JP2011513282A - 2−アルコキシメチレン−4,4−ジフルオロ−3−オキソ酪酸アルキルの製造方法 - Google Patents

2−アルコキシメチレン−4,4−ジフルオロ−3−オキソ酪酸アルキルの製造方法 Download PDF

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Abstract

2-アルコキシメチレン-4,4-ジフルオロ-3-オキソ酪酸アルキル(VI)
【化1】
Figure 2011513282

[式中、Rはメチルまたはエチルである]
を4,4-ジフルオロアセト酢酸アルキル(I)
【化2】
Figure 2011513282

の粗な反応混合物から製造する方法であって、
a) 追加の溶媒なしに、酢酸アルキル(II)
【化3】
Figure 2011513282

ROMアルコキシド(III)
[式中、Mはナトリウムまたはカリウムイオンである]
及び
ジフルオロ酢酸アルキル(IV)
【化4】
Figure 2011513282

を反応させてエノラート(V)
【化5】
Figure 2011513282

を形成し、
b)エノラート(V)から酸を用いて対応する4,4-ジフルオロアセト酢酸アルキル(I)を遊離させ、
c)カチオンM及び酸アニオンから形成された塩を固体として除去し、
d)(I)を、粗な反応混合物から単離することなく、2-アルコキシメチレン-4,4-ジフルオロ-3-オキソ酪酸アルキル(VI)に変換することを含む前記方法、並びに1-メチル-3-ジフルオロメチルピラゾール-3-イルカルボキシレート(VII)
【化6】
Figure 2011513282

