JP2012169617A - 検査装置および方法、リソグラフィ装置、リソグラフィ処理セル、およびデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】四分くさび光デバイス(QW)は、基板から散乱した放射の回折次数を別々に再誘導し、第1方向および第2方向の各々に沿って照明から回折次数を分離する。例えば、0次(0、0’)および1次(−1、+1’)を、各入射方向について分離する。マルチモードファイバ(MF)での捕捉の後、スペクトロメータ(S1−S4)を使用して波長(I0’(λ)、I0(λ)、I+1’(λ)、およびI−1(λ))の関数としての空間的に再誘導された回折次数の強度を測定する。そして、これをオーバーレイエラーの計算、または単一格子の非対称パラメータの再構築に用いる。
【選択図】図7
Description
放射の複数の波長を提供するように構成された照明システムと、
対物レンズを含み、かつ前記基板の平面に対して鏡面反射された第1方向および第2方向からの前記放射で前記対物レンズを介して前記ターゲットを照明するように構成された光学システムと、
前記基板から散乱した放射の回折次数を別々に再誘導するように構成された光デバイスと、
前記複数の波長で前記別々に再誘導された回折次数の特性を測定するように構成された1つ以上のディテクタと、
前記複数の波長で測定された前記特性を用いて前記ターゲットの非対称特性を決定するように構成されたプロセッサと、を含む、検査装置が提供される。
放射の複数の波長を提供することと、
前記基板の平面に対して鏡面反射された第1方向および第2方向からの前記放射で対物レンズを介して前記ターゲットを照明することと、
前記基板から散乱した放射の回折次数を別々に再誘導することと、
1つ以上のディテクタを用いて前記複数の波長で前記別々に再誘導された回折次数の特性を測定することと、
前記複数の波長で測定された前記特性を用いて前記ターゲットの非対称特性を決定することと、を含む、方法。
パターンを照明するように配置された照明システムと、
前記パターンのイメージを基板上に投影するように配置された投影システムと、
基板の平面において周期的な当該基板上のターゲットの非対称特性を決定する検査装置であって、
放射の複数の波長を提供するように構成された照明システムと、
対物レンズを含み、かつ前記基板の平面に対して鏡面反射された第1方向および第2方向からの前記放射で前記対物レンズを介して前記ターゲットを照明するように構成された光学システムと、
前記基板から散乱した放射の回折次数を別々に再誘導するように構成された光デバイスと、
前記複数の波長で前記別々に再誘導された回折次数の特性を測定するように構成された1つ以上のディテクタと、
前記複数の波長で測定された前記特性を用いて前記ターゲットの非対称特性を決定するように構成されたプロセッサと、を含む、検査装置と、を含む、リソグラフィ装置。
基板に放射感応性層を塗布するように配置されたコータと、
前記コータによって塗布された基板の前記放射感応性層上にイメージを露光するように配置されたリソグラフィ装置と、
前記リソグラフィ装置によって露光されたイメージを現像するように配置されたデベロッパと、
基板の平面において周期的な当該基板上のターゲットの非対称特性を決定する検査装置であって、
放射の複数の波長を提供するように構成された照明システムと、
対物レンズを含み、かつ前記基板の平面に対して鏡面反射された第1方向および第2方向からの前記放射で前記対物レンズを介して前記ターゲットを照明するように構成された光学システムと、
前記基板から散乱した放射の回折次数を別々に再誘導するように構成された光デバイスと、
前記複数の波長で前記別々に再誘導された回折次数の特性を測定するように構成された1つ以上のディテクタと、
前記複数の波長で測定された前記特性を用いて前記ターゲットの非対称特性を決定するように構成されたプロセッサと、を含む、検査装置と、を含む、リソグラフィセル。
リソグラフィ装置を用いて基板上にパターンを形成することと、
放射の複数の波長を提供することと、
前記基板の平面に対して鏡面反射された第1方向および第2方向からの前記放射で対物レンズを介して、前記リソグラフィ装置を用いて形成された前記ターゲットを照明することと、
