JPS5834731U - 電子ビ−ム露光用マスク - Google Patents
電子ビ−ム露光用マスクInfo
- Publication number
- JPS5834731U JPS5834731U JP1981128475U JP12847581U JPS5834731U JP S5834731 U JPS5834731 U JP S5834731U JP 1981128475 U JP1981128475 U JP 1981128475U JP 12847581 U JP12847581 U JP 12847581U JP S5834731 U JPS5834731 U JP S5834731U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electron beam
- beam exposure
- exposure mask
- pattern
- mask
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 title claims 5
- 238000007689 inspection Methods 0.000 claims description 2
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 241000283070 Equus zebra Species 0.000 description 1
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
第１図は本考案マスクの正面図、第２図はその要部の拡
大図、第３図、第４図は描画パターン図、第５図、第６
図、第７図は異った描画パターン図であって、６は検査
パターン、１０．１１はベースパターン、１２はゼブラ
パターン、を夫々示している。
大図、第３図、第４図は描画パターン図、第５図、第６
図、第７図は異った描画パターン図であって、６は検査
パターン、１０．１１はベースパターン、１２はゼブラ
パターン、を夫々示している。
Claims (1)
- レジスト膜を電子ビームで照射して所望のパターンを描
画する為に用いる電子ビーム露光用マスクに於て、マス
クのパターンが描かれた箇所以外の空地に電子ビーム露
光に依る描画状況おチェックと露光及び製造工程の条件
の正誤を判断する為の検査パターンを設けた事を特徴と
する電子ビーム露光用マスク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1981128475U JPS5834731U (ja) | 1981-08-28 | 1981-08-28 | 電子ビ−ム露光用マスク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1981128475U JPS5834731U (ja) | 1981-08-28 | 1981-08-28 | 電子ビ−ム露光用マスク |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5834731U true JPS5834731U (ja) | 1983-03-07 |
Family
ID=29922172
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1981128475U Pending JPS5834731U (ja) | 1981-08-28 | 1981-08-28 | 電子ビ−ム露光用マスク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5834731U (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6041008U (ja) * | 1983-08-26 | 1985-03-23 | ナイルス部品株式会社 | カ−ボン焼結摺動抵抗体 |
| JPH08314118A (ja) * | 1995-05-15 | 1996-11-29 | Nec Corp | 照度むら検出用パターンを有するマスク |
| WO2004003664A1 (ja) * | 2002-06-28 | 2004-01-08 | Sony Corporation | マスクおよびその検査方法並びに半導体装置の製造方法 |
| JP2006250988A (ja) * | 2005-03-08 | 2006-09-21 | Toppan Printing Co Ltd | レチクル |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5630723A (en) * | 1979-08-21 | 1981-03-27 | Toshiba Corp | Pattern formation by electron beam exposing device |
| JPS57148347A (en) * | 1981-03-09 | 1982-09-13 | Jeol Ltd | Measurement of connection accuracy for electron beam exposure |
-
1981
- 1981-08-28 JP JP1981128475U patent/JPS5834731U/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5630723A (en) * | 1979-08-21 | 1981-03-27 | Toshiba Corp | Pattern formation by electron beam exposing device |
| JPS57148347A (en) * | 1981-03-09 | 1982-09-13 | Jeol Ltd | Measurement of connection accuracy for electron beam exposure |
Cited By (5)
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|---|---|---|---|---|
| JPS6041008U (ja) * | 1983-08-26 | 1985-03-23 | ナイルス部品株式会社 | カ−ボン焼結摺動抵抗体 |
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| WO2004003664A1 (ja) * | 2002-06-28 | 2004-01-08 | Sony Corporation | マスクおよびその検査方法並びに半導体装置の製造方法 |
| JP2006250988A (ja) * | 2005-03-08 | 2006-09-21 | Toppan Printing Co Ltd | レチクル |
| JP4529736B2 (ja) * | 2005-03-08 | 2010-08-25 | 凸版印刷株式会社 | レチクル |
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