を製造するための(VI)の使用。
【選択図】 なし

Description

本発明は、式(VI)
Figure 2011513282
(式中、Rはメチルまたはエチルである)
を有する2-アルコキシメチレン-4,4-ジフルオロ-3-オキソ酪酸アルキルを式(I)
Figure 2011513282
を有する4,4-ジフルオロアセト酢酸アルキルの粗な反応混合物から製造する方法に関する。
RがエチルであるIの製造に関して、非特許文献1は、ナトリウムエトキシドを乾燥エーテル中に含む懸濁液をまずジフルオロ酢酸エチルと反応させ、次いで酢酸エチルと反応させ、形成したエノラートから10% 水性硫酸を用いて4,4-ジフルオロアセト酢酸エチルを遊離させることを開示している。この方法の場合、報告されている収率は最良の場合でも65%である。
しかしながら、(蒸留による精製中に生成物の一部が失われるために)4,4-ジフルオロアセト酢酸アルキル(I)の製造収率が満足できるものではなく、5日という反応時間も許容できないほど長いので、この方法は2-アルコキシメチレン-4,4-ジフルオロ-3-オキソ酪酸アルキル(VI)を工業規模で製造するためには余り適していない。更に、溶媒として使用するエーテルは沸点が非常に低いために蒸発ロスを防ぐための複雑な手段が必要となるため、エーテルを取り扱うことは不利である。更に、この溶媒はペルオキシドを形成する傾向にあり、このために特殊な安全手段を講じなければならない。
文献に記載されている4,4-ジフルオロアセト酢酸アルキルを製造するための他の方法には、高価な及び/または工業的に使用するのが困難な塩基(例えば、水素化ナトリウムまたはリチウムジイソプロピルアミド)を使用する(非特許文献2及び非特許文献3を参照されたい)、または反応を、取り扱う追加の溶媒中で実施する(特許文献1)という欠点がある。
2-エトキシメチレン-4,4-ジフルオロ-3-オキソ酪酸エチルの製造方法は特許文献2に開示されている。しかしながら、前駆体化合物の4,4-ジフルオロアセト酢酸エチルを別の方法に従って入手し、更に変換する前に蒸留により精製している。しかしながら、こうした高い温度は2-エトキシメチレン-4,4-ジフルオロ-3-オキソ酪酸エチルの収率に悪影響を及ぼす。
国際公開第2007/115766号,実施例H1 国際公開第2005/123690号(p.21,第2パラグラフ)
Y.Desirant,Bulletin de la Societe Chim.Belg.,39(1930) McBeeら,J.Am.Chem.Soc.,75,3152-3153(1952) S.Jagodzinskaら,Tetrahedron,63,2042-2046(2007)
従って、本発明の目的は、2-アルコキシメチレン-4,4-ジフルオロ-3-オキソ酪酸アルキル(VI)を製造するための工業的に簡単な方法を提供することである。
従って、
a)最初に以下の成分(II)、(III)及び(IV)
Figure 2011513282
酢酸アルキル(II)、
ROM アルコキシド(III)
(式中、Mはリチウム、ナトリウムまたはカリウムイオンである)
及び
Figure 2011513282
ジフルオロ酢酸アルキル(IV)
のうちの2つを充填し、この混合物を追加の溶媒なしで第3成分と反応させて、式(V)
Figure 2011513282
を有するエノラートを形成し、
b)エノラート(V)から酸を用いて式(I)
Figure 2011513282
を有する対応する4,4-ジフルオロアセト酢酸アルキルを遊離させ、
c)カチオンM及び酸アニオンから形成された塩を固体として除去し、
d)(I)を、粗な反応混合物から単離することなく、式(VI)を有する2-アルコキシメチレン-4,4-ジフルオロ-3-オキソ酪酸アルキルに変換させる
ことにより2-アルコキシメチレン-4,4-ジフルオロ-3-オキソ酪酸アルキル(VI)が高収率で得られることが知見された。
出発化合物(II)、(III)及び(IV)は市販されており、またはそれ自体公知の方法で製造され得る。
酢酸アルキル(II)及びジフルオロ酢酸アルキル(IV)を最初に充填し、アルコキシド(III)を計量添加することが好ましい。
酢酸アルキル(II)の量は、アルコキシド(III)及びジフルオロ酢酸アルキル(IV)との反応混合物が容易に攪拌できる懸濁液を生ずるかまたは均質になる量である。有利には、酢酸アルキル(II)対アルコキシド(III)のモル比は0.8:1〜10:1、特に2:1〜4:1、最も好ましくは2.3:1〜3:1である。
ジフルオロ酢酸アルキル(IV)対酢酸アルキル(II)のモル比は好ましくは1:0.8〜1:20、特に1:2〜1:3である。
(II)、(III)及び(IV)の計量添加は、典型的には0.1〜20時間、特に0.5〜5時間、より好ましくは0.5〜3時間かけて実施する。
反応工程a)の反応温度は通常-20℃〜反応混合物の沸点、特に0〜70℃である。
反応は標準圧力下または僅かに高いもしくは低い圧力下で実施し得る。典型的には、標準圧力を使用する。
4,4-ジフルオロアセト酢酸アルキル(I)は、酸、例えば塩化水素、臭化水素、ヨウ化水素、硫酸、ギ酸、酢酸、シュウ酸、クエン酸、メタンスルホン酸またはp-トルエンスルホン酸、好ましくは塩化水素、特に塩化水素ガスの存在下で、エノラート(V)から遊離させる。
本発明によれば、4,4-ジフルオロアセト酢酸アルキル(I)のエノラート(V)からの遊離は無水酸または水分含有量の少ない酸を用いて行う。
少ない水分含有量は、使用するジフルオロ酢酸アルキル(IV)1モル当たり約0.5〜5gの水を意味すると理解される。
この方法では、(I)を例えば濾過方法を用いて更に処理する前に、中和の間にカチオンM及び酸アニオンから形成された無機塩を除去することが有利であり得る。塩の濾過に関して、少量の水の存在下(例えば、HClガスを導入したり、濃硫酸のような少量の水しか含んでいない酸を用いるとき)が特に有利である。こうすると、通常濾過時間が大きく短縮される。このことは工業的規模での製造のためには非常に有利であり得る。しかしながら、水は(I)の(VI)への変換の際に厄介であったり、供給原料(オルトエステル及び無水物)をより多く消費するので、その後に水相を除去することを意図していない限り、大量の水は避けるべきである。