前記基板から散乱した放射の回折次数を別々に再誘導することと、
1つ以上のディテクタを用いて前記複数の波長で前記別々に再誘導された回折次数の特性を測定することと、
前記複数の波長で測定された前記特性を用いて前記ターゲットの非対称特性を決定することと、によって
前記パターンのパラメータに関する値を決定することと、を含む、デバイス製造方法。
−放射ビームB(例えば、紫外線またはDUV放射)を調整するように構成された照明システム(イルミネータ)ILと、
−パターニングデバイス(例えば、マスク)MAを支持するように構成され、かつ特定のパラメータに従ってパターニングデバイスを正確に位置決めするように構成された第1ポジショナPMに連結されたサポート構造(例えば、マスクテーブル)MTと、
−基板(例えば、レジストコートウェーハ)Wを保持するように構成され、かつ特定のパラメータに従って基板を正確に位置決めするように構成された第2ポジショナPWに連結された基板テーブル(例えば、ウェーハテーブル)WTと、
−パターニングデバイスMAによって放射ビームBに付けられたパターンを基板Wのターゲット部分C(例えば、1つ以上のダイを含む)上に投影するように構成された投影システム(例えば、屈折投影レンズシステム)PLと、を備える。
1102:非対称パラメータをゼロに設定する
1104:収束に到達するまで対称パラメータを用いて再構築する
1106:変更されないように対称パラメータを固定する
1108:収束に到達するまで非対称パラメータを用いて再構築する
1110:変更されないように非対称パラメータを固定する
対称パラメータの小規模更新のためにステップ1104から1108の反復を行う。
Claims (21)
- 基板の平面において周期的な当該基板上のターゲットの非対称特性を決定する検査装置であって、
放射の複数の波長を提供するように構成された照明システムと、
対物レンズを含み、かつ前記基板の平面に対して鏡面反射された第1方向および第2方向からの前記放射で前記対物レンズを介して前記ターゲットを照明するように構成された光学システムと、
前記基板から散乱した放射の回折次数を別々に再誘導するように構成された光デバイスと、
前記複数の波長で前記別々に再誘導された回折次数の特性を測定するように構成された1つ以上のディテクタと、
前記複数の波長で測定された前記特性を用いて前記ターゲットの非対称特性を決定するように構成されたプロセッサと、を含む、検査装置。 - 前記照明システムは、前記対物レンズの瞳面に対して点反射された2つの放射ビームを提供するように構成される、請求項1に記載の検査装置。
- 前記光デバイスは、前記第1方向および前記第2方向の各々からの照明によって、前記基板から散乱した放射の回折次数を分離するように構成される、請求項1または2に記載の検査装置。
- 前記ターゲットは、複数の周期性方向において周期的であり、前記光デバイスは、前記複数の周期性方向に前記基板から散乱した放射の回折次数を分離するように構成される、請求項3に記載の検査装置。
- 前記光デバイスは、前記分離された回折次数を前記1つ以上のディテクタ上に投影して、別々に分離された回折次数から生じる前記ターゲットの空間的に重なったイメージを形成するように構成される、請求項4に記載の検査装置。
- 前記照明システムは、広帯域光源を含む、請求項1〜5のいずれかに記載の検査装置。
- 前記ターゲットに隣接する前記基板の表面から散乱した放射を空間的に遮って前記ターゲットによって散乱した放射を選択するように構成された、前記対物レンズの像面における空間フィルタをさらに含む、請求項1〜6のいずれかに記載の検査装置。
- 前記光デバイスは、前記対物レンズの瞳面に配置される、請求項1〜7のいずれかに記載の検査装置。
- 前記光デバイスは、4つの四分円の各々からの放射を別々に再誘導するように構成された4つのくさびを含む、請求項1〜8のいずれかに記載の検査装置。
- 前記ターゲットは、複数の周期性方向において周期的であり、前記光デバイスは、前記複数の周期性方向に前記基板から散乱した放射の回折次数にそれぞれ対応する複数の面を含む、請求項1〜8のいずれかに記載の検査装置。
- 前記光デバイスはアクロマート型である、請求項1〜10のいずれかに記載の検査装置。
