JP2012151053A - 荷電粒子線装置、及び画像解析装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】SEM画像取得時にY方向の走査ゲインをゼロにすることで、走査線方向(X方向)に一次元走査を行うと共に、当該走査によって得られる画像情報を、Y方向に時系列的に配列することで、二次元画像を作成する。相関関数により、当該二次元画像のずれ量データを取得し、当該データを周波数解析することで画像中に含まれる磁場や振動などを測定する。
【選択図】 図2
Description
なお、制御装置1105における制御や処理の一部又は全てを、CPUや画像の蓄積が可能なメモリを搭載した電子計算機等に割り振って処理・制御することも可能である。また、制御装置1106は、検査等に必要とされる電子デバイスの座標,位置決めに利用するパターンマッチング用のテンプレート,撮影条件等を含む撮像レシピを手動もしくは、電子デバイスの設計データ213を活用して作成する撮像レシピ作成装置とネットワークまたはバス等を介して接続することもできる。
2 電子
3 集束レンズ
4 対物レンズ
5 試料
6 偏向器
7 二次粒子
8 荷電粒子検出器
9 制御プロセッサ
10 表示手段
Claims (15)
- 荷電粒子源と、
当該荷電粒子源から放出されるビームを走査する偏向器と、
試料から放出された荷電粒子に基づいて画像を形成する画像形成部を備えた荷電粒子線装置において、
前記画像形成部は、前記偏向器が前記ビームを一次元的に複数回走査したときに得られる信号を、二次元的に展開して二次元像を形成することを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項1において、
前記二次元像のエッジを示す波形情報について、周波数解析を行う信号解析部を備えたことを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項2において、
前記信号解析部は、前記周波数解析に基づいて得られる周波数成分ごとの信号量を検出することを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項2において、
前記信号解析部によって、得られた周波数解析結果が所定の条件となったときに、その情報を出力する出力データ作成部を備えたことを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項2において、
前記信号解析部は、得られた周波数解析結果を、予め登録されたデータベースを参照することによって、得られた周波数成分と関連付けて記憶されたノイズ関連情報を出力することを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項1において、
前記画像形成部は、前記ビームを前記偏向器によって異なる2つの方向に一次元的に走査することによって検出される荷電粒子に基づいて、少なくとも2つの二次元像を形成することを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項1において、
前記画像形成部は、定期的な前記ビームの一次元走査によって得られる荷電粒子に基づいて、複数の画像を形成することを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項1において、
前記二次元像のエッジを示す波形情報について、周波数解析を行う信号解析部と、当該信号解析部によって検出されたノイズ成分を除去するように、前記偏向器を制御する偏向器制御部を備えたことを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項1において、
前記二次元像のエッジを示す波形情報について、周波数解析を行う信号解析部を備え、前記画像形成部は、当該信号解析部によって検出されたノイズ成分を除去して画像を形成することを特徴とする荷電粒子線装置。 - 荷電粒子線装置によって得られる検出信号に基づいて形成される画像を解析する信号解析部を備えた画像解析装置において、
前記偏向器が前記ビームを一次元的に複数回走査したときに得られる信号を、二次元的に展開して得られる二次元像を解析することを特徴とする画像解析装置。 - 請求項10において、
前記信号解析部は、複数の荷電粒子線装置によって得られる複数の二次元像を解析することを特徴とする画像解析装置。 - 請求項11において、
前記信号解析部によって得られる複数の荷電粒子線装置間の機差に基づいて、前記複数の荷電粒子線装置の装置条件を設定する条件設定部を備えたことを特徴とする画像解析装置。 - 請求項10において、
前記信号解析部は、前記周波数解析に基づいて得られる周波数成分ごとの信号量を検出することを特徴とする画像解析装置。 - 請求項10において、
前記信号解析部によって、得られた周波数解析結果が所定の条件となったときに、その情報を出力する出力データ作成部を備えたことを特徴とする画像解析装置。 - 請求項10において、
前記信号解析部は、得られた周波数解析結果を、予め登録されたデータベースを参照することによって、得られた周波数成分と関連付けて記憶されたノイズ関連情報を出力することを特徴とする画像解析装置。
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9793091B1 (en) | 2016-06-28 | 2017-10-17 | Ngr Inc. | Image generation apparatus |