酸それ自体の量は特に重要でない。通常、使用するアルコキシド(III)1モル当たり0.7〜5モルの酸、好ましくは0.8〜2モルの酸、より好ましくは0.9〜1.3モルの酸を使用する。
酸を用いる(V)から(I)の遊離(工程b))は、通常-10〜50℃、特に5〜30℃及び標準圧力または最高約3バールの僅かに高い圧力下で実施する。
本発明の方法によれば、無機塩を除去した後、精製することなく酢酸アルキル(II)中の4,4-ジフルオロアセト酢酸アルキル(I)を直接オルトエステル(HC(OR)3)及び無水酢酸と反応させて、2-アルコキシメチレン-4,4-ジフルオロ-3-オキソ酪酸アルキル(VI)
Figure 2011513282
を得る。
(I)の2-アルコキシメチレン-4,4-ジフルオロ-3-オキソ酪酸アルキル(VI)への変換は、通常25〜150℃及び標準圧力または最高約3バールの僅かに高い圧力下で、特に90〜115℃及び標準圧力下で実施する。
オルトエステル対4,4-ジフルオロアセト酢酸アルキル(I)のモル比は好ましくは1:1〜3:1、特に1.5:1〜1.9:1である。
完全変換のために必要な無水酢酸の量を計算する場合、アルコキシド(III)から形成されるアルコールも考慮しなければならない。典型的には、無水酢酸の量は4,4-ジフルオロアセト酢酸アルキル(I)1モル当たり2〜8モルである。
生成物(VI)は、1-メチル-3-ジフルオロメチルピラゾール-4-イルカルボキシレート(VII)
Figure 2011513282
を製造するための有用な中間体であり、これは例えば(VI)をメチルヒドラジンを用いて環化することにより得られ得る(米国特許第5,093,347号の実施例1を参照されたい)。また、1-メチル-3-ジフルオロメチルピラゾール-4-イルカルボキシレートは殺真菌活性なピラゾール-4-イルカルボキサミドを製造するための重要な出発物質である。
a)4,4-ジフルオロアセト酢酸エチル(少量の水の存在下での塩化水素ガスを用いたエノラートからの遊離)
最初に酢酸エチル(733.1g,8.32モル)及びジフルオロ酢酸エチル(99.9%)(397.6g,3.2モル)を25℃で充填し、ナトリウムエトキシド(98%)(238.7g,3.437モル)を攪拌しながら25〜65℃で1.3時間かけて計量添加した。その後、反応混合物を65℃で更に2時間攪拌し、次いで25℃まで冷却した。
生じた溶液に水(8g,0.444モル)を添加した。次いで、25〜31℃でHClガス(160.5g,4.40モル)を2時間以内に導入すると、懸濁液が形成された(塩化ナトリウムが沈殿)。その後、少量(133.2g)の低沸点物(133.2g;エタノール、酢酸エチル;過剰のHCl)を蒸留により除去した(内部温度:25〜34℃;圧力:150ミリバール)。沈殿した塩化ナトリウムを濾別し、酢酸エチル(360g)で4回洗浄した。生じた濾液(2171g)は22.6重量%の有用な所望生成物を含んでいた(GC分析、内部標準を用いて定量化)。使用したジフルオロ酢酸エチルに基づいた収率は92.4%であった。
b)4,4-ジフルオロアセト酢酸エチルの2-エトキシメチレン-4,4-ジフルオロ-3-オキソ酪酸エチルへの変換
最初に無水酢酸(2274.9g,22.08モル)を攪拌容器に充填し、110℃に加熱した。2時間以内に、合成例1a)からの4,4-ジフルオロアセト酢酸エチル溶液(エタノール/酢酸エチル中22.6%溶液)(2171g)及びオルトギ酸トリエチル(98%)(822.7g,5.44モル)を平行して計量添加した。約半分を供給した後、還流を始めた。計量添加が終了したとき、内部温度は95℃であった。混合物を還流温度で更に7時間攪拌した後、25℃まで冷却した。150ミリバールの圧力下で、低沸点物(酢酸エチル、酢酸、無水酢酸、オルトギ酸トリエチル)を40〜90℃の内部温度で留去させた。完全に除去するために、圧力を90℃で5ミリバールに下げ、次いで蒸留残液を95℃/5ミリバールで0.5時間攪拌した。得られた蒸留残渣(658.8g)は95.5重量%の所望の2-エトキシメチレン-4,4-ジフルオロ-3-オキソ酪酸エチルを含んでいた。これは、実施例1a)で使用したジフルオロ酢酸エチルに基づいて88.5%の2つの合成工程を通した全収率に相当する。
4,4-ジフルオロアセト酢酸エチル(塩化水素ガスを用いたエノラートからの遊離)
最初に酢酸エチル(141.2g,1.6モル)を25℃で充填し、ナトリウムエトキシド(98%)(45.9g,0.66モル)を攪拌しながら添加した。懸濁液を5℃まで冷却した後、ジフルオロ酢酸エチル(97%)(76.7g,0.6モル)を5〜13℃の内部温度で2.83時間以内に計量添加した。その後、反応混合物を65℃に加熱し、この温度で更に2時間攪拌した後、20℃まで冷却した(264.3gの溶液)。
HClガス(26.5g,0.726モル)を21〜31℃で30分以内に導入したところ、懸濁液が形成された(塩化ナトリウムが沈殿)。懸濁液に酢酸エチル(51.2g)を添加した後、21.2gの低沸点物を31℃の内部温度及び150ミリバールの圧力で留去させた(過剰の塩化水素を除去)。キーゼルグール(濾過助剤)(5g)を添加した後、沈殿した塩化ナトリウムを濾別し、固体を酢酸エチルで洗浄した。生じた濾液(438g)は20.9重量%の有用な所望生成物を含んでいた(GC分析、内部標準を用いて定量化)。(使用したジフルオロ酢酸エチルに基づいた)収率は91.9%であった。
2-エトキシメチレン-4,4-ジフルオロ-3-オキソ酪酸エチル
