JP2012074110A - 半導体装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】第1および第2DLドライバ12a,12bは、それぞれ選択された1つのブロックのディジット線に磁化電流を流す。BLドライバ6は、データ信号の論理に応じた方向の書込電流を選択されたセグメント内の全ビット線に流して、選択されたブロックのメモリセルにデータ信号を書込む。セグメントデコーダ14は、外部から1個のセグメントのアドレスが入力されたときに、アドレスに対応する1個のセグメントを選択し、選択したセグメント第1DLドライバ12aへ接続し、外部から2個以上のセグメントのアドレスが入力されたときに、アドレスに対応する2個以上のセグメントを選択し、選択した2個のセグメントをそれぞれ第1DLドライバ12aと第2DLドライバ12bへ接続する。
【選択図】図16
Description
図23では、データ書込時における磁化電流iDLおよび書込電流iBLの方向と磁界方向との関係を表わしている。
[第1の実施形態]
(半導体チップの構成)
図1は、第1の実施形態の半導体チップの構成を示すブロック図である。
演算処理部83からMRAM84にアドレス信号などを含む制御信号CNTが与えられ、演算処理部83とMRAM84の間で多ビットのデータ信号D0〜Dn−1の授受が行なわれる。ここで、nは、自然数であり、たとえば、16,32,64,128である。
図2は、第1の実施形態のMRAMの構成を示すブロック図である。
各行には、読出ワード線RWLと、書込ワード線WWLが配置されている。
各セグメントSEGk(k=0〜M−1)には、N列のメモリセルMCを含む。各セグメントSEGkには、N本のビット線BLと、1本のメインディジット線MDLkと、1本のソース線SLkが配置されている。ここでは、M=32として説明する。
センスアンプ4は、データ読出時に、ビット線BLに出力されたデータを増幅して外部へ出力する。
図3は、ゆがみのないメモリセルへのデータ書込時における、スイッチング特性を表わす図である。
図5は、ゆがみを有するメモリセルへのデータ書込時における、スイッチング特性を表わす図である。
図7は、第1の実施形態のDLドライバ12の構成の一例を表わす図である。
定電流源52は、一定量の電流を供給する。定電流源52は、NチャネルMOSトランジスタN1と、PチャネルMOSトランジスタP1,P2とを備える。
PチャネルMOSトランジスタP1のゲートとPチャネルMOSトランジスタP2のゲートとは、互いに接続されるとともに、NチャネルMOSトランジスタN1のドレインに接続される。
図8は、第1の実施形態の信号および電流が変化するタイミングを表わす図である。
以上のように、本実施の形態では、磁化電流iDLをスロープを付けて立ち下げることによって、トンネル磁気抵抗素子TMRのスイッチング特性にあった最適な書込みを実現できる。
第2の実施形態のMRAMは、第1の実施形態のMRAMとは異なるDLドライバを備える。
図9のDLドライバが、図2の第1の実施形態のDLドライバ12と相違する点は、引抜電流源54である。
図10は、第3の実施形態の信号および電流が変化するタイミングを表わす図である。
以上のように、本実施の形態によれば、第1の実施形態と同様に、本実施の形態では、磁化電流iDLをステップ状にスロープを付けて立ち下げることによって、トンネル磁気抵抗素子TMRのスイッチング特性にあった最適な書込みを実現できる。
第1および第2の実施形態では、記憶したデータと同じデータを書込むときに、磁化電流iDLを立ち上げると反転動作が起こり、その後、書込電流iBLを立ち上げると、再度反転動作が起こり書込みデータと同じ状態になる。このような反転を繰り返すことによって、磁化の向きが不安定な状態(中間状態)になり、大きなエネルギーを加えなければ、データ書込みができない。
