JP2012159417A - 変位センサおよびその製造方法、半導体ウェハ - Google Patents
変位センサおよびその製造方法、半導体ウェハ Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】 本発明の変位センサは、基板と、基板に対して2軸方向に変位可能に支持された可動質量体と、積層方向に直交する方向の変位量を検出する第1固定電極および第1可動電極と、積層方向の変位量を検出するための第2固定電極および第2可動電極を備えている。その変位センサは、第1固定電極および第1可動電極の一方の外側端部が、第1固定電極および第1可動電極の他方の外側端部よりも内側にあり、第1固定電極および第1可動電極の前記一方の内側端部が、第1固定電極および第1可動電極の前記他方の内側端部よりも外側にあるように、第1固定電極と第1可動電極が形成されている。
【選択図】 図2
Description
なお、本明細書では、加速度に応じて可動質量体(質量を有する物体)が変位する現象を利用し、可動質量体の変位量から可動質量体に作用した加速度を測定する変位センサを説明する。しかしながら、本明細書で開示する技術を利用する変位センサを、角加速度、圧力、外力等によって可動質量体が変位する環境で用いれば、可動質量体に作用した角加速度、圧力、外力等を測定することもできる。また、本発明の技術を利用する変位センサは、可動質量体の変位量自体を測定するためにも利用できる。
(特徴1)第1導電層は不純物を添加した単結晶シリコンであり、絶縁層は酸化シリコンであり、第2導電層は不純物を添加した単結晶シリコンである。
以下では図1−図4を参照しながら、実施例1に係る加速度センサ2の構造について説明する。図2、図3に示すように、加速度センサ2は、導電体からなる第1層10と、絶縁体からなる第2層20と、導電体からなる第3層30の積層構造を有している。具体的には、本実施例の加速度センサ2では、第1層10は不純物を添加した単結晶シリコンからなり、第2層20は酸化シリコンからなり、第3層30は不純物を添加した単結晶シリコンからなる、いわゆるSOI(Silicon on Insulator)構造を有している。
以下では図14−図21を参照しながら、実施例1の加速度センサ2の他の製造方法について説明する。図14−図21は、図1のA−A線断面、すなわち、図2の断面に相当する。
図2に示すように、実施例1の加速度センサ2では、支持基板100と固定電極114の間の間隔は、支持基板100とプルーフマス102の間の間隔と同一としている。これとは異なり、図26に示すように、固定電極114と支持基板100の間の間隔を、プルーフマス102と支持基板100の間の間隔よりも大きく形成してもよい。このような加速度センサ4は、図5の工程で広く浅い溝部204を形成する際、あるいは図14の工程で広く浅い溝部304を形成する際に、固定電極114に対応する位置に、さらに深さの浅い溝部を形成しておいて、その溝部に空洞部218または充填部322を形成することで、製造することができる。加速度センサ4では、支持基板100と固定電極114の間の間隔、および支持基板100と可動電極116の間の間隔が、いずれもプルーフマス102と支持基板100の間の間隔よりも大きい。これにより、可動電極116と支持基板100の間の寄生容量と、固定電極114と支持基板100の間の寄生容量の双方を小さく抑えることができる。これらの寄生容量が加速度センサ2の検出値に及ぼす影響を抑制することができる。
以下では図27−図29を参照しながら、実施例2に係る加速度センサ6の構造について説明する。以下の説明では、実施例1の加速度センサ2と同様の構成については、同一の参照符号を付して詳細は説明を省略する。
10 第1層
20 第2層
30 第3層
100,400 支持基板
102,402 プルーフマス
104 支持梁
106 枠状支持部
108 絶縁支持部
110 Y方向変位検出部
111,411 Z方向変位検出部
112 固定電極支持部
113 絶縁支持部
114,414 固定電極
116,416 可動電極
118 第1表面電極
120,420 第2表面電極
122 第3表面電極
124 貫通マーク
202,214,302,318 シリコンウェハ
204,222,304,326 広く浅い溝部
206,310 細く深い溝部
208,210,212,306,14,316 酸化膜
216,320 SOIウェハ
218 空洞部
308 細い溝
312 ポリシリコン
322 充填部
404 下側領域
406 絶縁領域
408 上側領域
Claims (6)
- 第1導電層と第2導電層の間に絶縁層が積層された積層構造を有する変位センサであって、