最初に無水酢酸(427.8g,4.15モル)を攪拌容器に充填し、110℃に加熱した。2時間以内に、合成例2からの粗な4,4-ジフルオロアセト酢酸エチル(エタノール/酢酸エチル中20.9%溶液)(438g)及びオルトギ酸トリエチル(145.3g,0.96モル)を平行して計量添加した。約半分を供給した後、還流を106℃で始めた。計量添加が終了したとき、内部温度は94℃であった。混合物を還流温度で更に6時間攪拌した後、25℃まで冷却した。150ミリバールの圧力下で、低沸点物(酢酸エチル、酢酸、無水酢酸、オルトギ酸トリエチル)を40〜90℃の内部温度で留去させた。完全に除去するために、圧力を90℃で10ミリバールに下げ、次いで蒸留残液を95℃/10ミリバールで1時間攪拌した。蒸留残渣(125.7g)は89.7重量%の所望の2-エトキシメチレン-4,4-ジフルオロ-3-オキソ酪酸エチルを含んでいた。これは、実施例2で使用したジフルオロ酢酸エチルに基づいて84.6%の2つの合成工程を通した全収率に相当する。
4,4-ジフルオロアセト酢酸エチル(メタンスルホン酸を用いたエノラートからの遊離)
最初に酢酸エチル(47.06g,0.533モル)を25℃で充填し、ナトリウムエトキシド(98%)(15.3g,0.22モル)を攪拌しながら添加した。懸濁液を5℃まで冷却した後、ジフルオロ酢酸エチル(97%)(25.6g,0.2モル)を5〜13℃の内部温度で2.83時間以内に計量添加した。その後、反応混合物を65℃に加熱し、この温度で更に2時間攪拌し、次いで20℃まで冷却した(88.1gの溶液)。
メタンスルホン酸(21.2g,0.22モル)を20〜30℃で40分以内に一滴ずつ添加すると、粘稠な懸濁液が形成された(メチルスルホン酸ナトリウムが沈殿)。懸濁液を希釈するために、酢酸エチル(60ml)を添加した。固体を濾別し、酢酸エチルで2回洗浄した。濾液(209.2g)は13.9重量%の有用な所望生成物を含んでいた(GC分析:内部標準を用いて定量化)。(使用したジフルオロ酢酸エチルに基づいた)収率は87.6%であった。
4,4-ジフルオロアセト酢酸エチル(硫酸(98%)を用いたエノラートからの遊離)
最初に酢酸エチル(45.9g,0.53モル)を25℃で充填し、ナトリウムエトキシド(98%)(14.96g,0.22モル)を攪拌しながら添加した。懸濁液を5℃まで冷却した後、ジフルオロ酢酸エチル(99.88%)(24.9g,0.2モル)を10〜25℃の内部温度で2.0時間以内に計量添加した。その後、反応混合物を65℃に加熱し、この温度で更に2時間攪拌し、次いで20℃まで冷却した。
溶液(85.6g)に硫酸(98%,2%の水を含む)(20.4g,0.2モル)を20〜25℃で20分以内に計量添加すると、粘稠な懸濁液が形成された(硫酸水素ナトリウムが沈殿)。沈殿した塩を濾別し、固体を酢酸エチルで洗浄した。濾液(166.1g)は19.1重量%の有用な所望生成物を含んでいた(GC分析、内部標準を用いて定量化)。(使用したジフルオロ酢酸エチルに基づいた)収率は95.6%であった。
4,4-ジフルオロアセト酢酸エチル(ギ酸を用いたエノラートからの遊離)
最初に酢酸エチル(47.06g,0.533モル)を25℃で充填し、ナトリウムエトキシド(98%)(15.3g,0.22モル)を攪拌しながら添加した。懸濁液を5℃まで冷却した後、ジフルオロ酢酸エチル(97%)(25.6g,0.2モル)を5〜13℃の内部温度で2.83時間以内に計量添加した。その後、反応混合物を65℃に加熱し、この温度で更に2時間攪拌し、次いで20℃まで冷却した(88.1gの溶液)。
ギ酸(10.3g,0.22モル)を20℃で40分以内に一滴ずつ添加すると、懸濁液が形成された(ギ酸ナトリウムが沈殿)。混合物を25℃で更に1時間攪拌した。沈殿した固体を濾別し、酢酸エチルで洗浄した。生じた濾液(160.6g)は18重量%の有用な所望生成物を含んでいた(GC分析、内部標準を用いて定量化)。(使用したジフルオロ酢酸エチルに基づいた)収率は87.1%であった。
4,4-ジフルオロアセト酢酸エチル(少量の水の存在下での塩化水素ガスを用いたエノラートからの遊離)
最初に酢酸エチル(137.8g,1.56モル)を25℃で充填し、ナトリウムエトキシド(98%)(44.9g,0.65モル)を攪拌しながら添加した。懸濁液を5℃まで冷却した後、ジフルオロ酢酸エチル(99.88%)(74.8g,0.6モル)を10〜25℃の内部温度で2.0時間以内に計量添加した。その後、反応混合物を65℃に加熱し、この温度で更に2時間攪拌し、次いで20℃まで冷却した(256.8gの溶液)。
溶液(256.8g)に水(0.3g)を添加した後、HClガス(27.7g,0.759モル)を21〜31℃で30分以内に導入すると、懸濁液が形成された(塩化ナトリウムが沈殿)。懸濁液に酢酸エチル(22.1g)を添加し、次いで14.2gの低沸点物を33℃の内部温度及び150ミリバールの圧力で留去させた(過剰のHClを除去)。沈殿した塩化ナトリウムを濾別し、固体を酢酸エチルで洗浄した。生じた濾液(356.3g)は26.6重量%の有用な所望生成物を含んでいた(GC分析、内部標準を用いて定量化)。(使用したジフルオロ酢酸エチルに基づいた)収率は94.6%であった。
2-エトキシメチレン-4,4-ジフルオロ-3-オキソ酪酸エチル
最初に無水酢酸(365.2g,3.54モル)を攪拌容器に充填し、110℃に加熱した。2時間以内に、合成例7からの粗な4,4-ジフルオロアセト酢酸エチル(エタノール/酢酸エチル中26.5%の4,4-ジフルオロアセト酢酸エチル溶液)(356.3g)及びオルトギ酸トリエチル(154.4g,1.02モル)を平行して計量添加した。約半分を供給した後、還流を106℃で始めた。計量添加が終了したとき、内部温度は92℃であった。混合物を還流温度で更に5時間攪拌した後、25℃まで冷却した。150ミリバールの圧力で、低沸点物(酢酸エチル、酢酸、無水酢酸、オルトギ酸トリエチル)を40〜90℃の内部温度で留去させた。完全に除去するために、圧力を90℃で5ミリバールに下げた後、蒸留残液を95℃/5ミリバールで1時間攪拌した。生じた蒸留残渣(127.5g)は90.7重量%の所望の2-エトキシメチレン-4,4-ジフルオロ-3-オキソ酪酸エチルを含んでいた。これは、(実施例7で使用したジフルオロ酢酸エチルに基づいて)86.6%の2つの合成工程を通した全収率に相当する。

