JP2019117923A - 静電チャック、これを含む成膜装置、基板の保持及び分離方法、これを含む成膜方法、及びこれを用いる電子デバイスの製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
は相当な時間がかかる。これは工程時間(Tact)を増加させて生産性を低下させる。
安定するようになる。その結果、基板が静電チャックから分離されて基板支持部に置かれる姿勢及び位置を一様にして、基板の分離後のハンドリングへの影響が低減できる。
板に飛散することを阻むシャッタ(不図示)などを含む。蒸着源25は、点(point)蒸着源、線形(linear)蒸着源、リボルバ蒸着源など用途によって多様な構成を持つことができる。
また、マスクと基板とのアラインメントのために、真空チャンバー20の天井に設けられた窓を通じて、基板及びマスクに形成されたアラインメントマークを撮影するアラインメント用カメラ(不図示)も設けられる。
電圧である第2電圧の印加開始時点、大きさ、第2電圧の維持時間などを基板保持部毎に異なるように制御することができる。第2電圧(V2)は、ゼロ(0)電圧(つまり、接地電圧)又は、第1電圧(V1)の逆極性の電圧であることができる。
時間を第2基板保持部231への第2電圧の維持時間より長くすることができる。
ば、静電チャック23の複数の基板保持部に第1電圧を印加する順番と反対の順番に、第2電圧を印加してもよい。
する。
る。
も電子注入層が形成されてもよい。
22:マスク台
23:静電チャック
24:マグネット
31:電極部
32:電圧制御部
33:電圧印加部
211:第1支持部材
212:第2支持部材
231:第1基板保持部
232:第2基板保持部
Claims (35)
- 基板を保持するための静電チャックであって、
電極部を含む基板保持部と、
前記電極部に電圧を印加する電圧印加部と、
前記電圧印加部によって前記電極部に印加される電圧を制御する電圧制御部と
を含み、
前記静電チャックは複数の基板保持部を含み、
前記電圧印加部は、基板を保持させるための第1電圧及び基板を分離させるための第2電圧を前記複数の基板保持部に印加し、
前記電圧制御部は、前記第2電圧の印加を前記基板保持部毎に独立して制御する
静電チャック。 - 前記電圧制御部は、前記第2電圧の印加開始時点を前記基板保持部毎に独立して制御する請求項1に記載の静電チャック。
- 前記電圧制御部は、前記第2電圧の印加開始時点が前記基板保持部毎に異なるように制御する請求項1又は2に記載の静電チャック。
- 前記電圧制御部は、前記複数の基板保持部がそれぞれ基板を保持した順番に基づいて、前記複数の基板保持部それぞれへの前記第2電圧の印加開始時点を制御する請求項1乃至3のいずれか1項に記載の静電チャック。
- 前記電圧制御部は、前記第2電圧が、前記複数の基板保持部に順番に印加されるように制御する請求項1乃至4のいずれか1項に記載の静電チャック。
- 前記電圧制御部は、前記第2電圧の維持時間を前記基板保持部毎に独立して制御する請求項1乃至5のいずれか1項に記載の静電チャック。
- 前記電圧制御部は、前記第2電圧の維持時間が前記基板保持部毎に異なるように制御する請求項1乃至6のいずれか1項に記載の静電チャック。
- 前記電圧制御部は、前記複数の基板保持部がそれぞれ基板を保持した順番に基づいて、前記複数の基板保持部それぞれへの前記第2電圧の維持時間を制御する請求項1乃至7のいずれか1項に記載の静電チャック。
- 前記電圧制御部は、前記第2電圧の大きさを前記基板保持部毎に独立して制御する請求項1乃至8のいずれか1項に記載の静電チャック。
- 前記電圧制御部は、前記第2電圧の大きさが前記基板保持部毎に異なるように制御する請求項1乃至9のいずれか1項に記載の静電チャック。
- 前記電圧制御部は、前記複数の基板保持部がそれぞれ基板を保持した順番に基づいて、前記複数の基板保持部それぞれに印加される前記第2電圧の大きさを制御する請求項1乃至10のいずれか1項に記載の静電チャック。
- 前記第2電圧は、接地電圧又は第1電圧と逆極性の電圧である請求項1乃至11のいずれか1項に記載の静電チャック。
- 前記電圧制御部は、前記第1電圧の印加を前記基板保持部毎に独立して制御する請求項
1乃至12のいずれか1項に記載の静電チャック。 - 前記電圧制御部は、前記第1電圧の印加開始時点を前記基板保持部毎に独立して制御する請求項1乃至13のいずれか1項に記載の静電チャック。
- 基板を保持するための静電チャックであって、
複数の基板保持部と、
前記複数の基板保持部への基板の保持及び前記複数の基板保持部に保持された基板の分離を制御する制御部と
を含み、
前記制御部は、基板の分離の順番を前記基板保持部毎に独立して制御する
