JP2012068412A - 表示媒体、及び表示装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】表示媒体12は、少なくとも一方が透光性を有すると共に間隙をもって配置された一対の基板20、22と、一対の基板間に封入された分散媒50と、分散媒中に分散され、一対の基板間に形成された電界に応じて分散媒中を泳動する泳動粒子群34と、一対の基板の対向面の少なくとも一方に、シリコーン鎖を持つ高分子化合物を含んで構成された表面層42を形成する。
【選択図】図1
Description
これら表示媒体は、例えば一対の基板と、一対の基板間に形成された電界に応じて基板間を移動するように該基板間に封入された泳動粒子群と、を含んで構成されている。また、基板間には、粒子が基板内の特定の領域に偏るのを防ぐため等の理由により、基板間を複数のセルに仕切るための間隙部材が設けられる場合もある。
請求項1に係る発明は、
少なくとも一方が透光性を有すると共に間隙をもって配置された一対の基板と、
前記一対の基板間に封入された分散媒と、
前記分散媒中に分散され、前記一対の基板間に形成された電界に応じて該分散媒中を泳動する泳動粒子群と、
前記一対の基板の対向面の少なくとも一方に設けられ、下記構成単位(A)と下記構成単位(B)とを含む共重合体である高分子化合物を含んで構成された表面層と、
を有することを特徴とする表示媒体。
前記構成単位(A)及び(B)中、Rb2は、−(CH2)m1−(CF2)m2−Rb21(但し、m1は0以上4以下の自然数を表す。m2は0以上20以下の自然数を表す。Rb21は−CH2F基、−CHF2基、又は−CF3基を表す。)を表す請求項1に記載の表示媒体。
請求項1又は2に記載の表示媒体と、
前記一対の基板間に電圧を印加する電圧印加手段と、
を備えたことを特徴とする表示装置。
請求項3に係る発明は、上記構成単位(A)と上記構成単位(B)とを含む共重合体である高分子化合物を含んで構成された表面層を有さない表示媒体を適用した場合に比べ、繰り返し表示を行っても、表示媒体の基板対向面に対する粒子の固着を抑制した表示装置が提供される。
そして、泳動粒子群34として、泳動粒子群34Aと、当該泳動粒子群34Aとは異なる色を呈し、且つ帯電極性が異なる泳動粒子群34Bと、を有している。
表示基板20は、支持基板38上に、表面電極40及び表面層42を順に積層した構成となっている。背面基板22は、支持基板44上に、背面電極46及び表面層48を積層した構成となっている。
支持基板38及び支持基板44の材料としては、ガラスや、プラスチック、例えば、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ポリエーテルサルフォン樹脂等が挙げられる。
表面電極40及び背面電極46の材料としては、インジウム、スズ、カドミウム、アンチモン等の酸化物、ITO等の複合酸化物、金、銀、銅、ニッケル等の金属、ポリピロールやポリチオフェン等の有機材料等が挙げられる。表面電極40及び背面電極46は、これらの単層膜、混合膜又は複合膜のいずれであってもよい。表面電極40及び背面電極46の厚さは、例えば、100Å以上2000Å以下であることがよい。背面電極46及び表面電極40は、例えば、マトリックス状、又はストライプ状に形成されていてもよい。
表示基板20と背面基板22の対向面には、各々、表面層42及び表面層48が設けられている。そして、間隙部材24の表面(セル内側表面)にも、表面層25が設けられている。
Xは、シリコーン鎖を含む基を表す。
Ra1、及びRa2は、それぞれ独立に水素原子、又はメチル基を表す。
Rb2は、フッ素原子を有する有機基を表す。
n1、及びn2は、共重合体全体に対するそれぞれの構成単位のモル%を示し、0<n1<50、0<n2<50を表す。
nは、1以上3以下の自然数を表す。)
Xが表すシリコーン鎖を含む基として具体的には、例えば、下記構造式(X1)、又は(X2)で示される基が挙げられる。
nは、1以上1000以下の整数を表す。
nは、1以上1000以下の整数であるが、望ましくは2以上200以下、より望ましくは5以上100以下である。