Claims (10)

  1. 式(VI)
    Figure 2011513282
    [式中、Rはメチルまたはエチルである]
    を有する2-アルコキシメチレン-4,4-ジフルオロ-3-オキソ酪酸アルキルを4,4-ジフルオロアセト酢酸アルキル(I)
    Figure 2011513282
    の粗な反応混合物から製造する方法であって、
    a)最初に以下の成分(II)、(III)及び(IV)
    Figure 2011513282
    酢酸アルキル(II)、
    ROM アルコキシド(III)
    [式中、Mはリチウム、ナトリウムまたはカリウムイオンである]
    及び
    Figure 2011513282
    ジフルオロ酢酸アルキル(IV)
    のうちの2つを充填し、この混合物を第3成分と反応させて、式(V)
    Figure 2011513282
    を有するエノラートを形成する工程、
    b)エノラート(V)から酸を用いて式(I)を有する対応する4,4-ジフルオロアセト酢酸アルキルを遊離させる工程、
    c)カチオンM及び酸アニオンから形成された塩を固体として除去する工程、及び
    d)(I)を、粗な反応混合物から単離することなく、式(VI)を有する2-アルコキシメチレン-4,4-ジフルオロ-3-オキソ酪酸アルキルに変換する工程、
    を含む前記方法。
  2. 工程a)を最初に酢酸アルキル(II)及びジフルオロ酢酸アルキル(IV)を充填し、アルコキシド(III)を計量添加することにより実施する、請求項1に記載の方法。
  3. (I)を水の非存在下または少量の水の存在下で(V)から遊離させる、請求項1に記載の方法。
  4. 工程b)において(V)から(I)を遊離させるために使用される酸が塩化水素、臭化水素、ヨウ化水素、硫酸、ギ酸、酢酸、シュウ酸、クエン酸、メタンスルホン酸またはp-トルエンスルホン酸である、請求項1に記載の方法。
  5. 工程b)における(V)から(I)の遊離を少量の水の存在下で実施する、請求項1〜4のいずれか1項に記載の方法。
  6. 酢酸アルキル(II)のアルコキシド(III)に対するモル比が0.8:1〜10:1である、請求項1〜4のいずれか1項に記載の方法。
  7. ジフルオロ酢酸アルキル(IV)の酢酸アルキル(II)に対するモル比が1:0.8〜1:20である、請求項1〜4のいずれか1項に記載の方法。
  8. アルコキシド(III)の酸に対するモル比が1:0.7〜1:5である、請求項1〜4のいずれか1項に記載の方法。
  9. (II)、(III)及び(IV)の反応の反応温度が-20℃〜70℃である、請求項1〜4のいずれか1項に記載の方法。
  10. 式(VII)
    Figure 2011513282
    を有する1-メチル-3-ジフルオロメチルピラゾール-3-イルカルボキシレートを製造するための、請求項1に従って得た式(VI)を有する2-アルコキシメチレン-4,4-ジフルオロ-3-オキソ酪酸アルキルの使用。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015522536A (ja) * 2012-05-16 2015-08-06 ソルヴェイ(ソシエテ アノニム) 1−置換メチリデン化合物の製造

