JP2012023384A - SiCの除去法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】カーバイドシリコン層45を酸素含有プラズマに曝すことにより、前記カーバイドシリコン層45の少なくとも露出された部分を酸化シリコン層に変換し、そして基板から前記酸化シリコン層を除去するステップからなる。
【選択図】図4
Description
前記カーバイドシリコン層を酸素含有プラズマに曝すことにより、前記カーバイドシリコン層の前記少なくとも露出された部分を酸化シリコン層に変換し、
前記基板から前記酸化シリコン層を除去するステップからなる。
半導体層上に配置された導電性層と、
前記導電層の少なくとも一部を露出させるために、貫通している少なくとも一つの開口を有する少なくとも一つの誘電体層と、
少なくとも前記導電性層上に形成され、かつ、前記誘電体層と前記導電層との間に、前記導電性層の露出された部分に接近して位置するカーバイド・シリコン層とを含む。
前記露出されたシリコン含有層上の順応するシリコン層と、
少なくとも一つの開口を有する前記基板の前記表面上の少なくとも一つの誘電体層とを備え、
前記開口は、前記誘電体層を貫通し、これにより、前記珪素層の開口を決定し、
そして、少なくとも前記珪素層上に形成され、かつ、前記誘電体層と前記珪素層との間に、前記珪素層の露出された部分に接近して位置するカーバイド・シリコン層とを含む。
少なくとも前記導電性層上にカーバイド・シリコン層を形成し、
前記表面上と前記カーバイド・シリコン層上に少なくとも一つの誘電体層を配置し、
前記誘電体層内にこの誘電体を貫通する少なくとも一つの開口を形成し、これにより、前記導電性層上に形成された前記カーバイド・シリコン層の一部を露出させ、
前記開口内の前記カーバイド・シリコン層の一部を酸素含有プラズマに曝すことにより、前記開口内の前記カーバイド・シリコン層の前記露出された一部を酸化シリコン層に変換し、
前記開口内の前記酸化シリコン層を除去するステップSを含む。
カーバイド・シリコン層(1)(2)は、シリコンウエハー上に強められたプラズマの堆積を通じて形成された。この後、これらのウエハー上のカーバイド・シリコン層は、1.1Torrの圧力下で異なる時間の間、O2/N2プラズマ残光に供せられた。O2の流れは、4000sccmで、N2の流れは200sccmである。ウエハー温度はおよそ230℃に維持された。異なるサンプルが異なる処理時間、2〜8分の範囲内に対して供せられた。酸化後、サンプルは、5分間、2%のHF混合液内でエッチングされた(4)。フイルム(3)の配置後に、酸化後におよび希釈したHF溶液内にて湿潤エッチング(5)の後に長円性測定が実行された。
a.カーバイド・シリコンの、中くらいの温度範囲、つまり100℃から600℃の範囲の酸素含有環境への曝しにより、カーバイド・シリコンが異なる光性質を示す物質に変換された。
b.楕円パラメータの変化は曝す時間に依存する。
c.変換された物質は2%のHF溶液で除去できる。
d.除去された物質の量、つまり変換された層の厚さは、曝した時間に依存かる。より多くの物質の除去にはより長いプラズマへの曝し時間が必要。
e.変換された層の除去後、未処理のカーバイド・シリコン層に対するような同じ光性質が見出された。
f.2%のHF溶液に共した時、カーバイド・シリコン層は実質的に影響されずに留まる(図2)。図2の21で示すように、カーバイド・シリコン層の変換された部分は、最初の20秒内で除去されたが、エッチング処理は、カーバイド・シリコン層の未変換部分には影響を与えないことが明白に示されている。
a)CMPの導入は、一様でない誘電体を引き起こし、そのため過度のエッチング時間を要求する。
b)シリカイドの厚さの減少が更に選択性を増すことを要求する。
c)浅い接続部の導入は、影響の低下に対してより敏感で、最大の許容できる厚さへの厳しい要求を設定する。
前記基板上の少なくともひとつの開口(36)を有する少なくともひとつの誘電体層とを備え、前記開口は前記誘電体内を貫通し、それにより、前記シリカイド層の露出された部分を決定し、
そして、少なくとも前記シリカイド層上に形成され、そして前記誘電体層と前記シリカイド層との間で前記シリカイド層の前記露出された部分に近接して位置するカーバイド・シリコン層とを備える。