JP2020155374A (ja) * | 2019-03-22 | 2020-09-24 | 株式会社日立ハイテク | 電子ビーム装置及び画像処理方法 |
KR20220015925A (ko) | 2020-07-31 | 2022-02-08 | 주식회사 히타치하이테크 | 하전입자선 장치 및 전기 노이즈의 계측 방법 |
KR20220123283A (ko) | 2020-03-30 | 2022-09-06 | 주식회사 히타치하이테크 | 하전 입자선 장치 및 조도 지표 산출 방법 |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016110767A (ja) * | 2014-12-04 | 2016-06-20 | 日本電子株式会社 | 荷電粒子ビーム装置および画像取得方法 |
CN104732533B (zh) * | 2015-03-12 | 2017-06-13 | 浙江大学 | 一种针对扫描探针显微镜的自动化图像畸变评估方法 |
EP3163597A1 (en) * | 2015-11-02 | 2017-05-03 | FEI Company | Charged particle microscope with vibration detection/correction |
WO2018122968A1 (ja) * | 2016-12-27 | 2018-07-05 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子ビーム装置及び荷電粒子ビーム装置のノイズ源特定方法 |
JP7107653B2 (ja) * | 2017-08-31 | 2022-07-27 | 東レエンジニアリング先端半導体Miテクノロジー株式会社 | 画像生成方法 |
JP6850234B2 (ja) * | 2017-09-29 | 2021-03-31 | 株式会社日立ハイテク | 荷電粒子線装置 |
EP3503157A1 (en) * | 2017-12-22 | 2019-06-26 | ASML Netherlands B.V. | Inspection tool and method of determining a distortion of an inspection tool |
JP7058769B2 (ja) | 2019-01-23 | 2022-04-22 | 株式会社日立ハイテク | 電子ビーム観察装置、電子ビーム観察システム、電子ビーム観察装置における画像補正方法及び画像補正のための補正係数算出方法 |
DE112022002245T5 (de) * | 2021-07-02 | 2024-03-14 | Hitachi Astemo, Ltd. | Bildverarbeitungssystem, bildverarbeitungsvorrichtung und bildverarbeitungsverfahren |
WO2023232382A1 (en) * | 2022-06-01 | 2023-12-07 | Asml Netherlands B.V. | System and method for distortion adjustment during inspection |
WO2024061596A1 (en) * | 2022-09-21 | 2024-03-28 | Asml Netherlands B.V. | System and method for image disturbance compensation |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63307652A (ja) * | 1987-06-08 | 1988-12-15 | Nikon Corp | 電子顕微鏡の焦点位置検出装置 |
JP2002243428A (ja) * | 2001-02-13 | 2002-08-28 | Hitachi Ltd | パターン検査方法およびその装置 |
JP2005116795A (ja) * | 2003-10-08 | 2005-04-28 | Toshiba Corp | 荷電ビーム照射方法、半導体装置の製造方法および荷電ビーム照射装置 |
JP2008203109A (ja) * | 2007-02-21 | 2008-09-04 | Hitachi High-Technologies Corp | パターン寸法計測方法及びその装置 |
WO2010041392A1 (ja) * | 2008-10-06 | 2010-04-15 | 株式会社 日立ハイテクノロジーズ | 走査荷電粒子顕微鏡 |
JP2010135107A (ja) * | 2008-12-02 | 2010-06-17 | Hitachi High-Technologies Corp | 荷電粒子線装置、及び荷電粒子線評価装置 |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06188181A (ja) | 1992-12-21 | 1994-07-08 | Jeol Ltd | 荷電粒子ビーム描画方法 |
JP2002217086A (ja) | 2001-01-16 | 2002-08-02 | Sony Corp | 電子ビーム照射装置および電子ビーム照射方法 |
JP2005251745A (ja) * | 2004-02-23 | 2005-09-15 | Zyvex Corp | 荷電粒子ビーム装置プローブ操作 |
