JPS58419U - レチクル - Google Patents
レチクルInfo
- Publication number
- JPS58419U JPS58419U JP1981094876U JP9487681U JPS58419U JP S58419 U JPS58419 U JP S58419U JP 1981094876 U JP1981094876 U JP 1981094876U JP 9487681 U JP9487681 U JP 9487681U JP S58419 U JPS58419 U JP S58419U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- reticle
- abstract
- recorded
- mask substrate
- patternlets
- Prior art date
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
第1図は本考案に係るレチクルの一実施例を示す上面図
、第2図は上記一実施例を用いて縮小投影ステップ露光
を行なう方法を示す要部斜視図である。 図において1はレチクル、2はマスク基板、3はパター
ン領域、A−Pはパターンを示す。
、第2図は上記一実施例を用いて縮小投影ステップ露光
を行なう方法を示す要部斜視図である。 図において1はレチクル、2はマスク基板、3はパター
ン領域、A−Pはパターンを示す。
Claims (1)
- 同一マスク基板上にそれぞれ独立して形成された少なく
とも2種類のパターレを具備せしめたことを特徴とする
レチクル。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1981094876U JPS58419U (ja) | 1981-06-25 | 1981-06-25 | レチクル |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1981094876U JPS58419U (ja) | 1981-06-25 | 1981-06-25 | レチクル |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58419U true JPS58419U (ja) | 1983-01-05 |
Family
ID=29889794
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1981094876U Pending JPS58419U (ja) | 1981-06-25 | 1981-06-25 | レチクル |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS58419U (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5960929U (ja) * | 1982-10-19 | 1984-04-21 | 株式会社サンコ− | ブラシ |
JPS62104440U (ja) * | 1985-09-06 | 1987-07-03 |
-
1981
- 1981-06-25 JP JP1981094876U patent/JPS58419U/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5960929U (ja) * | 1982-10-19 | 1984-04-21 | 株式会社サンコ− | ブラシ |
JPS62104440U (ja) * | 1985-09-06 | 1987-07-03 |
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