静電チャック。 - 前記制御部は、基板の保持の順番を前記基板保持部毎に独立して制御する請求項15に記載の静電チャック。
- マスクを介して基板上に蒸着材料を成膜するための成膜装置であって、
基板を保持するための請求項1乃至請求項16のいずれか1項に記載の静電チャックと、
前記静電チャックの下方に設置され、マスクを載置するためのマスク台と、
前記マスク台の下方に前記静電チャックと対向するように設置され、蒸着材料を収納する蒸着源を設置するための蒸着源設置台と
を含む成膜装置。 - 基板を複数の基板保持部を有する静電チャックに保持及び分離するための基板の保持及び分離方法であって、
前記複数の基板保持部に第1電圧を印加して、基板を前記複数の基板保持部に保持させる段階と、
前記複数の基板保持部に第2電圧を印加して、基板を前記複数の基板保持部から分離させる段階とを含み、
前記分離させる段階において、前記第2電圧を前記基板保持部毎に独立的に制御して印加する
基板の保持及び分離方法。 - 前記分離させる段階において、前記第2電圧の印加開始時点を前記基板保持部毎に独立的に制御して印加する請求項18に記載の基板の保持及び分離方法。
- 前記分離させる段階において、前記第2電圧の印加開始時点が前記基板保持部毎に異なるように制御する請求項18又は19に記載の基板の保持及び分離方法。
- 前記保持させる段階において前記複数の基板保持部がそれぞれ基板を保持した順番に基づいて、前記分離させる段階において、前記複数の基板保持部それぞれへの前記第2電圧の印加開始時点を制御する請求項18乃至20のいずれか1項に記載の基板の保持及び分離方法。
- 前記分離させる段階において、前記第2電圧が、前記複数の基板保持部に順番に印加されるように制御する請求項18乃至21のいずれか1項に記載の基板の保持及び分離方法。
- 前記分離させる段階において、前記第2電圧の維持時間を前記基板保持部毎に独立して
制御する請求項18乃至22のいずれか1項に記載の基板の保持及び分離方法。 - 前記分離させる段階において、前記第2電圧の維持時間が前記基板保持部毎に異なるように制御する請求項18乃至23のいずれか1項に記載の基板の保持及び分離方法。
- 前記保持させる段階において前記複数の基板保持部がそれぞれ基板を保持した順番に基づいて、前記分離させる段階において、前記複数の基板保持部それぞれへの前記第2電圧の維持時間を制御する請求項18乃至24のいずれか1項に記載の基板の保持及び分離方法。
- 前記分離させる段階において、前記第2電圧の大きさを前記基板保持部毎に独立して制御する請求項18乃至25のいずれか1項に記載の基板の保持及び分離方法。
- 前記分離させる段階において、前記第2電圧の大きさが前記基板保持部毎に異なるように制御する請求項18乃至26のいずれか1項に記載の基板の保持及び分離方法。
- 前記保持させる段階において前記複数の基板保持部がそれぞれ基板を保持した順番に基づいて、前記分離させる段階において、前記複数の基板保持部それぞれに印加される前記第2電圧の大きさを制御する請求項18乃至27のいずれか1項に記載の基板の保持及び分離方法。
- 前記第2電圧は、接地電圧又は、第1電圧と逆極性の電圧である請求項18乃至28のいずれか1項に記載の基板の保持及び分離方法。
- 前記保持させる段階において、前記第1電圧の印加を前記基板保持部毎に独立して制御する請求項18乃至29のいずれか1項に記載の基板の保持及び分離方法。
- 前記保持させる段階において、前記第1電圧の印加開始時点を前記基板保持部毎に独立して制御する請求項18乃至30のいずれか1項に記載の基板の保持及び分離方法。
- 基板を複数の基板保持部を有する静電チャックに保持及び分離するための基板の保持及び分離方法であって、
前記複数の基板保持部に第1電圧を印加して、基板を前記複数の基板保持部に保持させる段階と、
前記複数の基板保持部に第2電圧を印加して、基板を前記複数の基板保持部から分離させる段階と
を含み、
前記分離させる段階において、基板の分離の順番を前記基板保持部毎に独立して制御する、
基板の保持及び分離方法。 - 前記保持させる段階において、基板の保持の順番を前記基板保持部毎に独立して制御できる請求項32に記載の基板の保持及び分離方法。
- マスクを介して基板に蒸着材料を成膜する成膜方法であって、
マスクをマスク台に載置する段階と、
基板を基板支持台に載置する段階と、
請求項18乃至請求項33のいずれか1項に記載の基板の保持及び分離方法によって静電チャックに基板を保持及び分離させる段階と、
蒸着源の蒸着材料をマスクを介して基板上に成膜する段階と
を含む成膜方法。 - 電子デバイスの製造方法であって、
請求項34に記載の成膜方法を用いて電子デバイスを製造する
電子デバイスの製造方法。
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