JP2008532320A - 2つの回折次数による画像化に基づいたターゲット取得およびオーバレイ測定 - Google Patents
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Abstract
【選択図】図4
Description
Claims (35)
- 半導体の検査または測定を行うツールにおいて、半導体取得ターゲットを画像化するためのシステムであって、
波長λを有する少なくとも1つの入射ビームを、特定のピッチpを持つ構造を有する周期的なターゲットに向けるためのビーム発生器であって、前記少なくとも1つの入射ビームに応じて、前記周期的なターゲットから複数の出力ビームが散乱される、ビーム発生器と、
前記ターゲットからの第1および第2の出力ビームのみを通すための結像レンズ系であって、前記第1および第2の出力ビームに、ほぼ純粋な正弦波画像を形成させるように、前記第1の出力ビームと前記第2の出力ビームとの間の角度分離と、λと、前記ピッチとが選択されるよう適合された、結像レンズ系と、
前記正弦波画像を画像化するためのセンサと、
特定のピッチpを有するターゲットに前記少なくとも1つの入射ビームを向けるように、前記ビーム発生器を制御することで、前記センサが正弦波画像を検出するようにするための制御部と、を備える、システム。 - 請求項1に記載のシステムであって、前記制御部は、同じ前記特定のピッチpをそれぞれ有する第1および第2の周期的なターゲットに前記少なくとも1つの入射ビームを向けるように、前記ビーム発生器を制御することで、前記センサが、前記第1のターゲットの第1の正弦波画像と、前記第2のターゲットの第2の正弦波画像とを検出するようにすると共に、前記第1および第2の正弦波画像を解析して、前記第1および第2のターゲットがオーバレイまたはアライメント誤差を有するか否かを判定する、システム。
- 請求項1に記載のシステムであって、前記結像レンズに捕捉された前記2つの散乱ビームの前記ターゲットへの垂線に対する角度、すなわち、θ1およびθ2と、前記ピッチとは、条件p=λ/(sinθ1−sinθ2)をほぼ満たすように選択される、システム。
- 請求項1に記載のシステムであって、前記結像レンズに捕捉された前記2つのビームの間の前記角度分離、すなわち、2θと、λと、前記ピッチとは、条件p=λ/(2sinθ)をほぼ満たすように選択される、システム。
- 請求項1に記載のシステムであって、前記第1および第2の出力ビームは、コヒーレントな0次の回折次数と、1次の回折次数とを備え、前記結像レンズ系は、前記0次および1次の回折次数のみの通過を可能にするよう適合されている、システム。
- 請求項5に記載のシステムであって、前記ビーム発生器は、第1および第2の入射ビームを、双極子構成で、前記1または複数のターゲットに向けるよう適合されており、
前記第1および第2の入射ビームは、条件p=λ/(2sinθ)(λは前記波長であり、pは前記周期的なターゲットのピッチ)をほぼ満たすように選択された2θの角度分離を有し、
前記第1および第2の出力ビームは、それぞれが、非コヒーレントな1次の回折次数と、0次の回折次数とを含む、システム。 - 請求項6に記載のシステムであって、pは、前記非コヒーレントな1次の回折次数と0次の回折次数とが、同じ光路を共有するように選択される、システム。
- 請求項1に記載のシステムであって、λは、100nm幅未満の狭い波長帯域を含み、θは、30度未満の角度の拡散を有する、システム。
- 請求項1に記載のシステムであって、前記入射ビームは、回折光学素子を用いて生成され、前記回折光学素子は、条件p=λ/(2sinθ)が、広い範囲の波長に対して同時に満たされるように、異なる角度に各波長を向けることで、広帯域の入射ビームの利用を可能にするよう設計されている、システム。
- 請求項1に記載のシステムであって、前記制御部は、さらに、前記ターゲットの設計のピッチと、前記正弦波画像のピッチとを比較することにより、ターゲット取得が成功したか否かを判定するよう構成されている、システム。