- 前記別々に再誘導された回折次数のうちの1つ以上を捕捉するように構成された捕捉デバイスをさらに含む、請求項1〜11のいずれかに記載の検査装置。
- 前記捕捉デバイスは、1つ以上の光ファイバを含む、請求項12に記載の検査装置。
- 前記捕捉デバイスは、前記基板から散乱した前記放射を空間的に遮って前記ターゲットによって散乱した放射を選択するように構成される、請求項12または13に記載の検査装置。
- 前記測定特性は、前記複数の波長における強度を含む、請求項1〜14のいずれかに記載の検査装置。
- 前記ディテクタはスペクトロメータそ含む、請求項1〜15のいずれかに記載の検査装置。
- 前記測定特性は、波長の関数としての偏光を含む、請求項1〜16のいずれかに記載の検査装置。
- 基板の平面において周期的な当該基板上のターゲットの非対称特性を決定する方法であって、
放射の複数の波長を提供することと、
前記基板の平面に対して鏡面反射された第1方向および第2方向からの前記放射で対物レンズを介して前記ターゲットを照明することと、
前記基板から散乱した放射の回折次数を別々に再誘導することと、
1つ以上のディテクタを用いて前記複数の波長で前記別々に再誘導された回折次数の特性を測定することと、
前記複数の波長で測定された前記特性を用いて前記ターゲットの非対称特性を決定することと、を含む、方法。 - リソグラフィ装置であって、
パターンを照明するように配置された照明システムと、
前記パターンのイメージを基板上に投影するように配置された投影システムと、
基板の平面において周期的な当該基板上のターゲットの非対称特性を決定する検査装置であって、
放射の複数の波長を提供するように構成された照明システムと、
対物レンズを含み、かつ前記基板の平面に対して鏡面反射された第1方向および第2方向からの前記放射で前記対物レンズを介して前記ターゲットを照明するように構成された光学システムと、
前記基板から散乱した放射の回折次数を別々に再誘導するように構成された光デバイスと、
前記複数の波長で前記別々に再誘導された回折次数の特性を測定するように構成された1つ以上のディテクタと、
前記複数の波長で測定された前記特性を用いて前記ターゲットの非対称特性を決定するように構成されたプロセッサと、を含む、検査装置と、を含む、リソグラフィ装置。 - リソグラフィセルであって、
基板に放射感応性層を塗布するように配置されたコータと、
前記コータによって塗布された基板の前記放射感応性層上にイメージを露光するように配置されたリソグラフィ装置と、
前記リソグラフィ装置によって露光されたイメージを現像するように配置されたデベロッパと、
基板の平面において周期的な当該基板上のターゲットの非対称特性を決定する検査装置であって、
放射の複数の波長を提供するように構成された照明システムと、
対物レンズを含み、かつ前記基板の平面に対して鏡面反射された第1方向および第2方向からの前記放射で前記対物レンズを介して前記ターゲットを照明するように構成された光学システムと、
前記基板から散乱した放射の回折次数を別々に再誘導するように構成された光デバイスと、
前記複数の波長で前記別々に再誘導された回折次数の特性を測定するように構成された1つ以上のディテクタと、
前記複数の波長で測定された前記特性を用いて前記ターゲットの非対称特性を決定するように構成されたプロセッサと、を含む、検査装置と、を含む、リソグラフィセル。 - デバイス製造方法であって、
リソグラフィ装置を用いて基板上にパターンを形成することと、
放射の複数の波長を提供することと、
前記基板の平面に対して鏡面反射された第1方向および第2方向からの前記放射で対物レンズを介して、前記リソグラフィ装置を用いて形成された前記ターゲットを照明することと、
前記基板から散乱した放射の回折次数を別々に再誘導することと、
1つ以上のディテクタを用いて前記複数の波長で前記別々に再誘導された回折次数の特性を測定することと、
前記複数の波長で測定された前記特性を用いて前記ターゲットの非対称特性を決定することと、によって
前記パターンのパラメータに関する値を決定することと、を含む、デバイス製造方法。
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