JPS6090452U - 電子ビ−ム露光装置用マスクホルダ - Google Patents
電子ビ−ム露光装置用マスクホルダInfo
- Publication number
- JPS6090452U JPS6090452U JP1983181538U JP18153883U JPS6090452U JP S6090452 U JPS6090452 U JP S6090452U JP 1983181538 U JP1983181538 U JP 1983181538U JP 18153883 U JP18153883 U JP 18153883U JP S6090452 U JPS6090452 U JP S6090452U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electron beam
- mask holder
- beam exposure
- film layer
- metal film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Electron Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
第1図および第2図は各々本考案に係るマスクホルダの
外観図および導通確認用回路図である。 1・・・基台、2・・・フォトマスク乾板、3・・・乾
板押え板、4at4b・・・ピン、5・・・開口部、6
・・・ガラス基板、7・・・クロム膜、8・・・レジス
ト膜、10・・・発光ダイオード。
外観図および導通確認用回路図である。 1・・・基台、2・・・フォトマスク乾板、3・・・乾
板押え板、4at4b・・・ピン、5・・・開口部、6
・・・ガラス基板、7・・・クロム膜、8・・・レジス
ト膜、10・・・発光ダイオード。
Claims (1)
- マスク基板上に金属膜層を有するフォトマスク乾板を搭
載するための基台と、該乾板を照射する電子ビームを透
過させるための開口部を有する乾板押え板とからなる電
子ビーム露光装置用マスクホルダにおいて、上記乾板押
え板に、上記金属膜層に接触してこれをアースに接続さ
せるための2つのピンを設け、該両ピン間に、両ピンが
金属膜層に接触し該金属膜層を介して導通した場合に駆
動される導通確認用回路を設けたことを特徴とする電子
ビーム露光装置用マスクホルダ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1983181538U JPS6090452U (ja) | 1983-11-26 | 1983-11-26 | 電子ビ−ム露光装置用マスクホルダ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1983181538U JPS6090452U (ja) | 1983-11-26 | 1983-11-26 | 電子ビ−ム露光装置用マスクホルダ |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6090452U true JPS6090452U (ja) | 1985-06-20 |
JPS6230031Y2 JPS6230031Y2 (ja) | 1987-08-01 |
Family
ID=30393358
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1983181538U Granted JPS6090452U (ja) | 1983-11-26 | 1983-11-26 | 電子ビ−ム露光装置用マスクホルダ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6090452U (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009231614A (ja) * | 2008-03-24 | 2009-10-08 | Nuflare Technology Inc | 電子ビーム描画装置および電子ビーム描画方法 |
-
1983
- 1983-11-26 JP JP1983181538U patent/JPS6090452U/ja active Granted
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009231614A (ja) * | 2008-03-24 | 2009-10-08 | Nuflare Technology Inc | 電子ビーム描画装置および電子ビーム描画方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6230031Y2 (ja) | 1987-08-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPS6090452U (ja) | 電子ビ−ム露光装置用マスクホルダ | |
JPS6039047U (ja) | マスクブランク板 | |
JPS5845533U (ja) | 照度分布測定装置 | |
JPS5834731U (ja) | 電子ビ−ム露光用マスク | |
JPS58170830U (ja) | 描画用マスクホルダとマスク基板との導通機構 | |
JPS60140955U (ja) | 段差付きホトマスク | |
JPS5978647U (ja) | プリント基板 | |
JPS5899708U (ja) | 照明具 | |
JPS5933033U (ja) | カメラ | |
JPS59107147U (ja) | 半導体装置 | |
JPS5816644U (ja) | パタ−ン転写用フオトマスク | |
JPS5926239U (ja) | レテイクル装着台 | |
JPS5818340U (ja) | 微細パタ−ン転写用ウエハ− | |
JPS59192870U (ja) | プリント基板装置 | |
JPS59192353U (ja) | 感熱孔版原紙の製版・印刷装置 | |
JPS58166647U (ja) | 露光装置 | |
JPS60186439U (ja) | 照明装置 | |
JPS6059259U (ja) | マスクフイルム | |
JPS6061731U (ja) | 電子ビ−ム描画装置のウエハホルダ | |
JPS59104145U (ja) | フオトマスク | |
JPS5914358U (ja) | 半導体表示装置 | |
JPS58163992U (ja) | 表示装置用表示板 | |
JPS6018542U (ja) | 電子ビ−ム露光装置 | |
JPS6088338U (ja) | フオトマスク | |
JPS594541U (ja) | レテイクル |