JP2011522691A - マイクロ波プラズマの冷却方法およびそれを用いる化学分子の選択的破壊のためのプラズマ処理システム - Google Patents

マイクロ波プラズマの冷却方法およびそれを用いる化学分子の選択的破壊のためのプラズマ処理システム Download PDF

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モワサン、ミシェル
モワーヌ、パスカル
ドゥペール、ブルーノ
ローラン、バレル
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Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101720987B1 (ko) 2015-04-28 2017-04-10 주식회사 글로벌스탠다드테크놀로지 난분해성 유해가스의 처리장치 및 방법
EP3309815B1 (de) * 2016-10-12 2019-03-20 Meyer Burger (Germany) AG Plasmabehandlungsvorrichtung mit zwei, miteinander gekoppelten mikrowellenplasmaquellen sowie verfahren zum betreiben einer solchen plasmabehandlungsvorrichtung
GB201811003D0 (en) 2018-07-04 2018-08-15 Bp Plc Multiple cooling circuit systems and methods for using them

Citations (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5872835A (ja) * 1981-10-22 1983-04-30 エスケ−エフ・スチ−ル・エンジニアリング・アクテイエボラ−グ 工業用プロセス空気の加熱方法および装置
JPS61501931A (ja) * 1984-04-20 1986-09-04 エレクトロマグネチック・エナジ−・コ−ポレ−ション 電磁エネルギ−加熱に関する装置とその方法
JPH01176700A (ja) * 1987-12-29 1989-07-13 Nippon Koshuha Kk 熱プラズマ発生装置
JPH03214600A (ja) * 1990-01-17 1991-09-19 Nippon Koshuha Kk マイクロ波熱プラズマ反応装置
JPH0562793A (ja) * 1991-08-30 1993-03-12 Hitachi Ltd プラズマヒータ
JPH0780287A (ja) * 1993-09-13 1995-03-28 Agency Of Ind Science & Technol 高周波誘導熱プラズマ発生方法および有機ハロゲン化合物の分解方法
JPH10165753A (ja) * 1996-07-26 1998-06-23 L'air Liquide 過フッ素化ガスおよびハイドロフルオロカーボンの処理方法および装置
JPH1157460A (ja) * 1997-04-25 1999-03-02 L'air Liquide 表面波プラズマによりガスを励起するためのデバイス、およびそのデバイスを組み込んだガス処理装置
JP2000119671A (ja) * 1998-10-20 2000-04-25 Matsushita Refrig Co Ltd 冷凍システム
JP2000189745A (ja) * 1998-12-22 2000-07-11 L'air Liquide ガスを励起するためのパイプセクション並びに装置、及びガスの純化のための方法
JP2000286094A (ja) * 1999-03-30 2000-10-13 Matsushita Electric Works Ltd プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法
JP2001025658A (ja) * 1999-07-15 2001-01-30 Mitsubishi Heavy Ind Ltd プラズマ着火方法及び有機ハロゲン化合物の分解方法
JP2001049470A (ja) * 1999-08-17 2001-02-20 Matsushita Electric Works Ltd プラズマ処理システム及びプラズマ処理方法
JP2001504753A (ja) * 1996-11-04 2001-04-10 マテリアルズ モディフィケーション,インコーポレイティド 超微粉のマイクロ波プラズマ化学合成
JP2004313998A (ja) * 2003-04-18 2004-11-11 Ebara Corp ハロゲン化物の分解装置
JP2005238206A (ja) * 2004-02-27 2005-09-08 Mitsubishi Heavy Ind Ltd 有機ハロゲン化合物放電分解装置およびその方法
WO2006008421A2 (fr) * 2004-07-13 2006-01-26 L'air Liquide, Societe Anonyme A Directoire Et Conseil De Surveillance Pour L'etude Et L'exploitation Des Procedes Georges Claude Traitement d'effluents gazeux par plasma a pression atmospherique
JP2006102717A (ja) * 2004-10-08 2006-04-20 Taiyo Nippon Sanso Corp 有害成分含有ガスの処理方法および処理装置

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4828703A (en) * 1983-12-28 1989-05-09 Union Carbide Corporation Method for replacing PCB-containing coolants in electrical induction apparatus with substantially PCB-free dielectric coolants
US5159527A (en) * 1991-12-05 1992-10-27 Minnesota Mining And Manufacturing Company Dielectric liquids
CN1679136A (zh) * 2002-08-30 2005-10-05 艾克塞利斯技术公司 微波等离子体发生器的气体管端盖

Patent Citations (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5872835A (ja) * 1981-10-22 1983-04-30 エスケ−エフ・スチ−ル・エンジニアリング・アクテイエボラ−グ 工業用プロセス空気の加熱方法および装置
JPS61501931A (ja) * 1984-04-20 1986-09-04 エレクトロマグネチック・エナジ−・コ−ポレ−ション 電磁エネルギ−加熱に関する装置とその方法
JPH01176700A (ja) * 1987-12-29 1989-07-13 Nippon Koshuha Kk 熱プラズマ発生装置
JPH03214600A (ja) * 1990-01-17 1991-09-19 Nippon Koshuha Kk マイクロ波熱プラズマ反応装置
JPH0562793A (ja) * 1991-08-30 1993-03-12 Hitachi Ltd プラズマヒータ
JPH0780287A (ja) * 1993-09-13 1995-03-28 Agency Of Ind Science & Technol 高周波誘導熱プラズマ発生方法および有機ハロゲン化合物の分解方法
JPH10165753A (ja) * 1996-07-26 1998-06-23 L'air Liquide 過フッ素化ガスおよびハイドロフルオロカーボンの処理方法および装置
JP2001504753A (ja) * 1996-11-04 2001-04-10 マテリアルズ モディフィケーション,インコーポレイティド 超微粉のマイクロ波プラズマ化学合成
JPH1157460A (ja) * 1997-04-25 1999-03-02 L'air Liquide 表面波プラズマによりガスを励起するためのデバイス、およびそのデバイスを組み込んだガス処理装置
JP2000119671A (ja) * 1998-10-20 2000-04-25 Matsushita Refrig Co Ltd 冷凍システム
JP2000189745A (ja) * 1998-12-22 2000-07-11 L'air Liquide ガスを励起するためのパイプセクション並びに装置、及びガスの純化のための方法
JP2000286094A (ja) * 1999-03-30 2000-10-13 Matsushita Electric Works Ltd プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法
JP2001025658A (ja) * 1999-07-15 2001-01-30 Mitsubishi Heavy Ind Ltd プラズマ着火方法及び有機ハロゲン化合物の分解方法
JP2001049470A (ja) * 1999-08-17 2001-02-20 Matsushita Electric Works Ltd プラズマ処理システム及びプラズマ処理方法
JP2004313998A (ja) * 2003-04-18 2004-11-11 Ebara Corp ハロゲン化物の分解装置
JP2005238206A (ja) * 2004-02-27 2005-09-08 Mitsubishi Heavy Ind Ltd 有機ハロゲン化合物放電分解装置およびその方法
WO2006008421A2 (fr) * 2004-07-13 2006-01-26 L'air Liquide, Societe Anonyme A Directoire Et Conseil De Surveillance Pour L'etude Et L'exploitation Des Procedes Georges Claude Traitement d'effluents gazeux par plasma a pression atmospherique
JP2006102717A (ja) * 2004-10-08 2006-04-20 Taiyo Nippon Sanso Corp 有害成分含有ガスの処理方法および処理装置

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