JPS60140955U - 段差付きホトマスク - Google Patents

段差付きホトマスク

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Publication number
JPS60140955U
JPS60140955U JP1984027513U JP2751384U JPS60140955U JP S60140955 U JPS60140955 U JP S60140955U JP 1984027513 U JP1984027513 U JP 1984027513U JP 2751384 U JP2751384 U JP 2751384U JP S60140955 U JPS60140955 U JP S60140955U
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
photomask
steps
exposed surface
exposed
match
Prior art date
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Pending
Application number
JP1984027513U
Other languages
English (en)
Inventor
岳史 椙井
松崎　壽夫
Original Assignee
富士通株式会社
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Publication date
Application filed by 富士通株式会社 filed Critical 富士通株式会社
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Publication of JPS60140955U publication Critical patent/JPS60140955U/ja
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第１図は従来の厚膜と薄膜を同一基板に設けた、　　　
　回路を説明するための図、第２図は本考案による段差
付きホトマスクを説明するための図、第３図はその使用
状態を説明するための図である。 図面において、１０は段差付きホトマスク、１１は透明
ガラス板、１２は被露光物の低い部分を露光するマスク
形成面、１３は被露光物の高い部分を露光するマスク形
成面、１４はステージ、１５は基板、１６はマスクホル
ダーをそれぞれ示、す。、

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 露光面に塗布されたレジストにパターンの潜像を形成す
    るホトマスクにおいて、露光面に高低の段差がある場合
    、該露光面に接するホトマスクの面を、前記露光面の段
    差に合わせて段差を設けたことを特徴とする段差付きホ
    トマスク。
JP1984027513U 1984-02-29 1984-02-29 段差付きホトマスク Pending JPS60140955U (ja)

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JP1984027513U JPS60140955U (ja) 1984-02-29 1984-02-29 段差付きホトマスク

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1984027513U JPS60140955U (ja) 1984-02-29 1984-02-29 段差付きホトマスク

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS60140955U true JPS60140955U (ja) 1985-09-18

Family

ID=30524536

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1984027513U Pending JPS60140955U (ja) 1984-02-29 1984-02-29 段差付きホトマスク

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS60140955U (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04278951A (ja) * 1991-03-07 1992-10-05 Fujitsu Ltd 半導体装置製造用マスク及び半導体装置の製造方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04278951A (ja) * 1991-03-07 1992-10-05 Fujitsu Ltd 半導体装置製造用マスク及び半導体装置の製造方法

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