以上のように、本実施の形態によれば、記憶したデータと同じデータを書込むとき、記憶したデータの反転動作が繰り返されるのを防止することができる。
第4の実施形態は、第1〜第3の実施形態とビット線の構造が相違する。第4の実施形態では、磁束をメモリセルに集中させるために、グラッド配線構造のビット線を用いる。
図13に示すように、ビット線BLは、紙面に垂直な方向に伸びている。導体92の周囲のうち、トンネル磁気抵抗素子TMRの存在する方向を除いた3面が軟磁性薄膜91で覆われる。このようなグラッド配線構造を有するビット線BLを用いた場合に、インダクタ成分が大きくなり、書込電流iBLの立ち上げ時と立ち下げ時に逆電流が発生するという問題となる。
以上のように、本実施の形態によれば、グラッド配線構造のビット線を有しているが、書込電流iBLを緩やかに立ち上げ、緩やかに立ち下げることによって、インダクタ成分によって生じる逆電流成分の発生を緩和または防止することができる。
本発明の実施形態では、1個のセグメントへの書込みと、2個のセグメントへの書込みのいずれかをユーザが選択可能とする。
第5の実施形態では、第1DLドライバ12aと、第2DLドライバ12bとを備える。
以上のように、本実施の形態によれば、セグメント内の列数を最小にし、書込みビット数が増えた場合は、選択するセグメント数を増加させることによって、1軸ディスターブを受けることなく、I/O数を可変にすることができる。
この変形例では、ディスターブをより避けるために、ユーザが64ビット書込みを指定する場合には、セグメントデコーダ14には、2個の互いに離れたセグメントのアドレスが与えられる。たとえば、第0〜第(M−1)のM個のセグメントがこの順序で連続して並んでいる場合には、第kセグメントと、第(k+M/2)が与えられるものとしてもよい。
本変形例によれば、選択するセグメントを分散させることによって、書込み電流が集中して、電圧ドロップ等が発生を防止または緩和でき、より確実な書込み動作が実現できる。
図17(a)は、図2のブロックBK00の構造を半導体基板に垂直な方向から見た図である。図17(b)は、図17(a)でのトランジスタの拡散領域を説明するための図である。
図20は、第7の実施形態のブロックBK00のメモリセルMCの構造を表わす図である。他のブロックのメモリセルもこれと同様である。
Claims (10)
- 半導体装置であって、
磁気的にデータ信号を記憶するメモリセルが行列状に配置されたメモリアレイを備え、前記メモリアレイは、所定数の列ごとに複数のセグメントに分割され、さらに各セグメントは、1行ごとにブロックに分割され、前記半導体装置は、
ブロックごとに設けられたディジット線と、
各列に対応して設けられた複数のビット線と、
各々が、選択された1つのブロックのディジット線に磁化電流を流す複数のディジット線ドライバと、
データ信号の論理に応じた方向の書込電流を選択されたセグメント内のビット線に流して、前記選択されたブロックのメモリセルに前記データ信号を書込むビット線ドライバと、
外部から1個のセグメントのアドレスが入力されたときに、前記アドレスに対応する1個のセグメントを選択し、前記選択したセグメントをいずれか1つのディジット線ドライバへ接続し、外部から2個以上のセグメントのアドレスが入力されたときに、前記アドレスに対応する2個以上のセグメントを選択し、前記選択した2個のセグメントを互いに異なるディジット線ドライバへ接続するデコーダとを備えた、半導体装置。 - 前記デコーダは、外部から2個以上の隣接しないセグメントのアドレスが入力され、前記アドレスに対応する2個以上の隣接しないセグメントを選択し、前記選択した複数のセグメントを互いに異なるディジット線ドライバへ接続する、請求項1記載の半導体装置。
- 半導体装置であって、
磁気的にデータ信号を記憶するメモリセルが行列状に配置されたメモリアレイを備え、前記メモリアレイは、所定数の列ごとに複数のセグメントに分割され、さらに各セグメントは、1行ごとにブロックに分割され、前記半導体装置は、