- 請求項2に記載のシステムであって、前記第1のターゲットは、第1の層の上に配置され、前記第2のターゲットは、第2の層の上に配置され、前記制御部は、前記第1の正弦波画像と前記第2の正弦波画像との間のずれを、前記第1のターゲットと前記第2のターゲットとの間のオーバレイ誤差として定義することにより、前記オーバレイ誤差を判定するよう構成されている、システム。
- 請求項11に記載のシステムであって、前記第1および第2のターゲットは、複数の線構造を備える、システム。
- 請求項2に記載のシステムであって、前記第1および第2のターゲットは、同じ層の上に配置され、前記制御部は、前記第1の正弦波画像と前記第2の正弦波画像との間のずれを、前記第1のターゲットと前記第2のターゲットとの間のアライメント誤差として定義することにより、前記アライメント誤差を判定するよう構成されている、システム。
- 請求項2に記載のシステムであって、光学収差であるツールによる配置誤差(PE)が、前記第1および第2のターゲットの両方に対して同じように、第1の層の上の前記第1のターゲットおよび第2の層の上の前記第2のターゲットの前記第1および第2の正弦波画像に影響を与えることで、前記オーバレイまたはアライメントの判定は、光学収差の影響を受けない、システム。
- 求項1に記載のシステムであって、前記第1の出力ビームは、前記第2の出力ビームとコヒーレントであり、DC背景ノイズのみに寄与する出力ビームを含まない、システム。
- 請求項2に記載のシステムであって、前記ビーム発生器は、第1および第2の入射ビームと、第3および第4の入射ビームとを、交差四極子構成で、周期的なターゲットに向けるよう適合されており、
前記第1および第2の入射ビームは、条件px=λ/(2sinθx)(λは前記波長であり、pxはx方向に沿った前記周期的なターゲットのピッチ)をほぼ満たすように選択された前記x方向に沿った2θxの角度分離を有し、
前記第3および第4の入射ビームは、条件py=λ/(2sinθy)(λは前記波長であり、pyはy方向に沿った前記周期的なターゲットのピッチ)をほぼ満たすように選択された前記y方向に沿った2θyの角度分離を有する、システム。 - 請求項16に記載のシステムであって、前記制御部は、さらに、(i)前記第1および第2の入射ビームを前記第1および第2の周期的なターゲットに向けるように、前記ビーム発生器を制御することで、前記検出器が、前記第1のターゲットの第1の正弦波画像と前記第2のターゲットの第2の正弦波画像とを検出するようにし、(ii)前記第1および第2の正弦波画像を解析して、前記第1および第2のターゲットが、前記x方向にオーバレイまたはアライメント誤差を有するか否かを判定し、(iii)前記第3および第4の入射ビームを、y方向の構造を有する第3および第4の周期的なターゲットに向けるように、前記ビーム発生器を制御することで、前記検出器が、前記第3のターゲットの第3の正弦波画像と前記第4のターゲットの第4の正弦波画像とを検出するようにし、(iv)前記第3および第4の正弦波画像を解析して、前記第3および第4のターゲットが、前記y方向にオーバレイまたはアライメント誤差を有するか否かを判定するよう構成されている、システム。
- 請求項2に記載のシステムであって、前記ビーム発生器は、第1、第2、第3、および、第4の入射ビームを、対角四極子構成で、周期的なターゲットに向けるよう適合されており、
前記第1、第2、第3、および、第4の入射ビームは、x軸上に投射される場合には、条件px=λ/(2sinθx)(λは前記波長であり、pxはx方向に沿った前記周期的なターゲットのピッチ)をほぼ満たすように選択された前記x方向に沿った2θxの角度分離を有するよう構成され、