Rb2が表すフッ素原子を有する有機基として具体的には、例えば、−(CH2)m1−(CF2)m2−Rb21(但し、m1は0以上4以下の自然数を表す。m2は0以上20以下の自然数を表す。Rb21は−CH2F基、−CHF2基、又は−CF3基を表す。)が挙げられる。
m1は、0以上4以下の自然数を表すが、望ましくは0以上3以下の自然数、より望ましくは1以上2以下の自然数である。
m2は、0以上20以下の自然数を表すが、望ましくは0以上10以下の自然数、より望ましくは0以上7以下の自然数である。
Rb21は、−CH2F基、−CHF2基、又は−CF3基を表すが、望ましくは−CHF2基、又は−CF3基である。
N,N−ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、N,N−ジエチルアミノエチル(メタ)アクリレート、N,N−ジブチルアミノエチル(メタ)アクリレート、N,N−ヒドロキシエチルアミノエチル(メタ)アクリレート、N−エチルアミノエチル(メタ)アクリレート、N−オ クチル−N−エチルアミノエチル(メタ)アクリレート、N,N−ジヘキシルアミノエチル(メタ)アクリレート等の脂肪族アミノ基を有する(メタ)アクリレート類;、
N−メチルアクリルアミド、N−オクチルアクリルアミド、N−フェニルメチルアクリルアミド、N−シクロヘキシルアクリルアミド、N−フェニルアクリルアミド、N−p−メトキシ−フェニルアクリルアミド、N,N−ジメチルアクリルアミド、N,N−ジブチルアクリルアミド、N−メチル−N−フェニルアクリルアミド等の(メタ)アクリルアミド類;、
ジメチルアミノスチレン、ジエチルアミノスチレン、ジメチルアミノメチルスチレン、ジオクチルアミノスチレン等の含窒素基を有する芳香族置換エチレン系単量体類;、
ビニル−N−エチル −N−フェニルアミノエチルエーテル、ビニル−N−ブチル−N−フェニルアミノエチルエーテル、トリエタノールアミンジビニルエーテル、ビニルジフェニルアミノエチルエーテル、N−ビニルヒドロキシエチルベンズアミド、m−アミノフェニルビニルエーテル等の含窒素ビニルエーテル単量体類;
N−ビニル−2−ピロリン、N−ビニル−3−ピロリン等のピロリン類;、
N−ビニルピロリジン、ビニルピロリジンアミノエーテル、N−ビニル−2−ピロリドン等のピロリジン類;、
N−ビニル−2−メチルイミダゾール等のイミダゾール類;、
N−ビニルイミダゾリン等のイミダゾリン類;、
N−ビニルインドール等のインドール類;、
N−ビニルインドリン等のインドリン類;、
N−ビニルカルバゾール、3,6−ジブロム−N−ビニルカルバゾール等のカルバゾール類;、
2−ビニルピリジン、4−ビニルピリジン、2−メチル−5−ビニルピロジン等のピリジン類;、
(メタ)アクリルピペリジン、N−ビニルピペリドン、N−ビニルピペラジン等のピペリジン類;、
2−ビニルキノリン、4−ビニルキノリン等のキノリン類;、
N−ビニルピラゾール、N−ビニルピラゾリン等のピラゾール類;、
2−ビニルオキサゾール等のオキサゾール類;、
4−ビニルオキサジン、モルホリノエチル(メタ)アクリレート等のオキサジン類;、
スチレンスルホン酸、2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホニックアシッド、3−スルホプロピル(メタ)アクリックアシッドエステル、ビス−(3−スルホプロピル)−イタコニックアシッドエステル等及びその塩;、
2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリル酸の硫酸モノエステル及びその塩;
ビニルホスホン酸、ビニルホスフェート、アシッドホスホキシエチル(メタ)アクリレート、アシッドホスホキシプロピル(メタ)アクリレート、ビス(メタクリロキシエチル)ホスフェート、ジフェニル−2−メタクリロイロキシエチルホスフェート、ジフェニル−2−アクリロイロキシエチルホスフェート、ジブチル−2−メタクリロイロキシエチルホスフェート、ジブチル−2−アクリロイロキシエチルホスフェート、ジオクチル−2−(メタ)アクリロイロキシエチルホスフェート;、
などが挙げられる。
なお、これらの表記において、「(メタ)アクリレート」等の記述は、「アクリレート」および「メタクリレート」等のいずれをも含む表現である。
また、他の構造単位(C)を含む場合、構造単位(A)及び構造単位(B)の合計と
