JP2012166425A - 成形装置および成形方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】溶融材料が送り込まれる金型10と、プラズマが発生するプラズマ電極12、13とを備え、金型10には、プラズマ電極12、13で発生したプラズマを金型10の内部空間11に照射するためのプラズマ照射口101a、102aが設けられている。プラズマ照射口101a、102aは、離型ピン12、13が挿入されるピン穴101a、102aで構成することができ、プラズマ電極は、離型ピン12、13で構成することができる。
【選択図】図1
Description
プラズマを発生させるためのプラズマ電極(12、13)とを備え、
金型(10)には、プラズマ電極(12、13)と対をなす電極の間で発生したプラズマを金型(10)の内部空間(11)に照射するためのプラズマ照射口(101a、102a)が設けられていることを特徴とする。
離型ピン(12、13)が挿入されるピン穴(101a、102a)とを備え、
プラズマ照射口は、ピン穴(101a、102a)で構成されていることを特徴とする。
ピン駆動手段(14、15)は、離型ピン(12、13)がピン穴(101a、102a)を開くプラズマ照射位置、離型ピン(12、13)がピン穴(101a、102a)を塞ぐ成形位置、および離型ピン(12、13)がピン穴(101a、102a)よりも金型(10)の内部空間(11)側に突出する離型位置に、離型ピン(12、13)を調整可能になっていればよい。
金型(10)を閉めた状態で、プラズマ照射口(101a、102a)から金型(10)の内部空間(11)にプラズマを照射するプラズマ照射工程を含むことを特徴とする。
金型(10)の表面を改質するための金型改質用プラズマを照射する金型改質工程と、
金型(10)の内部空間(11)にセットされたインサート部品(1)を反応活性にするための反応活性用プラズマを照射する反応活性工程とを含み、
反応活性工程では、反応活性用プラズマを、金型改質用プラズマに比べて集中照射することを特徴とする。
金型(10)の表面を改質するための金型改質用プラズマを照射する金型改質工程と、
金型(10)の内部空間(11)にセットされたインサート部品(1)を反応活性にするための反応活性用プラズマを照射する反応活性工程とを含み、
反応活性工程では、反応活性用プラズマによって生成されるラジカルの活性寿命を、金型改質用プラズマによって生成されるラジカルの活性寿命に比べて短くすることを特徴とする。
以下、第1実施形態を説明する。図1は、本実施形態におけるインサート成形装置(成形装置)の概略を示す断面図である。インサート成形装置は金型10を備えている。金型10は、上型101と下型102とでキャビティ11(成形品の形状を有する内部空間)を形成するものである。
本第2実施形態では、誘電体バリア放電(無声放電)を用いたプラズマ発生系としている。誘電体バリア放電(無声放電)とは、絶縁体に電界を加えて電荷を蓄積させ、電位差が生じたところで放電させる現象のことであり、常時電流が流れないので、高温プラズマにはならず、化学的反応を促進する大気圧プラズマの発生方法として知られている。
なお、上記各実施形態では、離型ピン12、13のピン穴101a、102をプラズマ照射口として利用しているが、これに限定されるものではなく、例えばスライドコア用の穴をプラズマ照射口として利用しても良い。また、金型10にプラズマ照射専用の穴を設けても良い。
10 金型
11 キャビティ(内部空間)
12、13 離型ピン(プラズマ電極)
14、15 ピン駆動機構(ピン駆動手段)
101a、102a ピン穴(プラズマ照射口)
Claims (10)
- 溶融材料が送り込まれる金型(10)と、
プラズマを発生させるためのプラズマ電極(12、13)とを備え、
前記金型(10)には、前記プラズマ電極(12、13)と対をなす電極の間で発生した前記プラズマを前記金型(10)の内部空間(11)に照射するためのプラズマ照射口(101a、102a)が設けられていることを特徴とする成形装置。 - 前記金型(10)から成形品を離型させる離型ピン(12、13)と、
前記離型ピン(12、13)が挿入されるピン穴(101a、102a)とを備え、
前記プラズマ照射口は、前記ピン穴(101a、102a)で構成されていることを特徴とする請求項1に記載の成形装置。 - 前記プラズマ電極は、前記離型ピン(12、13)で構成されていることを特徴とする請求項2に記載の成形装置。
- 前記離型ピン(12、13)を駆動するピン駆動手段(14、15)を備え、
前記ピン駆動手段(14、15)は、前記離型ピン(12、13)が前記ピン穴(101a、102a)を開くプラズマ照射位置、前記離型ピン(12、13)が前記ピン穴(101a、102a)を塞ぐ成形位置、および前記離型ピン(12、13)が前記ピン穴(101a、102a)よりも前記内部空間(11)側に突出する離型位置に、前記離型ピン(12、13)を調整可能になっていることを特徴とする請求項2または3に記載の成形装置。 - 前記金型(10)は、前記プラズマ電極(12、13)と対をなす電極を構成していることを特徴とする請求項2ないし4のいずれか1つに記載の成形装置。
- 請求項1ないし5のいずれか1つに記載の成形装置を用いて成形品を製造する成形方法であって、
前記金型(10)を閉めた状態で、前記プラズマ照射口(101a、102a)から前記内部空間(11)に前記プラズマを照射するプラズマ照射工程を含むことを特徴とする成形方法。 - 前記プラズマ照射工程は、前記金型(10)の表面を改質するための金型改質用プラズマを照射する金型改質工程を含むことを特徴とする請求項6に記載の成形方法。
- 前記プラズマ照射工程は、前記内部空間(11)にセットされたインサート部品(1)を反応活性にするための反応活性用プラズマを照射する反応活性工程を含むことを特徴とする請求項6または7に記載の成形方法。
- 前記プラズマ照射工程は、
前記金型(10)の表面を改質するための金型改質用プラズマを照射する金型改質工程と、
前記内部空間(11)にセットされたインサート部品(1)を反応活性にするための反応活性用プラズマを照射する反応活性工程とを含み、
前記反応活性工程では、前記反応活性用プラズマを、前記金型改質用プラズマに比べて集中照射することを特徴とする請求項6に記載の成形方法。 - 前記プラズマ照射工程は、
前記金型(10)の表面を改質するための金型改質用プラズマを照射する金型改質工程と、
前記内部空間(11)にセットされたインサート部品(1)を反応活性にするための反応活性用プラズマを照射する反応活性工程とを含み、
前記反応活性工程では、前記反応活性用プラズマによって生成されるラジカルの活性寿命を、前記金型改質用プラズマによって生成されるラジカルの活性寿命に比べて短くすることを特徴とする請求項6に記載の成形方法。
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