a)第1のプロセスステップ(ステップa)として、典型的に50nm厚のカーバイド・シリコン層(45)が基板(41)上に、つまり露出された導電層(42)上に配置される。しかしながら、好ましくは、この絶縁性のカーバイド・シリコン層を覆うようにして配置される。エッチング停止層およびバリア層としても機能するカーバイド・シリコン層は不純物の不拡散を防止する。その導電性層(43)は純金属であるか、Al、Cu、W、Pt、Ag、Ni、Au、Co、Ti、Taからなる金属の合金か、または例えばシリカイド、ポリシリコンまたはシリコン層のような層を含む半導体である。この半導体層は、バリア層、導電性または非導電性および金属層を含むこともできる。この基板は、部分的に処理された、または未処理のウエハーまたは、Si、Ga、As、Geのような半導体材料のスライスまたはSiGeまたは絶縁材料、例えばガラスのスライスまたは導電性材料である。前記基板は、(パターン化された)導電性層を含む。特に、前記基板が部分的に処理されたウエハーまたはスライスの場合、少なくともアクティブなおよび/又はパッシィブなデバイスは、既に形成されており、および/又は少なくともこれらのデバイスを含む構造を形成できる。
b)カーバイド・シリコン層の形成後、少なくともひとつの誘電体層(44)がその上に形成される。そして、少なくともその誘電体層の内部にその誘電体を貫通する孔が形成され(ステップb)、それにより、導電性層上に形成されたカーバイト・シリコン層の一部が露出される。この開口は、好ましくは、マスクとして誘電体層のトップ上のパターン化されたレジスト層を用いる乾式エッチング手法を用いて形成される。カーバイド・シリコン層はエッチング停止層として作用するので、このコンタクトのプロセスに対し利用できる、大きなプロセスの窓が存在する。
c)開口内のカーバイド・シリコン層の露出された部分は、次に、酸素含有プラズマに曝すことにより、少なくとも部分的に元の位置で酸化シリコンに変換される。そして、
d)この後、前記開口(および同時にレジスト)内の酸化シリコン層は、選択的に除去される。ステップcおよびステップdの手順は、下に横たわる導電層が露出されるまで繰返し実行される。
第1のシリコン層は、パターン化された酸化層および、パターン化されたポリシリコン層上のシリコンウエハーおよびTiO2に直接に露出されたTiO2の導電層を含むシリコンウエハー上に形成される。その後、酸化層が形成され、誘電体のスタックを決定する。レジスト層が形成され、そしてこの誘電体スタック上にパターン化かされる。次に、酸化スタック内に開口を決定するために、コンタクトのエッチングのために、酸化エッチングチャンバー無いにシリコンウエハーが導入される。そのエッチングはシリコン層上で停止する。シリコン層の露出された部分は、低温の酸素含有プラズマの残光を用いて、その位置で酸化シリコンに変換され、一方、同時にレジストが除去される。同じ酸化エッチングチャンバーが使用される。最後に、変換されたSiC、つまり酸化シリコンは、同じ酸化エッチングチャンバー内でTiSi2に向けて選択的に除去される。例えばチッカシリコンの替わりにSiCを用いた幾つかの利点は、元の位置での処理、シリカイドの損失が低減、さらに標準的な化学を使用できるのでよい接触抵抗と生産性、および改善されたバリア特性である。SiCはこの処理スキームにおいて、チッカ物に対する別の材料として使用できる。
32:シリコン含有層、
33:シリカイド層
36:開口
42:導電層
43:導電層
44:誘電体層
45:カーバイド・シリコン層
Claims (26)
- 基板に形成されたカーバイドシリコン層の少なくとも露出された部分を除去するための方法であり、
前記カーバイドシリコン層を酸素含有プラズマに曝すことにより、前記カーバイドシリコン層の前記少なくとも露出された部分を酸化シリコン層に変換し、そして
前記基板から前記酸化シリコン層を除去するステップからなる方法。 - 前記変換ステップおよび前記除去ステップは、前記カーバイド・シリコン層が実質上除去されるまで、続けて数回繰返される請求項1は際の方法。
- 前記カーバイド・シリコン層は、シリコンカーバイド、酸化シリコン、チッカシリコンカーバイド、チッカシリコン酸化カーバイド、水素化シリコンカーバイド、水素化シリコン酸化カーバイド、水素化チッカシリコンカーバイドおよび水素化チッカシリコン酸化カーバイドからなるグループの少なくとも一つを含む請求項1または2に記載の方法。
- 前記酸化シリコン層は、酸化シリコン、Cの割合がより少ない酸化シリコン、NおよびCの割合がより少ない酸化シリコン、Nの割合がより少ない酸化シリコン、Cの割合がより少ない水素化酸化シリコン、NおよびCの割合がより少ない水素化酸化シリコンおよびNの割合がより少ない水素化酸化シリコンからなるグループの少なくとも一つを含む請求項1〜3のいずれかに記載の方法。
- 前記酸素含有プラズマは、酸素含有反応性イオンエッチングプラズマである請求項1〜4のいずれかに記載の方法。
- 前記変換ステップは、−20℃から100℃の範囲内で実行される請求項5に記載の方法。
- 前記変換ステップは、室温で実行される請求項5に記載の方法。
