JP2012140391A - 両末端にシラノール基を有する低分子量直鎖状オルガノポリシロキサンの製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
で示される環状オルガノポリシロキサンを、水と水混和性有機溶媒との混合溶媒中で、該環状オルガノポリシロキサンの開環反応を促進する陰イオン交換樹脂との接触下において加水分解することを含む、下記一般式(2):
で示される分子鎖両末端がシラノール基で封鎖された直鎖状のオルガノポリシロキサンの製造方法を提供するものである。
本発明の方法では原料として一般式(1):
で示される環状オルガノポリシロキサンが用いられる。該環状オルガノポリシロキサンはnが3〜6の範囲内の1種であってもよいし、nが異なる2種以上の混合体であってもよい。
本発明の方法では、上記の環状オルガノポリシロキサンを、水と水混和性有機溶媒との混合溶媒中で、環状オルガノポリシロキサンの開環反応を促進する塩基性官能基が担持された陰イオン交換樹脂を用いて、加水分解をおこなう。
球状(真球状および鋭いエッヂ部分を有さないほぼ球形状の粒子を含む)であることが好ましい。具体的な大きさとしては、個々の粒子の粒子径が0.1〜5.0mmが好ましく、0.3〜3.0mmがより好ましい。
バッチ方式の場合、環状オルガノポリシロキサンの仕込み量は、好ましくは環状オルガノポリシロキサン/水/水混和性有機溶媒の合計量の0.00001〜30質量%、より好ましくは0.001〜10質量%である。
水はイオン交換水、蒸留水、水道水などが挙げられる。特に限定されるわけではないが、イオン性化合物が加水分解反応および縮合反応に影響を及ぼすことがあるので、イオン交換水が好ましい。
水混和性有機溶媒としては、反応系均一化の為に、水の他に原料の環状オルガノポリシロキサンが可溶な極性有機溶媒が用いられる。例えば、テトラヒドロフラン、ジオキサン、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、アセトニトリル、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド等の使用が可能である。この場合、極性有機溶媒の添加量が多すぎると除去に時間がかかるため、環状オルガノポリシロキサンと水が該有機溶媒と均一に混和する限りなるべく少量、好ましくは最低量の添加が好ましい。
本発明の製造方法において、反応時間、反応温度等については、使用材料の量、製造工程によって適宜選択され、これらは特に制限されるものではない。しかし、反応終了後は速やかに固相触媒を除去して反応を停止することが望まれる。
本発明で得られるオルガノポリシロキサンは、下記一般式(2)で示される分子鎖両末端がシラノール基で封鎖された直鎖状のオルガノポリシロキサンである。
一般式(2)において、pは好ましくは5〜10の整数であり、より代表的には5〜6の整数である。
−両末端にシラノール基を有する低分子量の直鎖状オルガノポリシロキサン(I)の合成−
300mL三口セパラブルフラスコにヘキサメチルシクロトリシロキサン36.83g(0.17mol,1.0当量)、イオン交換水4.55g(0.25mol,1.5当量)、テトラヒドロフラン111.71gを入れ、室温、窒素ガス雰囲気下で均一に攪拌を行った。その後、フラスコにアンバーリストA21を5.68g加え、さらに24時間攪拌を行った。得られた反応混合物からろ過によりアンバーリストA21を除去した。得られた溶液を加熱減圧ストリップ(60℃、800Pa)に供してテトラヒドロフランの留去を行い、両末端にシラノール基を有する低分子量の直鎖状オルガノポリシロキサン(I)を得た。該直鎖状オルガノポリシロキサン(I)の、ヘキサメチルシクロトリシロキサンからの変換率は90%(35.85g)であった。
式(4)で表される3量体:5.27モル%
式(5)で表される4量体:4.11モル%
式(6)で表される5量体:8.06モル%
式(7)で表される6量体:58.26モル%
式(8)で表される7量体:7.96モル%
式(9)で表される8量体:1.74モル%
式(10)で表される9量体:12.54モル%
式(11)で表される10量体:0.82モル%
−両末端シラノール基を有する低分子量の直鎖状オルガノポリシロキサン(II)の合成−
300mL三口セパラブルフラスコにヘキサメチルシクロトリシロキサン36.85g(0.17mol,1.0当量)、イオン交換水4.54g(0.25mol,1.5当量)、テトラヒドロフラン111.71gを入れ、室温、窒素ガス雰囲気下で均一に攪拌を行った。その後、該フラスコにアンバーライトIRA900(OH)-HGを5.68g加え、さらに6時間攪拌を行った。得られた反応混合物からろ過によりアンバーライトIRA900(OH)-HGを除去した。得られた溶液を加熱減圧ストリップ(60℃、800Pa)に供してテトラヒドロフランの留去を行い、両末端にシラノール基を有する低分子量の直鎖状オルガノポリシロキサン(II)を得た。該直鎖状オルガノポリシロキサン(II)の、ヘキサメチルシクロトリシロキサンからの変換率は65%(25.73g)であった。
式(4)で表される3量体:2.64モル%
式(5)で表される4量体:14.07モル%
式(6)で表される5量体:13.63モル%
式(7)で表される6量体:49.20モル%
式(8)で表される7量体:10.10モル%
式(9)で表される8量体:3.63モル%
式(10)で表される9量体:3.23モル%
