JP2009231614A - 電子ビーム描画装置および電子ビーム描画方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】電子ビーム描画装置において、マスク基板またはマスクカバーを外部より導入するために設けられ、大気状態と真空状態とを切り替えることが可能なロードロックチャンバ17と、第1のゲートバルブ241を介して連通し、マスク基板またはマスクカバーが載置されたマスク基板のいずれかの搬送を行う真空搬送ロボット19を有する真空ロボットチャンバ20と、マスク基板または、マスク基板に載置されたマスクカバーの位置ずれを検出し、補正を行うアライメントチャンバ16と、マスクカバーを格納するとともに、このマスクカバーをマスク基板上に載置するマスクカバー格納チャンバ15と、第2のゲートバルブ242を介して連通し、マスク基板12を描画する描画チャンバ13とを具備する。
【選択図】図1
Description
Claims (5)
- マスク基板またはマスクカバーを外部より導入するために設けられ、大気状態と真空状態とを切り替えることが可能なロードロックチャンバと、
このロードロックチャンバに第1のゲートバルブを介して連通し、前記マスク基板または前記マスクカバーの搬送を行う真空搬送ロボットを有する真空ロボットチャンバと、
この真空ロボットチャンバに連通し、前記マスク基板またはこのマスク基板に載置されたマスクカバーの位置ずれを検出し、補正を行うアライメントチャンバと、
前記真空ロボットチャンバに連通し、前記マスクカバーを格納するとともに、このマスクカバーを前記マスク基板上に載置するマスクカバー格納チャンバと、
前記真空ロボットチャンバに第2のゲートバルブを介して連通し、前記マスク基板を描画する描画チャンバとを具備することを特徴とする電子ビーム描画装置。 - 前記マスクカバー収納チャンバは、
上下に移動可能であり、前記マスク基板を支持する複数のマスク基板支持ピンと、
前記マスクカバーを載置する複数のマスクカバー支持ピンを有するステージと、
このマスクカバー支持ピンに載置された前記マスクカバーを上部から押し付ける複数のばねとを具備することを特徴とする請求項1に記載の電子ビーム描画装置。 - 前記マスクカバーは、マスク基板の絶縁部に対応した形状の導電部と、
この導電部に設けられ、接地可能な電極が前記導電部から露出する複数の電極部と、
で構成され、
前記描画チャンバ内の真空状態を維持したまま、この描画チャンバより搬出可能であることを特徴とする請求項1または2に記載の電子ビーム描画装置。 - 描画チャンバを有する真空ユニット内にマスク基板を搬入し、このマスク基板に、予め搬入されマスク基板表面を接地するための電極を有するマスクカバーを載置し、
このマスクカバーが載置された前記マスク基板を前記描画チャンバに搬入して描画し、
描画された前記マスク基板を前記描画チャンバから搬出し、
前記マスク基板から前記マスクカバーを取り外し、
前記マスク基板を前記真空ユニットより搬出することを特徴とする電子ビーム描画方法。 - 前記マスク基板から取り外された前記マスクカバーを、真空状態を維持したまま前記真空ユニットから搬出し、
新たなマスクカバーを前記真空ユニット内に真空状態を維持したまま搬入することを特徴とする請求項4に記載の電子ビーム描画方法。
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