| JP2012186508A (ja) * | 2005-06-02 | 2012-09-27 | Carl Zeiss Smt Gmbh | マイクロリソグラフィ投影対物レンズ |
| JP2014236121A (ja) * | 2013-06-03 | 2014-12-15 | ギガフォトン株式会社 | ミラー装置、極端紫外光生成装置及び極端紫外光生成システム |
| JP2016118805A (ja) * | 2008-05-15 | 2016-06-30 | ノースロップ グラマン システムズ コーポレイションＮｏｒｔｈｒｏｐ Ｇｒｕｍｍａｎ Ｓｙｓｔｅｍｓ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ | 回折光学部材 |
| JP2019521391A (ja) * | 2016-07-06 | 2019-07-25 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | 光学格子及び光学格子の光学アセンブリ |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE60312871T2 (de) | 2002-08-26 | 2007-12-20 | Carl Zeiss Smt Ag | Gitter basierter spektraler filter zur unterdrückung von strahlung ausserhalb des nutzbandes in einem extrem-ultraviolett lithographiesystem |
| US8208127B2 (en) | 2007-07-16 | 2012-06-26 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Combination stop for catoptric projection arrangement |
| US8081296B2 (en) * | 2007-08-09 | 2011-12-20 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method |
| DE102012010093A1 (de) * | 2012-05-23 | 2013-11-28 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Facettenspiegel |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07301696A (ja) * | 1994-05-09 | 1995-11-14 | Hitachi Ltd | Ｘ線投影露光方法及び装置 |
| US6118577A (en) * | 1998-08-06 | 2000-09-12 | Euv, L.L.C | Diffractive element in extreme-UV lithography condenser |
| US6100978A (en) * | 1998-10-21 | 2000-08-08 | Naulleau; Patrick P. | Dual-domain point diffraction interferometer |
-
2001
- 2001-09-24 KR KR1020010059059A patent/KR100931335B1/ko active IP Right Grant
- 2001-09-28 JP JP2001303701A patent/JP2002184690A/ja active Pending
- 2001-09-28 TW TW090124051A patent/TW530164B/zh not_active IP Right Cessation
- 2001-09-28 EP EP01123195A patent/EP1202291B1/de not_active Expired - Lifetime
- 2001-09-28 DE DE50112953T patent/DE50112953D1/de not_active Expired - Fee Related
Cited By (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006511070A (ja) * | 2002-12-19 | 2006-03-30 | カール・ツァイス・エスエムティー・アーゲー | 効率的な集光器光学系を有する照明システム |
| JP2004272264A (ja) * | 2003-03-07 | 2004-09-30 | Leica Microsystems (Schweiz) Ag | 観察対象野照明を有する手術顕微鏡及び顕微鏡照明制御方法 |
| US7781750B2 (en) | 2003-08-27 | 2010-08-24 | Carl Zeiss Smt Ag | Oblique mirror-type normal-incidence collector system for light sources, particularly EUV plasma discharge sources |
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| JP2014143445A (ja) * | 2005-06-02 | 2014-08-07 | Carl Zeiss Smt Gmbh | マイクロリソグラフィ投影対物レンズ |
| US9097984B2 (en) | 2005-06-02 | 2015-08-04 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Microlithography projection objective |
| US10281824B2 (en) | 2005-06-02 | 2019-05-07 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Microlithography projection objective |
| JP2016118805A (ja) * | 2008-05-15 | 2016-06-30 | ノースロップ グラマン システムズ コーポレイションＮｏｒｔｈｒｏｐ Ｇｒｕｍｍａｎ Ｓｙｓｔｅｍｓ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ | 回折光学部材 |
| JP2012182492A (ja) * | 2008-05-20 | 2012-09-20 | Gigaphoton Inc | 極端紫外光用ミラー、極端紫外光用ミラーの製造方法及び極端紫外光源装置 |
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP1202291B1 (de) | 2007-09-05 |
| KR100931335B1 (ko) | 2009-12-11 |
| DE50112953D1 (de) | 2007-10-18 |
| EP1202291A3 (de) | 2006-04-19 |
| EP1202291A2 (de) | 2002-05-02 |
| TW530164B (en) | 2003-05-01 |
| KR20020025721A (ko) | 2002-04-04 |
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