式(11)で表される10量体:0.98モル%
−両末端にシラノール基を有する低分子量の直鎖状オルガノポリシロキサン(III)の合成−
300mL三口セパラブルフラスコにヘキサメチルシクロトリシロキサン36.89g(0.17mol,1.0当量)、イオン交換水4.55g(0.25mol,1.5当量)、テトラヒドロフラン111.71gを入れ、室温、窒素ガス雰囲気下で均一に攪拌を行った。その後、フラスコにトリエチルアミン0.18g(0.0018mol,0.01当量)を加えて、さらに24時間攪拌を行った。ガスクロマトグラフィーにより反応の進行を確認したところ、ヘキサメチルシクロトリシロキサンのみが検出され両末端にシラノール基を有する低分子量の直鎖状オルガノポリシロキサン(III)を得ることができなかった。
Claims (5)
- 得られる一般式(2)で表される直鎖状のオルガノポリシロキサンが、pが5〜10のものを65モル%以上含有する、請求項1に係る製造方法。
- 上記一般式(1)で示される環状オルガノポリシロキサンが、ヘキサメチルシクロトリシロキサンまたは、トリス(3,3,3-トリフルオロプロピル)トリメチルシクロトリシロキサンである、請求項1または2に係る製造方法。
- 加水分解に使用する水がイオン交換水である請求項1〜3のいずれか1項に係る製造方法。
- 前記の水混和性有機溶媒が極性有機溶媒である請求項1〜4のいずれか1項に係る製造方法。
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Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5098600A (ja) * | 1973-12-28 | 1975-08-05 | ||
JPS5113844A (en) * | 1974-06-20 | 1976-02-03 | Sws Silicones Corp | Kokozozai oyobi sonoseiho |
JPH03169885A (ja) * | 1989-08-08 | 1991-07-23 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 両末端にシラノール基を有する直鎖状オルガノテトラシロキサンの製造方法 |
JPH03190886A (ja) * | 1989-11-20 | 1991-08-20 | General Electric Co <Ge> | フルオロシリコーン流体生成用の極性非プロトン性触媒 |
JPH07233179A (ja) * | 1994-02-23 | 1995-09-05 | Shin Etsu Chem Co Ltd | シラノール基を有するオルガノシランの製造方法 |
JP2004536170A (ja) * | 2001-01-24 | 2004-12-02 | ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ | シラノール停止オリゴマー材料の製造法 |
JP2011246363A (ja) * | 2010-05-25 | 2011-12-08 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | 両末端にシラノール基を有する低分子量直鎖状オルガノポリシロキサンの製造方法 |
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Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5098600A (ja) * | 1973-12-28 | 1975-08-05 | ||
JPS5113844A (en) * | 1974-06-20 | 1976-02-03 | Sws Silicones Corp | Kokozozai oyobi sonoseiho |
JPH03169885A (ja) * | 1989-08-08 | 1991-07-23 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 両末端にシラノール基を有する直鎖状オルガノテトラシロキサンの製造方法 |
JPH03190886A (ja) * | 1989-11-20 | 1991-08-20 | General Electric Co <Ge> | フルオロシリコーン流体生成用の極性非プロトン性触媒 |
JPH07233179A (ja) * | 1994-02-23 | 1995-09-05 | Shin Etsu Chem Co Ltd | シラノール基を有するオルガノシランの製造方法 |
JP2004536170A (ja) * | 2001-01-24 | 2004-12-02 | ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ | シラノール停止オリゴマー材料の製造法 |
JP2011246363A (ja) * | 2010-05-25 | 2011-12-08 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | 両末端にシラノール基を有する低分子量直鎖状オルガノポリシロキサンの製造方法 |
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