JPS58419U - レチクル - Google Patents

レチクル

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Publication number
JPS58419U
JPS58419U JP1981094876U JP9487681U JPS58419U JP S58419 U JPS58419 U JP S58419U JP 1981094876 U JP1981094876 U JP 1981094876U JP 9487681 U JP9487681 U JP 9487681U JP S58419 U JPS58419 U JP S58419U
Authority
JP
Japan
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reticle
abstract
recorded
mask substrate
patternlets
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Pending
Application number
JP1981094876U
Other languages
English (en)
Inventor
有井 勝之
西形 英治
Original Assignee
富士通株式会社
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Filing date
Publication date
Application filed by 富士通株式会社 filed Critical 富士通株式会社
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Publication of JPS58419U publication Critical patent/JPS58419U/ja
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第1図は本考案に係るレチクルの一実施例を示す上面図
、第2図は上記一実施例を用いて縮小投影ステップ露光
を行なう方法を示す要部斜視図である。 図において1はレチクル、2はマスク基板、3はパター
ン領域、A−Pはパターンを示す。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 同一マスク基板上にそれぞれ独立して形成された少なく
    とも2種類のパターレを具備せしめたことを特徴とする
    レチクル。
JP1981094876U 1981-06-25 1981-06-25 レチクル Pending JPS58419U (ja)

Priority Applications (1)

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JP1981094876U JPS58419U (ja) 1981-06-25 1981-06-25 レチクル

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1981094876U JPS58419U (ja) 1981-06-25 1981-06-25 レチクル

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS58419U true JPS58419U (ja) 1983-01-05

Family

ID=29889794

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1981094876U Pending JPS58419U (ja) 1981-06-25 1981-06-25 レチクル

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS58419U (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5960929U (ja) * 1982-10-19 1984-04-21 株式会社サンコ− ブラシ
JPS62104440U (ja) * 1985-09-06 1987-07-03

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5960929U (ja) * 1982-10-19 1984-04-21 株式会社サンコ− ブラシ
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