他の構造単位(C)との重合比(質量比:(構造単位(A)+構造単位(B))/他の構造単位(C))は、例えば、10/90以上90/10以下であることがよく、望ましくは15/85以上85/15以下、より望ましくは20/80以上80/20以下である。
なお、以下の具体例では、他の構造単位(C)も含む高分子化合物の例を示している。
なお、重量平均分子量は静的光散乱法又はサイズ排除カラムクロマトグラフィーにより測定され、本明細書に記載の数値は当該方法によって測定されたものである。
表示基板20と背面基板22との基板間の隙を保持するための間隙部材24は、例えば、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、電子線硬化樹脂、光硬化樹脂、ゴム、金属等で構成される。
この場合、間隙部材24は、表示基板20側、背面基板22側のいずれか、又は双方に作製する。
なお、「透明」とは、可視光に対して、透過率60%以上有することを示している。
泳動粒子群34が分散される分散媒50としては、絶縁性液体であることが望ましい。ここで、「絶縁性」とは、体積固有抵抗が1011Ωcm以上であることを示している。以下同様である。
表示媒体12における表示色の変化は、この泳動粒子群34を構成する各泳動粒子の分散媒50中の移動によって生じる。
着色した磁性粉として、例えば、特開2003−131420公報記載の小径着色磁性粉を用いてもよい。核となる磁性粒子と該磁性粒子表面上に積層された着色層とを備えたものが用いられる。そして、着色層としては、顔料等により磁性粉を不透過に着色する等選定して差し支えないが、例えば光干渉薄膜を用いるのが望ましい。この光干渉薄膜とは、SiO2やTiO2等の無彩色材料を光の波長と同等な厚みを有する薄膜にしたものであり、薄膜内の光干渉により光を波長選択的に反射するものである。
反射粒子群36は、泳動粒子群34とは異なる光学的反射特性を有する反射粒子から構成され、泳動粒子群34とは異なる色を表示する反射部材として機能するものである。そして、表示基板20と背面基板22との基板間の移動を阻害することなく、移動させる空隙部材としての機能も有している。すなわち、反射粒子群36の間隙を通って、背面基板22側から表示基板20側、又は表示基板20側から背面基板22側へ泳動粒子群34の各粒子は泳動(移動)する。この反射粒子群子36の色としては、例えば、背景色となるように白色又は黒色を選択することがよいが、その他の色であってもよい。また、反射粒子群36は、帯電されていない粒子群(つまり電界に応じて移動しない粒子群)であってもよいし、帯電されている粒子群(電界に応じて移動する粒子群)であってもよい。なお、本実施形態では、反射粒子群36は、帯電されていない粒子群で、白色である場合を説明するが、これに限定されることはない。
このとき、表示基板20側から視認される表示媒体12の色は、反射粒子群36の色としての白色を背景色とし、泳動粒子群34Bの呈する色が視認される。なお、泳動粒子群34Aは、反射粒子群36に隠蔽され、視認され難くなる。
このとき、表示基板20側から視認される表示媒体12の色は、反射粒子群36の色としての白色を背景色とし、泳動粒子群34Aの呈する色が視認される。なお、泳動粒子群34Bは、反射粒子群36に隠蔽され、視認され難くなる。
この理由は定かではないが、初期の泳動粒子群34の各泳動粒子の固着抑制には上記特定のシリコーン鎖を持つ高分子化合物が持つシリコーン鎖が寄与し、経時(繰り返し表示後)の泳動粒子群34の各泳動粒子の固着抑制には上記特定のシリコーン鎖を持つ高分子化合物が持つフッ素原子を有する有機基が寄与するためであると考えられる。
−高分子化合物A−
サイラプレーンFM0721(チッソ社製、重量平均分子量Mw=5000) 10質量部、メタクリル酸1H,1H,5H−オクタフルオロペンチル(OFPMA:和光純薬社製) 5質量部、及び2−ヒドロキシエチルメタクリレート(HEMA:他の構成単位(C)を構成する単量体) 85質量部を、イソプロピルアルコール100質量部に溶解し、2,2‘−アゾ.ビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)(和光純薬製V−65)を0.5質量部加えて撹拌し、55℃で18時間反応させた。
その後、イソプロピルアルコールを除去し、減圧乾燥機させることにより、高分子化合物A(例示化合物1−3)を得た。重量平均分子量は25万であった。