JP4708854B2 (ja) * | 2005-05-13 | 2011-06-22 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置 |
JP4801518B2 (ja) * | 2006-07-07 | 2011-10-26 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線顕微方法および荷電粒子線装置 |
JP2009222454A (ja) * | 2008-03-14 | 2009-10-01 | Hitachi High-Technologies Corp | パターン測定方法及びパターン測定装置 |
JP5366619B2 (ja) | 2008-08-12 | 2013-12-11 | キヤノン株式会社 | 画像処理装置、撮像装置、画像処理方法、画像処理プログラム |
JP5286004B2 (ja) * | 2008-09-12 | 2013-09-11 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 基板の検査装置、および、基板の検査方法 |
WO2010035416A1 (ja) * | 2008-09-26 | 2010-04-01 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子ビーム装置 |
JP2010135017A (ja) | 2008-12-05 | 2010-06-17 | Sharp Corp | 光ピックアップ装置および情報記録再生装置 |
JP5335827B2 (ja) * | 2011-01-04 | 2013-11-06 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置及びその検出信号の補正方法 |
-
2011
- 2011-01-21 JP JP2011010351A patent/JP5537448B2/ja active Active
-
2012
- 2012-01-19 KR KR1020137018947A patent/KR101567178B1/ko active IP Right Grant
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- 2012-01-19 WO PCT/JP2012/051044 patent/WO2012099190A1/ja active Application Filing
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63307652A (ja) * | 1987-06-08 | 1988-12-15 | Nikon Corp | 電子顕微鏡の焦点位置検出装置 |
JP2002243428A (ja) * | 2001-02-13 | 2002-08-28 | Hitachi Ltd | パターン検査方法およびその装置 |
JP2005116795A (ja) * | 2003-10-08 | 2005-04-28 | Toshiba Corp | 荷電ビーム照射方法、半導体装置の製造方法および荷電ビーム照射装置 |
JP2008203109A (ja) * | 2007-02-21 | 2008-09-04 | Hitachi High-Technologies Corp | パターン寸法計測方法及びその装置 |
WO2010041392A1 (ja) * | 2008-10-06 | 2010-04-15 | 株式会社 日立ハイテクノロジーズ | 走査荷電粒子顕微鏡 |
JP2010135107A (ja) * | 2008-12-02 | 2010-06-17 | Hitachi High-Technologies Corp | 荷電粒子線装置、及び荷電粒子線評価装置 |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9793091B1 (en) | 2016-06-28 | 2017-10-17 | Ngr Inc. | Image generation apparatus |
JP2020155374A (ja) * | 2019-03-22 | 2020-09-24 | 株式会社日立ハイテク | 電子ビーム装置及び画像処理方法 |
JP7077260B2 (ja) | 2019-03-22 | 2022-05-30 | 株式会社日立ハイテク | 電子ビーム装置及び画像処理方法 |
KR20220123283A (ko) | 2020-03-30 | 2022-09-06 | 주식회사 히타치하이테크 | 하전 입자선 장치 및 조도 지표 산출 방법 |
KR20220015925A (ko) | 2020-07-31 | 2022-02-08 | 주식회사 히타치하이테크 | 하전입자선 장치 및 전기 노이즈의 계측 방법 |
US11735395B2 (en) | 2020-07-31 | 2023-08-22 | Hitachi High-Tech Corporation | Charged particle beam device and method of measuring electrical noise |
JP7437262B2 (ja) | 2020-07-31 | 2024-02-22 | 株式会社日立ハイテク | 荷電粒子線装置および電気ノイズの計測方法 |
Also Published As
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