JP2012177628A - 無電解ニッケルめっき液の硫黄化合物定量分析方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】上記課題を解決するため、作用電極として、少なくとも測定溶液に接触する表面が水銀からなる電極を用い、無電解ニッケルめっき液を0.01vol%以上100vol%未満の範囲で含むと共に、pH緩衝性を有し、且つ、溶液pHを所定の測定pH値に調整した測定溶液を調製し、当該測定溶液を用いて、ポーラログラフィ測定により、当該測定溶液に含まれる無電解ニッケルめっき液が含有する硫黄化合物の定量分析を行うことを特徴とする無電解ニッケルめっき液の硫黄化合物定量分析方法を採用した。
【選択図】図1
Description
本実施の形態では、図1に示す電気化学測定装置1を用いて、無電解ニッケルめっき液に含まれる硫黄化合物の定量分析を行う。図1に示す電気化学測定装置1は、例えば、ポーラログラフィーの装置であり、測定溶液が収容されるセル2と、このセル2内において測定溶液に浸漬される作用電極3、参照電極4及び対極5と、作用電極3、参照電極4及び対極5と、当該参照電極4に対する当該作用電極3の電位に基づいて、当該作用電極3と当該対極5との間に印加する電圧を制御する電圧制御装置6と、作用電極3と対極5との間に流れた電流値を測定する電流計7とを備えている。電圧制御装置6と、電流計7とは一つの筐体8内に収容されている。本実施の形態では、電圧制御装置6により、参照電極4に対して作用電極3の電位を規制して、作用電極3と対極5との間に電圧を印加して、このとき作用電極3と対極5との間に流れた電流値を電流計7で測定することにより、いわゆるポーラログラムを取得し、当該ポーラログラムに基づいて、無電解ニッケルめっき液に含まれる硫黄化合物の定量分析を行う。
次に、以上の様に構成された電気化学測定装置1を用いて、ポーラログラフィ測定を行うときに用いる測定溶液の組成について説明する。測定溶液は、上述した通り、無電解ニッケルめっき液を0.01vol%以上100vol%未満の範囲で含むと共に、pH緩衝性を有し、且つ、溶液pHを所定の測定pH値に調整したものである。ここで、当該測定溶液は、無電解ニッケルめっき液と、pH緩衝液と、電気伝導率が0.067μS/cm以下の超純水とを用いて調整したものであることが好ましい。以下、測定溶液を構成する各液について説明する。
次に、上記のように調整した測定溶液を用いた硫黄化合物定量分析方法の具体的な手法を説明する。既に述べたように、本件発明では、上記測定溶液を用いてポーラログラフィ測定を行う。具体的には、参照電極4に対する作用電極3の電位を電圧制御装置6により規制しながら、作用電極3と対極5との間に電圧を印加し、このとき作用電極3と対極5との間を流れた電流値を電流計7により測定し、当該電流値と作用電極3の参照電極4に対する電位との関係に基づいて、測定溶液に含まれる無電解ニッケルめっき液が含有する硫黄化合物の量を分析することを基本としている。
本実施例では、次の基本組成を有する測定溶液を調製した。
[測定溶液]
無電解ニッケルめっき液:0.1mL(0.88vol%)
pH緩衝液 :1.25mL
超純水 :10mL
測定溶液pH :8.9
測定結果を図3に示す。図3は、当該測定により得られた各測定溶液S×1、S×1.5、S×2のポーラログラム(電流−電位曲線)である。図3に示すように、参照電極4に対する作用電極3の電位が−0.14V付近の値を示したときに、硫黄化合物の脱離に伴うピークが出現した。当該ピーク電位における電流値を各測定溶液を調整する際に用いた無電解ニッケルめっき液の硫黄化合物含有量の割合に対してプロットしたところ、図4に示すように極めて高い直線性を示した。このときの相関係数は0.99程度であった。従って、硫黄化合物濃度が未知の無電解ニッケルめっき液を用いて同様に測定を行い、予め求めた図3に示すような電流値と測定溶液に含まれる無電解ニッケルめっき液が含む硫黄化合物の含有量との対応関係を参照することにより、測定対象とする無電解ニッケルめっき液に含まれる硫黄化合物を精度よく、簡易に、且つ、迅速に定量することができる。
3・・・作用電極
4・・・参照電極
5・・・対極
Claims (5)
- 無電解ニッケルめっき液に含まれる硫黄化合物の定量分析を行う方法であって、
作用電極として、少なくとも測定溶液に接触する表面が水銀からなる電極を用い、
無電解ニッケルめっき液を0.01vol%以上100vol%未満の範囲で含むと共に、pH緩衝性を有し、且つ、溶液pHを所定の測定pH値に調整した測定溶液を調製し、
当該測定溶液を用いて、ポーラログラフィ測定により、当該測定溶液に含まれる無電解ニッケルめっき液が含有する硫黄化合物の定量分析を行うこと、
を特徴とする無電解ニッケルめっき液の硫黄化合物定量分析方法。 - 前記測定溶液は、無電解ニッケルめっき液と、pH緩衝液と、電気伝導率が0.067μS/cm以下の超純水とを用いて調製したものである請求項1に記載の無電解ニッケルめっき液の硫黄化合物定量分析方法。