基板と、
基板に対して積層方向を含む少なくとも2軸方向に変位可能に支持された可動質量体と、
第1導電層に形成されており、基板に対して位置を固定されている第1固定電極と、
第1導電層に形成されており、可動質量体に対して位置を固定されており、第1固定電極に対して積層方向に直交する方向に対向して配置されている第1可動電極と、
第1導電層および第2導電層の一方に形成されており、基板に対して位置を固定されている第2固定電極と、
第1導電層および第2導電層の他方に形成されており、可動質量体に対して位置を固定されており、第2固定電極に対して積層方向に対向して配置されている第2可動電極を備えており、
第1導電層において絶縁層から遠い側を外側とし、絶縁層に近い側を内側としたときに、第1固定電極および第1可動電極の一方の外側端部が、第1固定電極および第1可動電極の他方の外側端部よりも内側にあり、第1固定電極および第1可動電極の前記一方の内側端部が、第1固定電極および第1可動電極の前記他方の内側端部よりも外側にあるように、第1固定電極と第1可動電極が形成されている変位センサ。 - 第1導電層において絶縁層から遠い側を外側とし、絶縁層に近い側を内側としたときに、第1可動電極の外側端部が第1固定電極の外側端部よりも内側にあり、第1可動電極の内側端部が第1固定電極の内側端部よりも外側にあるように、第1固定電極と第1可動電極が形成されている、請求項1の変位センサ。
- 第1導電層において絶縁層から遠い側を外側とし、絶縁層に近い側を内側としたときに、第1可動電極の内側端部および第1固定電極の内側端部のいずれも、第1導電層に形成されている第2固定電極または第2可動電極の内側端部よりも外側にあるように、第1固定電極と第1可動電極が形成されている、請求項1または2の変位センサ。
- 請求項1の変位センサを製造する方法であって、
第1導電層を備える第1ウェハを準備する工程と、
第1導電層の表面に第1溝部を形成する工程と、
第1導電層の第1溝部に絶縁層を形成する工程と、
第1導電層を貫通する貫通孔を形成する工程と、
第1導電層の貫通孔に、第1導電層とは異なる材料を含む貫通マークを形成する工程と、
第2導電層を備える第2ウェハを準備する工程と、
第2導電層の表面に絶縁層を形成する工程と、
第1導電層の第1溝部に形成された絶縁層と第2導電層の表面に形成された絶縁層が当接するように、第1ウェハと第2ウェハを接合して第3ウェハを形成する工程と、
第3ウェハの前記貫通マークが露出している表面に、前記貫通マークの位置を基準として利用し、第1溝部に対応する位置に第2溝部を形成する工程と、
第3ウェハの第1導電層を異方性エッチングにより選択的に除去する工程と、
第3ウェハの絶縁層を等方性エッチングにより選択的に除去する工程を備える方法。 - 請求項1の変位センサを製造するために用いられる、第1導電層と第2導電層の間に絶縁層が積層された積層構造を有する半導体ウェハであって、
第1導電層の絶縁層と対向する面に溝部が形成されており、
第1導電層を貫通して絶縁層に達する貫通孔が形成されており、
第1導電層の溝部に絶縁層が形成されており、
貫通孔に第1導電層とは異なる材料を含む貫通マークが形成されている半導体ウェハ。 - 前記溝部に絶縁膜で覆われた空洞部が形成されている請求項5の半導体ウェハ。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
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Applications Claiming Priority (1)
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---|---|
JP2012159417A true JP2012159417A (ja) | 2012-08-23 |
JP5664292B2 JP5664292B2 (ja) | 2015-02-04 |
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Family Applications (1)
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---|---|---|---|
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Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5664292B2 (ja) |
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