JP2012004365A - マイクロレンズの製造に用いられるマスク、および、それを用いたマイクロレンズの製造方法 - Google Patents
マイクロレンズの製造に用いられるマスク、および、それを用いたマイクロレンズの製造方法 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】本発明は、マイクロレンズの製造において、基板上の感光性のマイクロレンズ材料に、パターン化された光線を照射するためのマスクであって、メインレイアウト、および、該メインレイアウトの周囲に設けられたサブレイアウトを有し、該マスクに光線を照射したときに、前記メインレイアウトによってマイクロレンズの中央部に相当する位置に第1の光線パターンが得られ、前記サブレイアウトによって前記第1の光線パターンの周囲に前記第1の光線パターンとは分離された(解像された)第2の光線パターンが得られることを特徴とするマスクである。
【選択図】図2
Description
メインレイアウト、および、該メインレイアウトの周囲に設けられたサブレイアウトを有し、
該マスクに光線を照射したときに、前記メインレイアウトによってマイクロレンズの中央部に相当する位置に第1の光線パターンが得られ、前記サブレイアウトによって前記第1の光線パターンの周囲に前記第1の光線パターンとは分離された(解像された)第2の光線パターンが得られることを特徴とするマスクである。
前記第1の光線パターンおよび前記第2の光線パターンは、光線の照射されない領域(非照射領域)からなることが好ましい。
前記第1の光線パターンおよび前記第2の光線パターンは、光線の照射される領域(照射領域)からなるようにしてもよい。
感光性のマイクロレンズ材料を基板上に塗布する工程、
前記マイクロレンズ材料に前記パターン化された光線を照射する工程、
前記マイクロレンズ材料を現像する工程、
前記マイクロレンズ材料の全面に光線を照射する工程、および、
前記マイクロレンズ材料を加熱する工程をこの順で含むことが好ましい。
マイクロレンズ材料を基板上に塗布する工程、
前記マイクロレンズ材料の上に感光性のフォトレジスト材料を塗布する工程、
前記フォトレジスト材料に前記パターン化された光線を照射する工程、
前記フォトレジスト材料を現像する工程、
前記フォトレジスト材料の全面に光線を照射する工程、
前記フォトレジスト材料を加熱する工程、および、
エッチングにより、前記フォトレジスト材料から得られたフォトレジストの形状を前記マイクロレンズ材料に転写する工程をこの順で含むことが好ましい。
本発明の一実施形態を図1、図2を用いて説明する。図1は、本実施形態のプロセスフローを説明するための断面模式図であり、図2は、実施形態1で用いられるマスクの一例を示す模式図である。
本実施形態で用いられるマスクとしては、図2に示されるマスク以外にも、図3、図4に示されるようなレイアウトを有するマスクを用いることができる。
実施形態1では、感光性マイクロレンズ材料を直接パターニングする例について述べたが、本実施形態では、マイクロレンズ材料の塗膜の上に所望のマイクロレンズと同じ形状のフォトレジストを形成された後に、該フォトレジストをマスクに用いたエッチングによりマイクロレンズが製造される。
以下、上述の実施形態1および2などの本発明の製造方法によって得られたマイクロレンズを備えた撮像素子の一実施形態について、図7を用いて説明する。
本実施例では、図2と同様の図8に示されるマスクを用いて、実施形態1の製造方法に従ってマイクロレンズを製造した。
比較例1では、図12に示される従来のマスクを用いた以外は、実施例1と同様にして、マイクロレンズを製造した。なお、図12に示す遮光領域31(黒パターン)の形状が4.9μm×4.9μmの正方形であり、遮光領域31のピッチが5.5μm(遮光領域31の間隔が0.6μm)であるマスクを使用した。
Claims (6)
- マイクロレンズの製造において、基板上の感光性のマイクロレンズ材料に、パターン化された光線を照射するためのマスクであって、
メインレイアウト、および、該メインレイアウトの周囲に設けられたサブレイアウトを有し、
該マスクに光線を照射したときに、前記メインレイアウトによってマイクロレンズの中央部に相当する位置に第1の光線パターンが得られ、前記サブレイアウトによって前記第1の光線パターンの周囲に前記第1の光線パターンとは分離された第2の光線パターンが得られることを特徴とするマスク。 - 前記メインレイアウトおよび前記サブレイアウトが、遮光領域からなり、
前記第1の光線パターンおよび前記第2の光線パターンが、光線の照射されない領域からなる、請求項1に記載のマスク。 - 請求項1または2に記載のマスクを用いて、基板上の感光性のマイクロレンズ材料に、パターン化された光線を照射する工程を含む、マイクロレンズの製造方法。
- 感光性のマイクロレンズ材料を基板上に塗布する工程、
前記マイクロレンズ材料に前記パターン化された光線を照射する工程、
前記マイクロレンズ材料を現像する工程、
前記マイクロレンズ材料の全面に光線を照射する工程、および、
前記マイクロレンズ材料を加熱する工程をこの順で含む、
請求項3に記載のマイクロレンズの製造方法。 - マイクロレンズ材料を基板上に塗布する工程、
前記マイクロレンズ材料の上に感光性のフォトレジスト材料を塗布する工程、
前記フォトレジスト材料に前記パターン化された光線を照射する工程、
前記フォトレジスト材料を現像する工程、
前記フォトレジスト材料の全面に光線を照射する工程、
前記フォトレジスト材料を加熱する工程、および、
エッチングにより、前記フォトレジスト材料から得られたフォトレジストの形状を前記マイクロレンズ材料に転写する工程をこの順で含む、
請求項3に記載のマイクロレンズの製造方法。 - 請求項3〜5のいずれか一つに記載のマイクロレンズの製造方法により製造されたマイクロレンズを備えた撮像素子。
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