JP2012049411A - 半導体製造装置の管理装置、及びコンピュータプログラム - Google Patents
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Abstract
【解決手段】上記目的を達成するための一態様として、複数の位置のパターンの形状情報と、露光装置の露光条件との関連を記憶するライブラリと、画像情報から抽出された複数の位置の形状情報と、ライブラリに記憶された形状情報を比較し、画像情報から抽出された複数のパターンの形状情報に相当する複数の露光条件の範囲の論理積に基づいて、前記露光条件を抽出する演算装置を備えた半導体製造装置の管理装置、及び上記処理を実行するコンピュータプログラムを提案する。
【選択図】 図21
Description
2403 欠陥レビュー用SEM
2404 管理装置
2405 シミュレーター
2406 記憶媒体
Claims (14)
- パターンの屈曲部の曲率情報と、露光装置の露光条件、或いは露光条件を特定するために設けられたフラグとの関連を記憶するライブラリと、画像情報から抽出されたパターンの曲率情報と、ライブラリに記憶された曲率情報を比較し、当該画像情報から抽出されたパターンの曲率情報に相当する露光条件、或いはフラグを抽出する演算装置とを備えたことを特徴とする半導体製造装置の管理装置。
- 請求項1において、
前記ライブラリには、前記露光装置の露光条件と、パターンの寸法情報、及び/又はパターンの断面形状情報が関連付けて記憶されていることを特徴とする半導体製造装置の管理装置。 - 請求項1において、
前記演算装置は、走査電子顕微鏡によって取得された画像のエッジ部の輪郭を抽出する輪郭線抽出部を有することを特徴とする半導体製造装置の管理装置。 - 請求項1において、
前記ライブラリは、前記パターンの複数部位の曲率情報と、複数の露光条件を関連付けて記憶し、前記演算装置は、前記画像情報から抽出された複数の曲率情報と、ライブラリに記憶された複数の曲率情報を比較し、当該画像情報から抽出されたパターンの曲率情報に相当する露光条件を抽出することを特徴とする半導体製造装置の管理装置。 - 演算装置に、画像情報から抽出されたパターンデータに基づいて、当該パターンを形成した露光装置の露光条件を推定させるコンピュータプログラムにおいて、
当該プログラムは、前記演算装置に、パターンの屈曲部の曲率情報と、露光装置の露光条件、或いは露光条件を特定するために設けられたフラグとの関連を記憶するライブラリへのアクセスを実行させ、画像情報から抽出されたパターンの曲率情報と、ライブラリに記憶された曲率情報を比較し、当該画像情報から抽出されたパターンの曲率情報に相当する露光条件を抽出させることを特徴とするコンピュータプログラム。 - 複数の位置のパターンの形状情報と、露光装置の露光条件、或いは露光条件を特定するために設けられたフラグとの関連を記憶するライブラリと、
画像情報から抽出された複数の位置の形状情報と、ライブラリに記憶された形状情報を比較し、画像情報から抽出された複数のパターンの形状情報に相当する複数の露光条件の範囲、或いは露光条件の範囲を特定するために設けられた複数のフラグに基づいて得られる複数の露光条件の範囲の論理積に基づいて、前記露光条件を抽出する演算装置を備えたことを特徴とする半導体製造装置の管理装置。 - 請求項6において、
前記パターンの形状情報は、前記パターンの曲率情報を含むことを特徴とする半導体製造装置の管理装置。 - 請求項6において、
前記ライブラリには、前記パターンの形状情報として、前記パターンの曲率情報と、前記パターンの他の特徴量に関する情報が併せて記憶され、前記演算装置は、前記抽出された露光条件を、前記パターンの他の特徴量に基づいて、絞り込みを行うことを特徴とする半導体製造装置の管理装置。 - 請求項6において、
前記パターンの他の特徴量は、前記パターンの寸法情報、及び/又は前記パターンのエッジの断面情報であることを特徴とする半導体製造装置の管理装置。 - 請求項6において、
前記演算装置は、前記ライブラリに記憶された前記複数の位置の形状情報と、前記露光装置のフォーカス条件との関連に基づいて、前記複数の位置の形状情報ごとのフォーカス範囲を抽出し、当該抽出されたフォーカス情報の論理積に基づいて、前記露光装置のフォーカス範囲の絞り込みを行うことを特徴とする半導体製造装置の管理装置。 - 請求項10において、
前記演算装置は、前記絞り込まれたフォーカス範囲を、当該パターンの他の特徴量を用いて更に絞り込むことを特徴とする半導体製造装置の管理装置。 - 請求項6において、前記演算装置は、前記論理積に基づいて、前記露光装置のフォーカス条件を特定し、当該特定されたフォーカス条件と、前記パターンの他の特徴量に基づいて、前記露光装置のドーズ条件を特定することを特徴とする半導体製造装置の管理装置。
- 請求項6において、
前記ライブラリには、前記パターンの角度の異なる複数の部位の曲率情報が記憶されていることを特徴とする半導体製造装置の管理装置。 - 演算装置に、画像情報から抽出されたパターンデータに基づいて、当該パターンを形成した露光装置の露光条件を推定させるコンピュータプログラムにおいて、
当該プログラムは、前記演算装置に、複数の位置のパターンの形状情報と、露光装置の露光条件、或いは露光条件を特定するために設けられたフラグとの関連を記憶するライブラリへのアクセスを実行させ、画像情報から抽出された複数の位置の形状情報と、ライブラリに記憶された形状情報を比較させ、画像情報から抽出された複数のパターンの形状情報に相当する複数の露光条件の範囲、或いは露光条件の範囲を特定するために設けられた複数のフラグに基づいて得られる複数の露光条件の範囲の論理積に基づいて、前記露光条件を抽出させることを特徴とするコンピュータプログラム。
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