JP2012060419A - 弾性表面波デバイス、電子機器及びセンサー装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】SAWデバイス1は、オイラー角(−1.5°≦φ≦1.5°,117°≦θ≦142°,ψ)の水晶基板2の主面に、ストップバンド上端モードのSAWを励振するIDT3と、IDTの電極指6a,6b間に凹設した電極指間溝8とを有する。オイラー角ψが42.79°≦|ψ|≦49.57°のとき、IDTの電極指膜厚Hは、0.055μm≦H≦0.335μm、好ましくは0.080μm≦H≦0.335μmの範囲内に設定する。オイラー角ψが|ψ|≠90°×n、(n=0,1,2,3)のとき、電極指膜厚Hは0.05μm≦H≦0.20μmに設定する。
【選択図】図1
Description
H/λ≧0.1796η3−0.4303η2+0.2071η+0.0682
に設定することが開示されている。これによって、レイリー波をストップバンドの上限モードで強く励振させることができる。
SAWの波長をλ、電極指間溝の深さをGとした場合に、0.01λ≦Gの関係を満たし、
かつ、IDTのライン占有率をηとした場合に、電極指間溝の深さGとライン占有率ηとが
の関係を満たすことを特徴とする。
の関係を満たすことを特徴とする。これにより、周波数温度特性の二次温度係数を小さく抑制することができる。
Δf=α×(T−T0)+β×(T−T0)2
ここで、Δfは温度Tと頂点温度T0間の周波数変化量(ppm)、αは1次温度係数(ppm/℃)、βは2次温度係数(ppm/℃2)、Tは温度、T0は周波数が最大となる温度(頂点温度)である。2次温度係数βの絶対値を最小に、好ましくは0.01(ppm/℃2)以下に、より好ましくは略零になるように設定して、周波数温度特性が三次曲線を示すようにすれば、広い動作温度範囲でも周波数変動量を小さくして高い周波数安定性が得られる。
−本実施形態のSAW共振子1の基本データ
H:0.02λ
G:変化
IDTライン占有率η:0.6
反射器ライン占有率ηr:0.8
オイラー角:(0°,123°,43.5°)
IDT対数:120
電極指交差幅:40λ(λ=10μm)
反射器本数(片側あたり):60
電極指の傾斜角度:なし
H:変化
G:ゼロ(無し)
IDTライン占有率η:0.4
反射器ライン占有率ηr:0.3
オイラー角(0°,123°,43.5°)
IDT対数:120
電極指交差幅:40λ(λ=10μm)
反射器本数(片側あたり):60
電極指の傾斜角度:なし
該水晶基板の主面に設けられた複数の電極指からなり、ストップバンド上端モードの弾性表面波を励振するIDTと、
該IDTの隣り合う電極指間の水晶基板の表面に凹設した電極指間溝とを有し、
SAWの波長λと電極指間溝の深さGとが、0.01λ≦Gの関係を満足し、
IDTのライン占有率ηと電極指間溝の深さGとが、
及び、
の関係を満足し、
オイラー角ψが、|ψ|≠90°×n、(n=0,1,2,3)を満足し、
IDTの電極指の膜厚Hが、0.05μm≦H≦0.20μmの範囲内にあることを特徴とする。
該水晶基板の主面に設けられた複数の電極指からなり、ストップバンド上端モードの弾性表面波を励振するIDTと、
弾性表面波の伝播方向に沿ってIDTを挟むようにその両側に配置した、それぞれ複数の導体ストリップからなる一対の反射器と、
IDTの隣り合う電極指間の水晶基板の表面に凹設した電極指間溝と、
反射器の隣り合う導体ストリップ間の水晶基板の表面に凹設した導体ストリップ間溝とを有し、
弾性表面波の波長λと電極指間溝の深さGとが、0.01λ≦Gの関係を満足し、
IDTのライン占有率ηと電極指間溝の深さGとが、
電極指の膜厚Hが、0.055μm≦H≦0.335μmの範囲内にあることを特徴とする。
y=−86.15x2 +15.82x−0.44
の関係があることが分かった。
y=−0.2874x−1.223
の関係があることが分かった。
Claims (9)
- オイラー角(−1.5°≦φ≦1.5°,117°≦θ≦142°,ψ)の水晶基板と、
前記水晶基板の主面に設けられた複数の電極指からなり、ストップバンド上端モードの弾性表面波を励振するIDTと、
前記IDTの隣り合う前記電極指間の前記水晶基板の表面に凹設した電極指間溝とを有し、
前記弾性表面波の波長λと前記電極指間溝の深さGとが、0.01λ≦Gの関係を満足し、
前記IDTのライン占有率ηと前記電極指間溝の深さGとが、
前記オイラー角ψが、|ψ|≠90°×n、(n=0,1,2,3)を満足し、
前記電極指の膜厚Hが、0.05μm≦H≦0.20μmの範囲内にあることを特徴とする弾性表面波デバイス。 - 前記電極指の膜厚Hが、0.080μm≦H≦0.335μmの範囲内にあることを特徴とする請求項2記載の弾性表面波デバイス。
- 前記電極指間溝の深さGと前記電極指の膜厚Hとの和が、0.0407λ≦G+Hを満足することを特徴とする請求項2乃至4のいずれか記載の弾性表面波デバイス。
- それぞれに前記水晶基板の主面に設けられた複数の導体ストリップからなり、前記弾性表面波の伝播方向に沿って前記IDTを挟むようにその両側に配置した一対の反射器と、
前記反射器の隣り合う前記導体ストリップ間の前記水晶基板の表面に凹設した導体ストリップ間溝とを更に有し、
前記電極指及び前記導体ストリップに直交する第1の方向と前記水晶基板の電機軸とのなす角度が前記オイラー角ψであり、
前記IDT及び反射器の少なくとも一部が、前記第1の方向と角度δをもって交差する第2の方向に配置され、
前記角度δが、前記水晶基板のパワーフロー角±1°の範囲内であることを特徴とする請求項2乃至5のいずれか記載の弾性表面波デバイス。 - 前記IDTを駆動するためのICを更に有することを特徴とする請求項1乃至6のいずれか記載の弾性表面波デバイス。
- 請求項1乃至7のいずれか記載の弾性表面波デバイスを備えることを特徴とする電子機器。
- 請求項1乃至7のいずれか記載の弾性表面波デバイスを備えることを特徴とするセンサー装置。
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