JP2012049239A - 荷電粒子ビーム描画装置および荷電粒子ビーム描画方法 - Google Patents
荷電粒子ビーム描画装置および荷電粒子ビーム描画方法 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】マスク基板11を搬入させ、大気状態または真空状態に切り換えることが可能なロードロック室14からゲートバルブ22を介してロードロック室14に連通させた真空ユニット15内に設置された搬送ロボット24でマスク基板11を恒温室16に搬入させ、マスク基板11の恒温化を行うとともに、マスク基板11の位置ずれや回転のずれのアライメントを行う。次の基板カバー着脱室で、マスク基板11にマスクカバー17を載置させるとともに、マスク基板11を行う。マスクカバー17が載置された状態のマスク基板11を描画室19に搬入させる。描画室19で荷電粒子ビームによる描画を行う前に、次のマスク基板12を恒温室16に搬入させることで、マスク基板12の恒温化時間をマスク基板11の描画中に行うことで、2枚目以降のマスク基板描画処理の効率化を図ることができる。
【選択図】図1
Description
11,111,12,121 マスク基板
13 インターフェース
14 ロードロック室
15 真空ユニット
16 アライメント/恒温室
62,72 恒温室
17,171,172 マスクカバー
18 基板カバー着脱室
19 描画室
20〜22 ゲートバルブ
61,711,712 アライメント/基板カバー着脱室
23,24 搬送ロボット
Claims (5)
- マスク基板を外部より搬入させ、大気状態または真空状態に切り換えることが可能なロードロック室と、
前記ロードロック室にゲートバルブを介して連通し、前記マスク基板の搬送を行う搬送ロボットを有する真空化された真空ユニットと、
前記真空ユニットに連通させ、前記マスク基板の恒温化を行い、前記マスク基板の位置ずれや回転のずれのアライメントを行い、前記マスク基板にマスクカバーの着脱を行う処理室と、
前記処理室により処理された前記マスクカバーが搭載された前記マスク基板に、荷電粒子ビームによる描画を行う描画室と、を具備したことを特徴とする荷電粒子ビーム描画装置。 - 前記処理室は、
前記マスク基板のアライメントを行うとともに、前記マスク基板の恒温化を行うアライメント/恒温室と、
前記恒温室で恒温化された前記マスク基板に前記クカバーの着脱を行う基板カバー着脱室と、からなることを特徴とする請求項1記載の荷電粒子ビーム描画装置。 - 前記処理室は、
前記マスク基板の恒温化を行う恒温室と、
前記マスク基板の位置ずれや回転のずれのアライメントを行い、前記マスク基板にマスクカバーの着脱を行うアライメント/基板カバー着脱室と、からなることを特徴とする請求項1記載の荷電粒子ビーム描画装置。 - 前記処理室は、
面積の異なる第1および第2のマスク基板の恒温化を行うことが可能な恒温室と、
前記第1のマスク基板の位置ずれや回転のずれのアライメントを行い、前記マスク基板にマスクカバーの着脱を行う第1のアライメント/基板カバー着脱室と、
前記第2のマスク基板の位置ずれや回転のずれのアライメントを行い、前記マスク基板にマスクカバーの着脱を行う第2のアライメント/基板カバー着脱室と、からなることを特徴とする請求項1記載の荷電粒子ビーム描画装置。 - 描画室を有する真空ユニット内にマスク基板を搬入し、該マスク基板に、予め搬入され前記マスク基板表面を接地するためのマスクカバーを載置し、
前記マスクカバーが載置された前記マスク基板を前記描画室に搬入して描画し、
描画された前記マスク基板を前記描画室から搬出し、
前記マスク基板から前記マスクカバーを取り外し、
前記マスク基板を前記真空ユニットより搬出する荷電粒子ビーム描画方法において、
前記マスク基板を描画する前に、前記真空ユニットに連通の恒温室内で恒温化を図ることを特徴とする荷電粒子ビーム描画方法。
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