JPS5989352U - 縮小投影露光用フォトマスク - Google Patents

縮小投影露光用フォトマスク

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JPS5989352U
JPS5989352U JP1982185783U JP18578382U JPS5989352U JP S5989352 U JPS5989352 U JP S5989352U JP 1982185783 U JP1982185783 U JP 1982185783U JP 18578382 U JP18578382 U JP 18578382U JP S5989352 U JPS5989352 U JP S5989352U
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JP
Japan
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photomask
projection exposure
reduction projection
pattern
substrate
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JP1982185783U
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JPS634216Y2 (ja
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宏 橋本
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富士通株式会社
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第１図は縮小露光装置の模式的構成図、第２図は本考案
による一実施例のフォトマスクの模式的平面図、第３図
は本考案の一実施例のフォトマスクを用いて半導体基板
上に縮写したパターン配置の要部拡大平面図である。 図において６は基板、１０はフォトマスク、１２．１４
はデバイスパターン、１３．１６は解像力チェックパタ
ーンを示す。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 基板上にパターンを縮小露光するためのフォトマスクで
    あって、該フォトマスク上のデバイスパターン外側の少
    くとも４隅に、所望形状の解像力チェックパターンを設
    けたことを特徴とするフォトマスク。
JP1982185783U 1982-12-07 1982-12-07 縮小投影露光用フォトマスク Granted JPS5989352U (ja)

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JP1982185783U JPS5989352U (ja) 1982-12-07 1982-12-07 縮小投影露光用フォトマスク

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JPS5989352U true JPS5989352U (ja) 1984-06-16
JPS634216Y2 JPS634216Y2 (ja) 1988-02-02

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JP1982185783U Granted JPS5989352U (ja) 1982-12-07 1982-12-07 縮小投影露光用フォトマスク

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Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5396674A (en) * 1977-02-03 1978-08-24 Mitsubishi Electric Corp Photo mask

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5396674A (en) * 1977-02-03 1978-08-24 Mitsubishi Electric Corp Photo mask

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Publication number Publication date
JPS634216Y2 (ja) 1988-02-02

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