JPS58192643U - 露光用マスク - Google Patents
露光用マスクInfo
- Publication number
- JPS58192643U JPS58192643U JP1982092105U JP9210582U JPS58192643U JP S58192643 U JPS58192643 U JP S58192643U JP 1982092105 U JP1982092105 U JP 1982092105U JP 9210582 U JP9210582 U JP 9210582U JP S58192643 U JPS58192643 U JP S58192643U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- exposure mask
- abstract
- substrate
- utility
- light
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
第1図は本考案による一実施例の円形露光用マ□゛ ス
フの平面図、第2図は本考案による一実施例の角形露光
用マスクの平面図、第3図は本考案露光用マスクの搬送
機構の要部模式図を示す。図において1は円形露光用マ
スク、11はくぼみ、12は円形基板、14はパターン
、2は角形露光用マスク、21はくぼみ、22は角形基
板、24はパターン。
フの平面図、第2図は本考案による一実施例の角形露光
用マスクの平面図、第3図は本考案露光用マスクの搬送
機構の要部模式図を示す。図において1は円形露光用マ
スク、11はくぼみ、12は円形基板、14はパターン
、2は角形露光用マスク、21はくぼみ、22は角形基
板、24はパターン。
Claims (1)
- 透明体からなる基板と該基板上に遮光性の膜で形成され
たパターンを有する露光用マスクの周囲に、少なくとも
3個のくぼみを具備してなることを特徴とする露光用マ
スク。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1982092105U JPS58192643U (ja) | 1982-06-18 | 1982-06-18 | 露光用マスク |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1982092105U JPS58192643U (ja) | 1982-06-18 | 1982-06-18 | 露光用マスク |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58192643U true JPS58192643U (ja) | 1983-12-21 |
Family
ID=30100304
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1982092105U Pending JPS58192643U (ja) | 1982-06-18 | 1982-06-18 | 露光用マスク |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS58192643U (ja) |
-
1982
- 1982-06-18 JP JP1982092105U patent/JPS58192643U/ja active Pending
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPS58192643U (ja) | 露光用マスク | |
JPS6039047U (ja) | マスクブランク板 | |
JPS58185850U (ja) | ホトマスク | |
JPS5917441U (ja) | フオトマスク | |
JPS5823330U (ja) | フオトマスク | |
JPS59104145U (ja) | フオトマスク | |
JPS6111103U (ja) | 防眩フイルタ− | |
JPS58170830U (ja) | 描画用マスクホルダとマスク基板との導通機構 | |
JPS58172982U (ja) | 化粧パネル構造 | |
JPS594541U (ja) | レテイクル | |
JPS60175659U (ja) | 印刷用スクリ−ン | |
JPS58180403U (ja) | 分度器 | |
JPS59104184U (ja) | 表示板 | |
JPS5881938U (ja) | 半導体装置 | |
JPS60140955U (ja) | 段差付きホトマスク | |
JPS60159436U (ja) | 半導体装置製造用ガラスマスク | |
JPS58146240U (ja) | 原稿位置決め装置 | |
JPS5869971U (ja) | フレキシブルプリント基板 | |
JPS6041073U (ja) | 厚膜回路基板 | |
JPS6044046U (ja) | フオトマスク | |
JPS59109349U (ja) | フオトマスク基板 | |
JPS5995660U (ja) | 焼付装置 | |
JPS5865076U (ja) | 固定表示用偏光板 | |
JPS5989352U (ja) | 縮小投影露光用フォトマスク | |
JPS6079736U (ja) | マスク |