- 前記酸素含有プラズマは、酸素含有化学蒸着プラズマである請求項1〜7のいずれかに記載の方法。
- 前記変換ステップは、350℃から500℃の範囲内で実行される請求項8に記載の方法。
- 前記酸素含有プラズマは、酸素含有プラズマの残光である請求項1〜9のいずれかに記載の方法。
- 前記変換ステップは、200℃から400℃の範囲内で実行される請求項10に記載の方法。
- 前記基板から酸化シリコン層を除去するステップは、基板への、乾式エッチングに基づくフッソ、湿潤エッチングに基づくHF、湿潤エッチングに基づくBHFおよび、湿潤エッチングに基づくHF/BHFからなるグループの一つを適用することにより実行される請求項1〜11のいずれかに記載の方法。
- 半導体層上の少なくとも一つの導電性層を有する表面を持つ基板上に集積回路を形成するための方法であり、
少なくとも前記導電性層上にカーバイド・シリコン層を形成し、
前記カーバイド・シリコン層上に少なくとも一つの誘電体層を配置し、
前記導電性層上に形成された前記カーバイド・シリコン層の一部を露出させるために、前記誘電体層内にこの誘電体を貫通する少なくとも一つの開口を形成し、
前記開口内の前記カーバイド・シリコン層の一部を酸素含有プラズマに曝すことにより、前記開口内の前記カーバイド・シリコン層の前記露出された一部を酸化シリコン層に変換し、
前記開口内の前記酸化シリコン層を除去するステップSを含む。 - 前記導電層はシリカイド層である請求項13に記載の方法。
- 前記シリカイド層は、シリコン、およびCo、Ti、Ta、Co、Mb、Ni、PtおよびWを含むグループの少なくとも一つからなる化合物である請求項13に記載の方法。
- 前記導電層は、ポリシリコン層およびアモルファスシリコン層からなるグループの一つである請求項13に記載の方法。
- 前記変換ステップおよび前記除去ステップは、前記導電層の少なくとも一部が露出されるまで、引き続き数回繰返される請求項13〜16のいずれかに記載の方法。
- 前記カーボン・シリコン層は、シリコンカーバイド、シリコン酸化カーバイド、チッカシリコンカーバイド、チッカシリコン酸化カーバイド、水素化シリコンカーバイド、水素化シリコン酸化カーバイド、水素化チッカシリコンカーバイドおよび水素化チッカシリコン酸化カーバイドからなるグループの少なくとも一つを含む請求項13〜17のいずれかに記載の方法。
- 前記酸化シリコン層は、シリコン酸化物、Cの割合がより少ないシリコン酸化物、NおよびCの割合がより少ないシリコン酸化物、Nの割合がより少ない酸化シリコン、水素化シリコン酸化物、Cの割合がより少ない水素化シリコン酸化物、NおよびCの割合がより少ない水素化シリコン酸化物、およびNの割合がより少ない水素化シリコン酸化物からなるグループの少なくとも一つを含む請求項13〜18のいずれかに記載の方法。
- 部分的に露出された少なくとも一つの導電性層を有する、基板上の集積回路であって、
半導体層上に配置された導電性層と、
前記導電層の少なくとも一部を露出させるために、貫通している少なくとも一つの開口を有する少なくとも一つの誘電体層と、
少なくとも前記導電性層上に形成され、かつ、前記誘電体層と前記導電層との間に、前記導電性層の露出された部分に接近して位置するカーバイド・シリコン層とを含む集積回路。 - 前記導電層はシリカイド層である請求項20に記載の集積回路。
- 前記シリカイドは、シリコンおよびCo、Ti、Ta、Co、Mb、Ni、PtおよびWからなるグループの少なくとも一つからなる化合物であるむ請求項21に記載の集積回路。
- 前記導電層は、ポリシリコン層およびアモルファスシリコン層からなるグループの一つである請求項20に記載の集積回路。
- 前記半導体層は、シリコン層、GaAs層、Ge層およびSiGe層からなるグループの一つである請求項20〜23のいずれかに記載の集積回路。
- 前記カーバイドシリコン層は、シリコンカーバイド、シリコン酸化カーバイド、チッカシリコンカーバイド、チッカシリコン酸化カーバイド、水素化シリコンカーバイド、水素化シリコン酸化カーバイド、水素化チッカシリコンカーバイドおよび水素化チッカシリコン酸化カーバイドからなるグループの少なくとも一つを含む請求項20〜24のいずれかに記載の集積回路。
- 前記酸化シリコン層は、酸化シリコン、Cの割合がより少ない酸化シリコン、NおよびCの割合がより少ない酸化シリコン、Nの割合がより少ない酸化シリコン、Cの割合がより少ない水素化酸化シリコン、NおよびCの割合がより少ない水素化酸化シリコンおよびNの割合がより少ない水素化酸化シリコンからなるグループの少なくとも一つを含む請求項20〜25のいずれかに記載の集積回路。
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