JP2012014124A - 光導波路の製法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】オーバークラッド層形成用の成形型20を、透光性樹脂20Aを形成材料とし、オーバークラッド層の形状と同一形状の突起部分41と、その突起部分41の周囲に形成された突条部分42とを有する型部材40を用いて型成形することにより作製する。この成形型20は、突起部分41の脱離跡が、オーバークラッド層形成用の凹部21に形成され、突条部分42の脱離跡が、溝部22に形成される。そして、オーバークラッド層を形成する際には、凹部21内に、オーバークラッド層形成用の感光性樹脂を充填し、その感光性樹脂内に、アンダークラッド層の表面に形成されたコアを浸し、凹部21から溢れた感光性樹脂を溝部22に溜めた状態で、成形型20を透して露光し硬化させる。
【選択図】図1
Description
(A)オーバークラッド層の形状と同一形状の突起部分と、その突起部分の周囲に形成された突条部分とを有する型部材を、成形型形成用の容器内に設置し、その容器内に透光性樹脂を充填し硬化させた後、上記容器から取り出し、上記型部材を脱離させて得られた、上記突起部分の脱離跡をオーバークラッド層形成用の凹部とし、上記突条部分の脱離跡を上記凹部から溢れたオーバークラッド層形成用の感光性樹脂を溜める溝部とする透光性樹脂製の成形型。
脂環骨格を有するエポキシ樹脂(アデカ社製、EP4080E)100重量部、光酸発生剤(サンアプロ社製、CPI−200K)2重量部、紫外線吸収剤(チバジャパン社製、TINUVIN479)5重量部を混合することにより、アンダークラッド層の形成材料を調製した。
フルオレン骨格を含むエポキシ樹脂(大阪ガスケミカル社製、オグソールEG)40重量部、フルオレン骨格を含むエポキシ樹脂(ナガセケムテックス社製、EX−1040)30重量部、1,3,3−トリス{4−〔2−(3−オキセタニル)〕ブトキシフェニル}ブタン30重量部、光酸発生剤(サンアプロ社製、CPI−200K)1重量部を、乳酸エチルに溶解することにより、コアの形成材料を調製した。
脂環骨格を有するエポキシ樹脂(アデカ社製、EP4080E)100重量部、光酸発生剤(サンアプロ社製、CPI−200K)2重量部を混合することにより、オーバークラッド層の形成材料を調製した。
まず、アルミニウム板を、刃物を回転させて切削することにより、オーバークラッド層の形状と同一形状の突起部分と、その突起部分の周囲に形成された突条部分とを有する型部材を、台部材の上面に突出させた状態で作製した。
まず、ステンレス製基台(厚み50μm)の表面に、上記アンダークラッド層の形成材料をアプリケーターにより塗布した。つづいて、1500mJ/cm2 の紫外線照射による露光を行った後、80℃×5分間の加熱処理を行うことにより、厚み20μmのアンダークラッド層(波長830nmにおける屈折率=1.510)を形成した。
上記実施例において、オーバークラッド層形成用の成形型として、凹部の周囲に溝部が形成されていないものを用いた。この成形型の作製は、上記実施例の成形型の作製において、型部材として、オーバークラッド層の形状と同一形状の突起部分の周囲に、突条部分が形成されていないものを用いた。それ以外は、上記実施例と同様にして、成形型を作製した。そして、上記成形型を用いて、上記実施例と同様にして、光導波路を得た。なお、この光導波路のオーバークラッド層には、ばりが形成されていたため、そのばりを切除した。
上記実施例および比較例の光導波路をそれぞれ2個ずつ作製し、一方の光導波路の他端部(レンズ部が形成されていない端部)に発光素子(オプトウェル社製、VCSEL)を光結合し、他方の光導波路の他端部に受光素子(TAOS社製、CMOSリニアセンサーアレイ)を光結合した。そして、それら2個の光導波路を、座標入力領域(対角サイズ76.2mm)を挟んで、レンズ部が対向するように配置した。この状態で、上記発光素子から強度5.0mWの光を出射し、上記受光素子での受光強度を測定した。
20A 透光性樹脂
21 凹部
22 溝部
40 型部材
41 突起部分
42 突条部分
Claims (3)
- アンダークラッド層の表面にコアをパターン形成した後、オーバークラッド層の形状に対応する型面を有する凹部が形成されている成形型を用い、上記コアを被覆した状態でオーバークラッド層を形成する工程を有する光導波路の製法であって、上記成形型として、下記(A)の成形型を用い、オーバークラッド層の形成を、上記成形型の凹部内に、オーバークラッド層形成用の感光性樹脂を充填し、その感光性樹脂内に、上記コアを浸すとともに、上記凹部から溢れた感光性樹脂を、上記成形型の溝部内に溜めた状態で、上記成形型を透して上記凹部内の感光性樹脂を露光し硬化させてオーバークラッド層に形成することにより行うことを特徴とする光導波路の製法。
(A)オーバークラッド層の形状と同一形状の突起部分と、その突起部分の周囲に形成された突条部分とを有する型部材を、成形型形成用の容器内に設置し、その容器内に透光性樹脂を充填し硬化させた後、上記容器から取り出し、上記型部材を脱離させて得られた、上記突起部分の脱離跡をオーバークラッド層形成用の凹部とし、上記突条部分の脱離跡を上記凹部から溢れたオーバークラッド層形成用の感光性樹脂を溜める溝部とする透光性樹脂製の成形型。 - 上記コアの先端部を被覆するオーバークラッド層部分に対応する、上記成形型の凹部の型面部分がレンズ曲面に形成されている請求項1記載の光導波路の製法。
- 上記成形型の形成材料である透光性樹脂が、シリコーン樹脂を含んでいる請求項1または2記載の光導波路の製法。
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Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5142760A (ja) * | 1974-08-21 | 1976-04-12 | Schiesser Ag | |
JPS60141512A (ja) * | 1983-12-28 | 1985-07-26 | Toyoda Gosei Co Ltd | 成形用金型 |
JPS61138903A (ja) * | 1984-12-12 | 1986-06-26 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 光導波路の製造方法 |
JP2004117585A (ja) * | 2002-09-24 | 2004-04-15 | Matsushita Electric Works Ltd | 光導波路の製造方法 |