ブロックごとに設けられたディジット線と、
各列に対応して設けられた複数のビット線と、
選択されたブロックのディジット線に磁化電流を流すディジット線ドライバと、
データ信号の論理に応じた方向の書込電流を選択されたセグメントのビット線に流して、前記選択されたブロックのメモリセルに前記データ信号を書込むビット線ドライバとを備え、
前記ディジット線ドライバは、前記磁化電流の立下げ時には立上げ時よりも緩やかな速度で減少させる、半導体装置。 - 前記ディジット線ドライバは、
一定量の電流を出力する定電流源と、
前記定電流源の出力ノードから前記磁化電流が流れる経路と並列に存在し、前記定電流源の出力ノードとグランドとの間の経路に設けられたトランジスタと、
前記トランジスタのゲートの電位を緩やかに減少させるためのRC回路とを含む、請求項3記載の半導体装置。 - 前記ディジット線ドライバは、
一定量の電流を出力する定電流源と、
各々が、前記定電流源の出力ノードから前記磁化電流が流れる経路と並列に存在し、前記定電流源の出力ノードとグランドとの間の経路に設けられた所定数のトランジスタと、
互いに異なるタイミングで活性化される前記所定数のタイミング信号を出力するタイミング信号発生回路とを含み、
各トランジスタのゲートは、対応するタイミング信号を受ける、請求項3記載の半導体装置。 - 半導体装置であって、
磁気的にデータ信号を記憶するメモリセルが行列状に配置されたメモリアレイを備え、前記メモリアレイは、所定数の列ごとに複数のセグメントに分割され、さらに各セグメントは、1行ごとにブロックに分割され、前記半導体装置は、
ブロックごとに設けられたディジット線と、
各列に対応して設けられた複数のビット線と、
選択されたブロックのディジット線に磁化電流を流すディジット線ドライバと、
データ信号の論理に応じた方向の書込電流を選択されたセグメントのビット線に流して、前記選択されたブロックのメモリセルに前記データ信号を書込むビット線ドライバとを備え、
前記ビット線ドライバが前記書込電流を立上げ、
その後、前記ディジット線ドライバが前記磁化電流を立上げ、
その後、前記ディジット線ドライバが前記磁化電流を立下げ、
その後、前記ビット線ドライバが前記書込電流を立下げる、半導体装置。 - 半導体装置であって、
磁気的にデータ信号を記憶するメモリセルが行列状に配置されたメモリアレイを備え、前記メモリアレイは、所定数の列ごとに複数のセグメントに分割され、さらに各セグメントは、1行ごとにブロックに分割され、前記半導体装置は、
ブロックごとに設けられたディジット線と、
各列に対応して設けられた複数のビット線と、
選択されたブロックのディジット線に磁化電流を流すディジット線ドライバと、
データ信号の論理に応じた方向の書込電流を選択されたセグメントのビット線に流して、前記選択されたブロックのメモリセルに前記データ信号を書込むビット線ドライバとを備え、
前記ビット線は、クラッド配線構造で形成され、
前記ビット線ドライバは、前記磁化電流が立ち上がるときの速度よりも緩やかな速度で前記書込電流を立上げおよび立下げる、半導体装置。 - 前記メモリセルは、トンネル磁気抵抗素子と、
読出し時に前記トンネル磁気抵抗素子からの電流をソースへ流すアクセスゲートとを含み、
前記ブロックは、ブロック内のディジット線とソースとを接続する選択ゲートとを含む、請求項1〜7のいずれか1項に記載の半導体装置。 - 前記メモリセルは、トンネル磁気抵抗素子と、
読出し時に前記トンネル磁気抵抗素子からの電流をソースへ流すアクセスゲートと、
前記メモリセル内のディジット線とソースとを接続する選択ゲートを含む、請求項1〜7のいずれか1項に記載の半導体装置。 - 前記選択ゲートのソースと、前記アクセスゲートのソースとが共有化される、請求項8または9記載の半導体装置。
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