JPS58170830U - 描画用マスクホルダとマスク基板との導通機構 - Google Patents

描画用マスクホルダとマスク基板との導通機構

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JPS58170830U
JPS58170830U JP1982066546U JP6654682U JPS58170830U JP S58170830 U JPS58170830 U JP S58170830U JP 1982066546 U JP1982066546 U JP 1982066546U JP 6654682 U JP6654682 U JP 6654682U JP S58170830 U JPS58170830 U JP S58170830U
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JP
Japan
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mask
holder
conductive mechanism
substrate
mask substrate
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Pending
Application number
JP1982066546U
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English (en)
Inventor
遠坂　康郎
Original Assignee
沖電気工業株式会社
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第１図は従来のこの種導通機構を示し、Ａ図はその平面
図、Ｂ図は同じく上面図、０図は同じく要部拡大斜視図
、第２図は本考案導通機構の一実施例を示し、Ａ図はそ
の平面図、Ｂ図は同じくその要部拡大斜視図である。 ２１・・・マスク基板、２１ａ・・・レジスト膜、２１
ｂ・・・金属膜、２２・・・マスクホルダ、２３・・・
接点ばね、２４・・・レジスト膜の存在しない領域。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 導通用ピンを持つマスクホルダを使用して電子ビームに
    よるマスク描画を行なわせる装置において、マスク基板
    の金属膜上の一部にレジスト膜が存在しない領域を設け
    て導通用ピンに代る接点ばねと直接接触せしめるように
    したことを特徴とする描画用マスクホルダとマスク基板
    との導通機構。
JP1982066546U 1982-05-10 1982-05-10 描画用マスクホルダとマスク基板との導通機構 Pending JPS58170830U (ja)

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JPS58170830U true JPS58170830U (ja) 1983-11-15

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JP (1) JPS58170830U (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6057624A (ja) * 1983-09-08 1985-04-03 Toshiba Corp ハ−ドマスクの製作方法
JPH02272454A (ja) * 1989-04-13 1990-11-07 Toshiba Corp 半導体製造用マスクの製造方法及びその製造装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6057624A (ja) * 1983-09-08 1985-04-03 Toshiba Corp ハ−ドマスクの製作方法
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