JP2008281654A (ja) * | 2007-05-08 | 2008-11-20 | Nitto Denko Corp | 光導波路の製造方法 |
Family Cites Families (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05228946A (ja) | 1992-02-21 | 1993-09-07 | Kuraray Co Ltd | 光学部品の製造法および光学部品複製用母型 |
JP3498020B2 (ja) * | 1999-09-29 | 2004-02-16 | Nec液晶テクノロジー株式会社 | アクティブマトリックス基板及びその製造方法 |
JP2002120286A (ja) | 2000-08-11 | 2002-04-23 | Mitsubishi Chemicals Corp | 光透過性スタンパ及びその製造方法並びに光メモリ素子の製造方法及び光メモリ素子 |
JP2002321227A (ja) | 2001-04-25 | 2002-11-05 | Canon Inc | 光学素子成形用母型の製造方法、及び該母型を用いた光学素子の製造方法、該製造方法による光学素子 |
JP3729128B2 (ja) | 2001-12-20 | 2005-12-21 | 株式会社トッパンNecサーキットソリューションズ | 光導波路基板の検査方法及び実装光部品の検査方法 |
JP3986386B2 (ja) | 2002-07-17 | 2007-10-03 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 微細構造体の製造方法 |
JP4534415B2 (ja) | 2002-11-29 | 2010-09-01 | 富士ゼロックス株式会社 | 高分子光導波路の製造方法 |
JP4292892B2 (ja) | 2003-06-27 | 2009-07-08 | 富士ゼロックス株式会社 | 積層型高分子光導波路の製造方法及びこの方法により作製される積層型高分子光導波路 |
JP4360252B2 (ja) | 2004-03-31 | 2009-11-11 | Jsr株式会社 | 光導波路形成用感光性樹脂組成物、及びそれを用いて形成された光導波路 |
US7496266B2 (en) * | 2004-06-25 | 2009-02-24 | Omron Corporation | Film waveguide, method of manufacturing film waveguide, and electronic device |
JP2006126568A (ja) | 2004-10-29 | 2006-05-18 | Fuji Xerox Co Ltd | 高分子光導波路デバイスの製造方法 |
JP2007003651A (ja) | 2005-06-22 | 2007-01-11 | Nec Lcd Technologies Ltd | 液晶表示パネル及びその製造方法 |
JP2007027398A (ja) * | 2005-07-15 | 2007-02-01 | Fuji Xerox Co Ltd | 光学部品実装用サブマウント、及び光送受信モジュール |
JP2008020722A (ja) | 2006-07-13 | 2008-01-31 | Fuji Xerox Co Ltd | 光導波路及びその製造方法 |
KR101020307B1 (ko) | 2006-07-25 | 2011-03-08 | 히다치 가세고교 가부시끼가이샤 | 광도파로용 수지 조성물, 광도파로용 수지 필름 및 광도파로 |
JP5182097B2 (ja) | 2006-11-22 | 2013-04-10 | 株式会社ニコン | 光導波路モジュールの製造方法 |
JP4864761B2 (ja) | 2007-02-19 | 2012-02-01 | 日東電工株式会社 | タッチパネル用光導波路 |
JP5160941B2 (ja) | 2008-04-17 | 2013-03-13 | 日東電工株式会社 | 光導波路モジュールの製造方法 |
JP2009276724A (ja) | 2008-05-19 | 2009-11-26 | Nitto Denko Corp | 光導波路装置の製造方法 |
TWI464466B (zh) * | 2008-11-28 | 2014-12-11 | Hon Hai Prec Ind Co Ltd | 導光板之製作方法 |
JP5608125B2 (ja) | 2011-03-29 | 2014-10-15 | 日東電工株式会社 | 光電気混載基板およびその製法 |
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Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5142760A (ja) * | 1974-08-21 | 1976-04-12 | Schiesser Ag | |
JPS60141512A (ja) * | 1983-12-28 | 1985-07-26 | Toyoda Gosei Co Ltd | 成形用金型 |
JPS61138903A (ja) * | 1984-12-12 | 1986-06-26 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 光導波路の製造方法 |
JP2004117585A (ja) * | 2002-09-24 | 2004-04-15 | Matsushita Electric Works Ltd | 光導波路の製造方法 |
JP2008281654A (ja) * | 2007-05-08 | 2008-11-20 | Nitto Denko Corp | 光導波路の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
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TWI498618B (zh) | 2015-09-01 |
US20120003393A1 (en) | 2012-01-05 |
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