JP2012054303A5 - - Google Patents
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なお、グラフェン層14の表面(すなわち配線10の側面)を覆う厚さ2nm程度の金属膜を形成してもよい。この金属膜を形成することにより、グラフェンが不連続な領域がグラフェン層14に含まれる場合であっても、電気伝導を補うことができる。金属膜の材料として、Au、Pd、Ag、Ta、Ga等のグラフェンと仕事関数が近い材料を用いることが好ましい。これら金属材料は、グラフェン上に成膜してもグラフェン層のディラック点を変化させることなく、グラフェン中を伝導するキャリアの移動速度を減少させることがない。
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