- 前記pH緩衝液は、前記測定溶液のイオン強度及び/又は前記測定用液の電気伝導率を予め設定された値に調整する目的のためにのみ使用される電解質を更に含むものである請求項2に記載の無電解ニッケルめっき液の硫黄化合物定量分析方法。
- 参照電極に対する前記作用電極の電位を所定の吸着電位に一定時間保持して、当該作用電極の表面に硫黄化合物を吸着させ、
その後、前記作用電極の電位を掃引して、当該作用電極の表面に吸着した硫黄化合物を脱離させ、
このときに前記作用電極と、対極との間に流れた電流値に基づいて、電流−電位曲線を求め、当該電流−電位曲線に基づいて、前記測定溶液に含まれる無電解ニッケルめっき液が含有する硫黄化合物の量を求める請求項1〜請求項3のいずれか一項に記載の無電解ニッケルめっき液の硫黄化合物定量分析方法。 - 硫黄化合物濃度が既知の参照溶液を用いて、前記ポーラログラフィ測定を行って参照溶液の電流?電位曲線を求め、当該電流−電位曲線におけるピーク出現位置と参照溶液の硫黄化合物濃度との対応関係を求めておき、当該対応関係に基づいて、前記測定溶液に含まれる無電解ニッケルめっき液が含有する硫黄化合物の量を求める請求項1〜請求項4のいずれか一項に記載の無電解ニッケルめっき液の硫黄化合物定量分析方法。
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Citations (5)
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---|---|---|---|---|
JPS62285057A (ja) * | 1986-05-21 | 1987-12-10 | シ−メンス、アクチエンゲゼルシヤフト | 電気めつき浴中の有機添加物の定量法 |
JPH02297061A (ja) * | 1989-05-12 | 1990-12-07 | Nok Corp | 魚肉の鮮度測定法 |
JPH0798296A (ja) * | 1993-09-30 | 1995-04-11 | Hitachi Chem Co Ltd | 無電解銅めっき液中の添加剤の濃度測定法 |
JP2000329727A (ja) * | 1999-05-19 | 2000-11-30 | Nippon Riironaaru Kk | 無電解ニッケル浴の管理方法 |
JP2003147540A (ja) * | 2001-11-09 | 2003-05-21 | Learonal Japan Inc | 無電解ニッケルめっき液中の硫黄含有化合物濃度の測定方法 |
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Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62285057A (ja) * | 1986-05-21 | 1987-12-10 | シ−メンス、アクチエンゲゼルシヤフト | 電気めつき浴中の有機添加物の定量法 |
JPH02297061A (ja) * | 1989-05-12 | 1990-12-07 | Nok Corp | 魚肉の鮮度測定法 |
JPH0798296A (ja) * | 1993-09-30 | 1995-04-11 | Hitachi Chem Co Ltd | 無電解銅めっき液中の添加剤の濃度測定法 |
JP2000329727A (ja) * | 1999-05-19 | 2000-11-30 | Nippon Riironaaru Kk | 無電解ニッケル浴の管理方法 |
JP2003147540A (ja) * | 2001-11-09 | 2003-05-21 | Learonal Japan Inc | 無電解ニッケルめっき液中の硫黄含有化合物濃度の測定方法 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103776952A (zh) * | 2012-10-19 | 2014-05-07 | 南昌航空大学 | 定量分析化学复合镀镍液中纳米氧化物金属化比例的方法 |
CN103776952B (zh) * | 2012-10-19 | 2015-09-02 | 南昌航空大学 | 定量分析化学复合镀镍液中纳米氧化物金属化比例的方法 |
US11761090B2 (en) | 2015-12-03 | 2023-09-19 | Atotech Deutschland GmbH & Co. KG | Method for monitoring the total amount of sulphur containing compounds in a metal plating bath |
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