JPS58170830U - 描画用マスクホルダとマスク基板との導通機構 - Google Patents
描画用マスクホルダとマスク基板との導通機構Info
- Publication number
- JPS58170830U JPS58170830U JP1982066546U JP6654682U JPS58170830U JP S58170830 U JPS58170830 U JP S58170830U JP 1982066546 U JP1982066546 U JP 1982066546U JP 6654682 U JP6654682 U JP 6654682U JP S58170830 U JPS58170830 U JP S58170830U
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mask
- holder
- conductive mechanism
- substrate
- mask substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Electron Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
第1図は従来のこの種導通機構を示し、A図はその平面
図、B図は同じく上面図、0図は同じく要部拡大斜視図
、第2図は本考案導通機構の一実施例を示し、A図はそ
の平面図、B図は同じくその要部拡大斜視図である。 21・・・マスク基板、21a・・・レジスト膜、21
b・・・金属膜、22・・・マスクホルダ、23・・・
接点ばね、24・・・レジスト膜の存在しない領域。
図、B図は同じく上面図、0図は同じく要部拡大斜視図
、第2図は本考案導通機構の一実施例を示し、A図はそ
の平面図、B図は同じくその要部拡大斜視図である。 21・・・マスク基板、21a・・・レジスト膜、21
b・・・金属膜、22・・・マスクホルダ、23・・・
接点ばね、24・・・レジスト膜の存在しない領域。
Claims (1)
- 導通用ピンを持つマスクホルダを使用して電子ビームに
よるマスク描画を行なわせる装置において、マスク基板
の金属膜上の一部にレジスト膜が存在しない領域を設け
て導通用ピンに代る接点ばねと直接接触せしめるように
したことを特徴とする描画用マスクホルダとマスク基板
との導通機構。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1982066546U JPS58170830U (ja) | 1982-05-10 | 1982-05-10 | 描画用マスクホルダとマスク基板との導通機構 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1982066546U JPS58170830U (ja) | 1982-05-10 | 1982-05-10 | 描画用マスクホルダとマスク基板との導通機構 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58170830U true JPS58170830U (ja) | 1983-11-15 |
Family
ID=30076412
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1982066546U Pending JPS58170830U (ja) | 1982-05-10 | 1982-05-10 | 描画用マスクホルダとマスク基板との導通機構 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS58170830U (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6057624A (ja) * | 1983-09-08 | 1985-04-03 | Toshiba Corp | ハ−ドマスクの製作方法 |
JPH02272454A (ja) * | 1989-04-13 | 1990-11-07 | Toshiba Corp | 半導体製造用マスクの製造方法及びその製造装置 |
-
1982
- 1982-05-10 JP JP1982066546U patent/JPS58170830U/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6057624A (ja) * | 1983-09-08 | 1985-04-03 | Toshiba Corp | ハ−ドマスクの製作方法 |
JPH02272454A (ja) * | 1989-04-13 | 1990-11-07 | Toshiba Corp | 半導体製造用マスクの製造方法及びその製造装置 |
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