そして、イソプロピルアルコールで希釈することで高分子化合物Aの4質量%イソプロピルアルコール溶液を準備した。
サイラプレーンFM0721(チッソ社製、重量平均分子量Mw=5000)10質量部、メタクリル酸3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,10,10−ヘプタデカフルオロデシル(HDFDMA:和光純薬社製) 5質量部、及び2−ヒドロキシエチルメタクリレート85質量部を、イソプロピルアルコール100質量部に溶解し、2,2‘−アゾ.ビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)(和光純薬製V−65)を0.5質量部加えて撹拌し、55℃で18時間反応させた。
その後、イソプロピルアルコールを除去し、減圧乾燥機させることにより、高分子化合物B(例示化合物1−2)を得た。重量平均分子量は25万であった。
そして、イソプロピルアルコールで希釈することで高分子化合物Bの4質量%イソプロピルアルコール溶液を準備した。
サイラプレーンFM0721(チッソ社製、重量平均分子量Mw=5000) 10質量部、メタクリル酸1H,1H,5H−オクタフルオロペンチル(OFPMA:和光純薬社製) 5質量部、及びメチルメタクリル酸(MMA:他の構成単位(C)を構成する単量体) 85質量部を、イソプロピルアルコール100質量部に溶解し、2,2‘−アゾ.ビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)(和光純薬製V−65)を0.5質量部加えて撹拌し、55℃で18時間反応させた。
その後、イソプロピルアルコールを除去し、減圧乾燥機させることにより、高分子化合物Cを得た。重量平均分子量は25万であった。
そして、イソプロピルアルコールで希釈することで高分子化合物Cの4質量%イソプロピルアルコール溶液を準備した。
サイラプレーンFM0721(チッソ社製、重量平均分子量Mw=5000) 10質量部、メタクリル酸1H,1H,5H−オクタフルオロペンチル(OFPMA:和光純薬社製) 5質量部、及び1−ビニル−2−ピロリドン(VP:他の構成単位(C)を構成する単量体) 85質量部を、イソプロピルアルコール100質量部に溶解し、2,2‘−アゾ.ビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)(和光純薬製V−65)を0.5質量部加えて撹拌し、55℃で18時間反応させた。
その後、イソプロピルアルコールを除去し、減圧乾燥機させることにより、高分子化合物Dを得た。重量平均分子量は25万であった。
そして、イソプロピルアルコールで希釈することで高分子化合物Dの4質量%イソプロピルアルコール溶液を準備した。
サイラプレーンFM0721(チッソ社製、重量平均分子量Mw=5000) 10質量部、メタクリル酸1H,1H,5H−オクタフルオロペンチル(OFPMA:和光純薬社製) 1質量部、及び2−ヒドロキシエチルメタクリレート(HEMA:他の構成単位(C)を構成する単量体) 89質量部を、イソプロピルアルコール100質量部に溶解し、2,2‘−アゾ.ビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)(和光純薬製V−65)を0.5質量部加えて撹拌し、55℃で18時間反応させた。
その後、イソプロピルアルコールを除去し、減圧乾燥機させることにより、高分子化合物Eを得た。重量平均分子量は25万であった。
そして、イソプロピルアルコールで希釈することで高分子化合物Eの4質量%イソプロピルアルコール溶液を準備した。
サイラプレーンFM0721(チッソ社製、重量平均分子量Mw=5000) 5質量部、メタクリル酸1H,1H,5H−オクタフルオロペンチル(OFPMA:和光純薬社製) 5質量部、及び2−ヒドロキシエチルメタクリレート(HEMA:他の構成単位(C)を構成する単量体) 90質量部を、イソプロピルアルコール100質量部に溶解し、2,2‘−アゾ.ビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)(和光純薬製V−65)を0.5質量部加えて撹拌し、55℃で18時間反応させた。