y軸上に投射される場合には、条件py=λ/(2sinθy)(λは前記波長であり、pyはy方向に沿った前記周期的なターゲットのピッチ)をほぼ満たすように選択された前記y方向に沿った2θyの角度分離を有するよう構成されている、システム。 - 請求項18に記載のシステムであって、前記制御部は、さらに、前記第1、第2、第3、および、第4の入射ビームを、前記第1、第2、第3、および、第4の周期的ターゲットに向けるように、前記ビーム発生器を制御することで、前記検出器が、前記第1のターゲットの第1の正弦波画像と、前記第2のターゲットの第2の正弦波画像と、前記第3のターゲットの第3の正弦波画像と、前記第4のターゲットの第4の正弦波画像とを検出するようにし、(ii)前記第1および第2の正弦波画像を解析して、前記第1および第2のターゲットが、前記x方向のオーバレイまたはアライメント誤差を有するか否かを判定し、(iii)前記第3および第4の正弦波画像を解析して、前記第3および第4のターゲットが、前記y方向のオーバレイまたはアライメント誤差を有するか否かを判定するよう構成されている、システム。
- オーバレイまたはアライメント半導体ターゲットを画像化するための方法であって、
波長λを有する少なくとも1つの入射ビームを、特定のピッチpを持つ構造を有する第1および第2の周期的なターゲットに向ける工程であって、前記少なくとも1つの入射ビームに応じて、前記第1および第2の周期的なターゲットの各々から複数の出力ビームが散乱される、工程と、
前記第1および第2のターゲットの各々からの第1および第2の出力ビームのみを通す工程であって、前記画像化システムは、前記第1および第2のターゲットからの前記第1および第2の出力ビームに、ほぼ純粋な第1および第2の正弦波画像をそれぞれ形成させるように、前記第1の出力ビームと前記第2の出力ビームとの間の角度分離と、λと、前記ピッチとが選択されるよう適合されている、工程と、
前記第1のターゲットの前記第1の正弦波画像と、前記第2のターゲットの前記第2の正弦波画像とを検出する工程と、
前記第1および第2の正弦波画像を解析して、前記第1および第2のターゲットが、オーバレイまたはアライメント誤差を有するか否かを判定する工程と、を備える、方法。 - 請求項20に記載の方法であって、前記第1の出力ビームと前記第2の出力ビームとの間の前記角度分離、すなわち、2θと、λと、前記ピッチとは、条件p=λ/(2sinθ)をほぼ満たすように選択される、方法。
- 請求項20に記載の方法であって、前記第1および第2の出力ビームは、コヒーレントな0次の回折次数と、1次の回折次数とを備え、前記結像レンズ系は、前記0次および1次の回折次数のみの通過を可能にするよう適合されている、方法。
- 請求項22に記載の方法であって、さらに、第1および第2の入射ビームを、双極子構成で、前記第1および第2のターゲットに向ける工程を備え、
前記第1および第2の入射ビームは、条件p=λ/(2sinθ)(λは前記波長であり、pは前記周期的なターゲットのピッチ)をほぼ満たすように選択された2θの角度分離を有し、
前記第1および第2の出力ビームは、それぞれが、非コヒーレントな1次の回折次数と、0次の回折次数とを含む、方法。 - 請求項23に記載の方法であって、pは、前記非コヒーレントな1次の回折次数と0次の回折次数とが、同じ光路を共有するように選択される、方法。
- 請求項20に記載の方法であって、λは、100nm幅未満の狭い波長帯域を含み、θは、30度未満の角度の拡散を有する、方法。
- 請求項20に記載の方法であって、前記入射ビームは、集光レンズの前または後ろに設置された回折光学素子(DOE)を用いて生成され、前記回折光学素子は、条件p=λ/(2sinθ)が、広い範囲の波長に対して同時に満たされるように、異なる角度に各波長を向けることで、広帯域の入射ビームの利用を可能にするよう設計されている、方法。
- 請求項20に記載の方法であって、前記第1のターゲットは、第1の層の上に配置され、前記第2のターゲットは、第2の層の上に配置され、前記第1の正弦波画像と前記第2の正弦波画像との間のずれを、前記第1のターゲットと前記第2のターゲットとの間のオーバレイ誤差として定義することにより、前記オーバレイ誤差が判定される、方法。
