JPS59109349U - フオトマスク基板 - Google Patents
フオトマスク基板Info
- Publication number
- JPS59109349U JPS59109349U JP1983004088U JP408883U JPS59109349U JP S59109349 U JPS59109349 U JP S59109349U JP 1983004088 U JP1983004088 U JP 1983004088U JP 408883 U JP408883 U JP 408883U JP S59109349 U JPS59109349 U JP S59109349U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- photomask substrate
- abstract
- recorded
- photomask
- electronic filing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
図は本考案にかかるフォトマスク基板を用いた露光工程
の断面図である。 、図中、１はフォトマスク基板、２は半導体ウェハー、
１１はマスクパターン、２１はポジ型レジスト膜を示し
ている。
の断面図である。 、図中、１はフォトマスク基板、２は半導体ウェハー、
１１はマスクパターン、２１はポジ型レジスト膜を示し
ている。
Claims (1)
- 透光性の多孔質材料からなることを特徴とするフォトマ
スク基板。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1983004088U JPS59109349U (ja) | 1983-01-13 | 1983-01-13 | フオトマスク基板 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1983004088U JPS59109349U (ja) | 1983-01-13 | 1983-01-13 | フオトマスク基板 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59109349U true JPS59109349U (ja) | 1984-07-23 |
Family
ID=30135693
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1983004088U Pending JPS59109349U (ja) | 1983-01-13 | 1983-01-13 | フオトマスク基板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59109349U (ja) |
-
1983
- 1983-01-13 JP JP1983004088U patent/JPS59109349U/ja active Pending
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