その後、イソプロピルアルコールを除去し、減圧乾燥機させることにより、高分子化合物Fを得た。重量平均分子量は25万であった。
そして、イソプロピルアルコールで希釈することで高分子化合物Fの4質量%イソプロピルアルコール溶液を準備した。
サイラプレーンFM0721(チッソ社製、重量平均分子量Mw=5000) 20質量部、メタクリル酸1H,1H,5H−オクタフルオロペンチル(OFPMA:和光純薬社製) 20質量部、及び2−ヒドロキシエチルメタクリレート(HEMA:他の構成単位(C)を構成する単量体) 60質量部を、イソプロピルアルコール100質量部に溶解し、2,2‘−アゾ.ビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)(和光純薬製V−65)を0.5質量部加えて撹拌し、55℃で18時間反応させた。
その後、イソプロピルアルコールを除去し、減圧乾燥機させることにより、高分子化合物Gを得た。重量平均分子量は25万であった。
そして、イソプロピルアルコールで希釈することで高分子化合物Gの4質量%イソプロピルアルコール溶液を準備した。
サイラプレーンFM0721(チッソ社製、重量平均分子量Mw=5000) 10質量部、メタクリル酸2,2,2−トリフルオロエチル(TFEMA:和光純薬社製) 5質量部、及び2−ヒドロキシエチルメタクリレート(HEMA:他の構成単位(C)を構成する単量体) 85質量部を、イソプロピルアルコール100質量部に溶解し、2,2‘−アゾ.ビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)(和光純薬製V−65)を0.5質量部加えて撹拌し、55℃で18時間反応させた。
その後、イソプロピルアルコールを除去し、減圧乾燥機させることにより、高分子化合物Hを得た。重量平均分子量は25万であった。
そして、イソプロピルアルコールで希釈することで高分子化合物Hの4質量%イソプロピルアルコール溶液を準備した。
サイラプレーンFM−0721(チッソ社製、重量平均分子量Mw=5000) 10質量部、及びヒドロキシエチルメタクリレート (和光純薬社製)90質量部を、イソプロピルアルコール(IPA) 300質量部に混合し、重合開始剤としてAIBN(2,2−アゾビスイソブチルニトリル) 1質量部を溶解し、窒素下で70℃、6時間重合を行なった。これによる生成物を、ヘキサンを再沈殿溶媒として精製、乾燥し高分子化合物Iを得た。
メタクリル酸1H,1H,5H−オクタフルオロペンチル(和光純薬社製) 5質量部、及びヒドロキシエチルメタクリレート (和光純薬社製)95質量部を、イソプロピルアルコール(IPA) 300質量部に混合し、重合開始剤としてAIBN(2,2−アゾビスイソブチルニトリル) 1質量部を溶解し、窒素下で70℃、6時間重合を行なった。これによる生成物を、ヘキサンを再沈殿溶媒として精製、乾燥し高分子化合物Jを得た。
−マゼンタ粒子(負帯電粒子)分散液−
シリコーン変性ポリマーKP−545(信越化学社製)4質量部をジメチルシリコーンオイル(信越化学社製KF−96−2CS)96質量部に溶解して溶液Xを調製した。次に、スチレンアクリル系ポリマー(ジメチルエタノールアミン中和)10質量部、水分散顔料溶液(Ciba社製ユニスパース・マゼンタ色、顔料濃度20重量%)5質量部、純水85質量部を混合して溶液Yを調整した。得られた溶液Xと溶液Yを混合し、超音波破砕機(エスエムテー社製UH−600S)にて分散・乳化を行った。
次に、この懸濁液を減圧(2KPa)、加熱(70℃)して水分を除去し、濃度を調整することにより、シリコーンオイル中にマゼンタ顔料を含んだ泳動粒子が分散したシリコーンオイル分散液(粒子固形分5重量%)を得た。
本マゼンタ粒子分散液中のマゼンタ粒子(泳動粒子)子の帯電極性を、2枚の電極基板間に該分散液を封入し、直流電圧を印加して泳動方向を評価した結果、負帯電であった。
−白色粒子分散液−
還流冷却管を取り付けた100ml三口フラスコに、2−ビニルナフタレン(新日鐵化学社製)を5重量部、シリコーンマクロマFM−0721(チッソ社製)を5重量部、開始剤として過酸化ラウロイル(和光純薬社製)を0.3重量部、シリコーンオイルKF−96L−1CS(信越化学社製)20重量部を加え、窒素ガスによるバブリングを15分間行った後、窒素雰囲気下にて65℃、24時間の重合を行った。
