JPS58185850U - ホトマスク - Google Patents
ホトマスクInfo
- Publication number
- JPS58185850U JPS58185850U JP1982083475U JP8347582U JPS58185850U JP S58185850 U JPS58185850 U JP S58185850U JP 1982083475 U JP1982083475 U JP 1982083475U JP 8347582 U JP8347582 U JP 8347582U JP S58185850 U JPS58185850 U JP S58185850U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- photomask
- opaque film
- finer
- patterns
- holes
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
第１図は本考案の二実施例のホトマスクの断面構造図、
第２図は同じく上記ホトマスクを用いて形成されたレジ
ストパターンの断面構造図である。 １・・・ホトアスク基板、２・・・不透明膜、−３・・
・孔、４・・・パターン、５．７・・・レジストパター
ン。
第２図は同じく上記ホトマスクを用いて形成されたレジ
ストパターンの断面構造図である。 １・・・ホトアスク基板、２・・・不透明膜、−３・・
・孔、４・・・パターン、５．７・・・レジストパター
ン。
Claims (1)
- 不透明膜からなるマスクパターンを透明基板上にそなえ
たホトマスクにおいて、不透明膜に、パターン解像限界
よりも微細な孔およびパターンを有し、その面積比が漸
次変化するものであることを特徴とするホトマスク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1982083475U JPS58185850U (ja) | 1982-06-07 | 1982-06-07 | ホトマスク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1982083475U JPS58185850U (ja) | 1982-06-07 | 1982-06-07 | ホトマスク |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58185850U true JPS58185850U (ja) | 1983-12-10 |
| JPS6220844Y2 JPS6220844Y2 (ja) | 1987-05-27 |
Family
ID=30092485
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1982083475U Granted JPS58185850U (ja) | 1982-06-07 | 1982-06-07 | ホトマスク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58185850U (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008244478A (ja) * | 2007-03-19 | 2008-10-09 | Magnachip Semiconductor Ltd | フォトマスク及びそれを用いるイメージセンサの製造方法 |
| WO2023281767A1 (ja) * | 2021-07-06 | 2023-01-12 | 株式会社デンソー | 半導体装置と半導体装置の製造方法 |
-
1982
- 1982-06-07 JP JP1982083475U patent/JPS58185850U/ja active Granted
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008244478A (ja) * | 2007-03-19 | 2008-10-09 | Magnachip Semiconductor Ltd | フォトマスク及びそれを用いるイメージセンサの製造方法 |
| WO2023281767A1 (ja) * | 2021-07-06 | 2023-01-12 | 株式会社デンソー | 半導体装置と半導体装置の製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6220844Y2 (ja) | 1987-05-27 |
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