Families Citing this family (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB201004301D0 (en) * 2010-03-15 2010-04-28 Syngenta Participations Ag Process
GB201004299D0 (en) 2010-03-15 2010-04-28 Syngenta Participations Ag Process
TWI562985B (en) * 2010-07-13 2016-12-21 Lonza Ag Process for the preparation of enolate salts of 4-fluoro-2-hydroxymethylene-3-oxobutyrates
CN103068805A (zh) 2010-07-23 2013-04-24 索尔维公司 1-取代-3-氟烷基-吡唑-4-羧酸酯的制备方法
IT1401696B1 (it) * 2010-09-10 2013-08-02 Miteni Spa Procedimento per la preparazione di esteri dell acido 4,4-difluoroacetilacetico
CN102206155A (zh) * 2011-04-19 2011-10-05 巨化集团公司 一种4,4-二氟乙酰乙酸乙酯的合成方法
EP2731426A2 (en) 2011-07-15 2014-05-21 Basf Se Pesticidal methods using substituted 3-pyridyl thiazole compounds and derivatives for combating animal pests ii
US8871947B2 (en) * 2013-02-04 2014-10-28 KingChem LLC Preparation of alkyl 3-difluoromethyl-1-methyl-1H-pyrazole-4-carboxylic acid ester
WO2015085464A1 (en) * 2013-12-09 2015-06-18 King Chem, Llc Process for preparing alkyl 3-difluoromethyl-1-methyl-1h-pyrazole-4-carboxylate and its analogs
CN104744256B (zh) * 2013-12-27 2017-01-04 北京乐威泰克医药技术有限公司 制备2-(烷氧基亚烷基)-3-氧代羧酸酯、嘧啶化合物的方法及铁作为催化剂的用途
JP2018087142A (ja) * 2015-03-30 2018-06-07 旭硝子株式会社 3−ハロゲン化アルキルピラゾール誘導体の製造方法
WO2017054112A1 (zh) 2015-09-28 2017-04-06 常州市卜弋科研化工有限公司 3-氟代烷基-1-甲基吡唑-4-羧酸的制备方法
CN106554311B (zh) * 2015-09-28 2019-03-01 常州市卜弋科研化工有限公司 3-氟代烷基-1-甲基吡唑-4-羧酸的制备方法
CN112119063B (zh) 2018-05-18 2023-10-17 富士胶片株式会社 3-二氟甲基吡唑化合物的制造方法及3-二氟甲基吡唑-4-羧酸化合物的制造方法以及吡唑烷化合物
JP6911143B2 (ja) 2018-11-07 2021-07-28 福建永晶科技股▲ふん▼有限公司Fujian Yongjing Technology Co., Ltd ピラゾール又はピリミジノンの新しい製造方法
CN111116364B (zh) * 2019-12-30 2022-11-11 浙江本立科技股份有限公司 2-多卤代乙酰基-3-烷氧基丙烯酸酯的制备方法
CN117384096A (zh) * 2023-12-13 2024-01-12 山东国邦药业有限公司 一种二氟吡唑酸的制备方法