得られた白色粒子をシリコーンオイルにて固形分濃度40wt%に調製し、白色粒子分散液とした。このとき、白色粒子の粒子径は、450nmであった。
−評価用表示媒体セルの作製−
厚さ0.7mmのガラスからなる基板上に電極としてITO(酸化スズインジウム)をスパッタリング法により50nmの厚さで成膜し、ITO基板を得た。その後、表1に従った高分子化合物の層をITO基板上に形成し、これを表面層とした。
なお、高分子化合物の層は、次のようにして成膜した。まず、高分子化合物を固形分濃度が4wt%になるようにIPA(イソプロピルアルコール)に溶解し、スピンコート法によりITO基板上に成膜し、その後、130℃で1時間乾燥させることにより、膜厚が100nmの高分子化合物の層を形成した。
その後、白色粒子分散液40質量部とマゼンタ粒子分散液10質量部との混合液を2枚の表面層付きITO基板間の間隙に注入し、評価用表示媒体セルを作製した。
作製した評価用表示媒体セルを用いて、表示基板(そのITO電極)がプラス、背面基板(そのITO電極)がマイナスとなるように、基板間(そのITO電極間)に20Vの電圧を印加した。これにより、負帯電のマゼンタ粒子が表示基板側面に泳動し、表示基板側面からはマゼンタ粒子の色(マゼンタ色)が観察された。
次に、表示基板(そのITO電極)がマイナス、背面基板(そのITO電極)がプラスとなるように、基板間(そのITO電極間)に20Vの電圧を印加した。これにより、負帯電のマゼンタ粒子が背面基板側面に泳動し、表示基板側面からは白色粒子の色(白色)が観察された。
その後、この状態で、一対の基板を剥がし、光学顕微鏡により基板表面(表面基板表面)を観察し、粒子の固着状態について調べた。
そして、マゼンタ色・白色の表示を行う操作を、500回、1000回、5000回繰り返した後、上記同様にして、光学顕微鏡により基板表面を観察し、粒子の固着状態について調べた。その結果を表1に示す。
なお、評価基準は、以下の通りである。
◎:粒子の付着なし
○:粒子の付着が僅かに見られるが、実用上問題ないレベル
×:多量の付着が見られ、目視でもはっきりとわかるレベル
・FM0721:サイラプレーンFM−0721(チッソ社製、重量平均分子量Mw=5000:構造式(X1)[n=68、R1=ブチル基]を持ち、Ra1=メチル基、n=3の構成単位(A)を構成する単量体)
・OFPMA:メタクリル酸1H,1H,5H−オクタフルオロペンチル(和光純薬社製)
・HDFDMA:メタクリル酸3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,10,10−ヘプタデカフルオロデシル(和光純薬社製)
・TFEMA:メタクリル酸2,2,2−トリフルオロエチル(和光純薬社製)
・HEMA:2−ヒドロキシエチルメタクリレート
・MMA:メチルメタクリレート
・VP:1−ビニル−2−ピロリドン
12 表示媒体
16 電圧印加部
18 制御部
20 表示基板
22 背面基板
24 間隙部材
34、34A、34B 泳動粒子群
36 反射粒子群
38 支持基板
40 表面電極
42 表面層
44 支持基板
46 背面電極
48 表面層
50 分散媒
Claims (3)
- 少なくとも一方が透光性を有すると共に間隙をもって配置された一対の基板と、
前記一対の基板間に封入された分散媒と、
前記分散媒中に分散され、前記一対の基板間に形成された電界に応じて該分散媒中を泳動する泳動粒子群と、
前記一対の基板の対向面の少なくとも一方に設けられ、下記構成単位(A)と下記構成単位(B)とを含む共重合体である高分子化合物を含んで構成された表面層と、
を有することを特徴とする表示媒体。
- 前記構成単位(A)及び(B)中、Rb2は、−(CH2)m1−(CF2)m2−Rb21(但し、m1は0以上4以下の自然数を表す。m2は0以上20以下の自然数を表す。Rb21は−CH2F基、−CHF2基、又は−CF3基を表す。)を表す請求項1に記載の表示媒体。
- 請求項1又は2に記載の表示媒体と、
前記一対の基板間に電圧を印加する電圧印加手段と、
を備えたことを特徴とする表示装置。
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