- 請求項27に記載の方法であって、前記第1および第2のターゲットは、それぞれ、複数の線構造を備える、方法。
- 請求項20に記載の方法であって、前記第1および第2のターゲットは、同じ層の上に配置され、前記第1の正弦波画像と前記第2の正弦波画像との間のずれを、前記第1のターゲットと前記第2のターゲットとの間のアライメント誤差として定義することにより、前記アライメント誤差が判定される、方法。
- 請求項20に記載の方法であって、ツールによる光学収差が、前記第1および第2のターゲットの両方に対して同じように、第1の層の上の前記第1のターゲットおよび第2の層の上の前記第2のターゲットの前記第1および第2の正弦波画像に影響を与えることで、前記オーバレイまたはアライメントの判定は、光学収差の影響を受けない、方法。
- 請求項20に記載のシステムであって、前記第1の出力ビームは、前記第2の出力ビームとコヒーレントであり、DC背景ノイズのみに寄与する出力ビームを含まない、システム。
- 請求項20に記載のシステムであって、さらに、
第1、第2、第3、および、第4の入射ビームを、交差四極子構成で、周期的なターゲットに向ける工程を備え、
前記第1および第2の入射ビームは、条件px=λ/(2sinθx)(λは前記波長であり、pxはx方向に沿った前記周期的なターゲットのピッチ)をほぼ満たすように選択された前記x方向に沿った2θxの角度分離を有し、
前記第3および第4の入射ビームは、条件py=λ/(2sinθy)(λは前記波長であり、pyはy方向に沿った前記周期的なターゲットのピッチ)をほぼ満たすように選択された2θyの角度分離を有する、システム。 - 請求項32に記載の方法であって、さらに、
前記検出器が、前記第1のターゲットの第1の正弦波画像と、前記第2のターゲットの第2の正弦波画像とを検出するように、前記第1および第2の入射ビームを、前記第1および第2の周期的なターゲットに向ける工程と、
前記第1および第2の正弦波画像を解析して、前記第1および第2のターゲットが、前記x方向のオーバレイまたはアライメント誤差を有するか否かを判定する工程と、
前記検出器が、第3のターゲットの第3の正弦波画像と、第4のターゲットの第4の正弦波画像とを検出するように、前記第3および第4の入射ビームを、第3および第4の周期的なターゲットに向ける工程と、
前記第3および第4の正弦波画像を解析して、前記第3および第4のターゲットが、前記y方向のオーバレイまたはアライメント誤差を有するか否かを判定する工程と、を備える、方法。 - 請求項20に記載の方法であって、さらに、
第1、第2、第3、および、第4の入射ビームを、対角四極子構成で、周期的なターゲットに向ける工程を備え、
前記第1、第2、第3、および、第4の入射ビームは、x軸上に投射される場合には、条件px=λ/(2sinθx)(λは前記波長であり、pxはx方向に沿った前記周期的なターゲットのピッチ)をほぼ満たすように選択された前記x方向に沿った2θxの角度分離を有するよう構成され、
y軸上に投射される場合には、条件py=λ/(2sinθy)(λは前記波長であり、pyはy方向に沿った前記周期的なターゲットのピッチ)をほぼ満たすように選択された前記y方向に沿った2θyの角度分離を有するよう構成される、方法。 - 請求項34に記載の方法であって、さらに、
前記検出器が、前記第1のターゲットの第1の正弦波画像と、前記第2のターゲットの第2の正弦波画像とを検出するように、前記第1、第2、第3、および、第4の入射ビームを、前記第1、第2、第3、および、第4の周期的なターゲットに向ける工程と、
前記第1および第2の正弦波画像を解析して、前記第1および第2のターゲットが、前記x方向のオーバレイまたはアライメント誤差を有するか否かを判定する工程と、
前記第3および第4の正弦波画像を解析して、前記第3および第4のターゲットが、前記y方向のオーバレイまたはアライメント誤差を有するか否かを判定する工程と、を備える、方法。
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