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07501549A (ja) * 1991-12-06 1995-02-16 モンサント・カンパニー ピラゾールカルボキサニリド殺菌剤
WO2006090778A1 (ja) * 2005-02-25 2006-08-31 Sagami Chemical Research Center 1-置換-3-フルオロアルキルピラゾール-4-カルボン酸エステルの製造方法
WO2007115766A1 (en) * 2006-04-06 2007-10-18 Syngenta Participations Ag Fungicidal compositions

Family Cites Families (100)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2831123A (en) * 1956-07-11 1958-04-15 Webster J Daly X-ray fluoroscopic device
USRE28544E (en) * 1971-07-07 1975-09-02 Radiant energy imaging with scanning pencil beam
US3784837A (en) * 1972-05-08 1974-01-08 Siemens Ag X-ray device with a stand
DE2532300C3 (de) * 1975-07-18 1979-05-17 Heimann Gmbh, 6200 Wiesbaden Anlage zum Prüfen von Gepäckstücken mittels Röntgenstrahlung
DE2532218C2 (de) * 1975-07-18 1982-09-02 Heimann Gmbh, 6200 Wiesbaden Vorrichtung zum Prüfen von Gepäckstücken mittels Röntgenstrahlung
US4210811A (en) * 1975-11-03 1980-07-01 Heimann Gmbh Drive for moveable shield in luggage screening apparatus
DE2735400C2 (de) * 1977-08-05 1979-09-20 Heimann Gmbh, 6200 Wiesbaden Vorrichtung zum Prüfen von Gepäckstücken mitteis Röntgenstrahlung
JPS5756740A (en) * 1980-09-22 1982-04-05 Mitsubishi Electric Corp Object inspecting device
DE3145227A1 (de) * 1981-11-13 1983-05-19 Heimann Gmbh, 6200 Wiesbaden Verfahren und vorrichtung zur untersuchung des inhaltes von containern
US4599740A (en) * 1983-01-06 1986-07-08 Cable Arthur P Radiographic examination system
DE3431082A1 (de) * 1984-08-23 1986-02-27 Heimann Gmbh, 6200 Wiesbaden Schaltungsanordnung zur hochspannungsversorung einer roentgenroehre
US4817123A (en) * 1984-09-21 1989-03-28 Picker International Digital radiography detector resolution improvement
CN85107860A (zh) * 1985-04-03 1986-10-01 海曼股份公司 X-射线扫描仪
US4799247A (en) * 1986-06-20 1989-01-17 American Science And Engineering, Inc. X-ray imaging particularly adapted for low Z materials
US4825454A (en) * 1987-12-28 1989-04-25 American Science And Engineering, Inc. Tomographic imaging with concentric conical collimator
DE58902570D1 (de) * 1989-08-09 1992-12-03 Heimann Gmbh Vorrichtung zum durchstrahlen von gegenstaenden mit faecherfoermiger strahlung.
US5179581A (en) * 1989-09-13 1993-01-12 American Science And Engineering, Inc. Automatic threat detection based on illumination by penetrating radiant energy
US5022062A (en) * 1989-09-13 1991-06-04 American Science And Engineering, Inc. Automatic threat detection based on illumination by penetrating radiant energy using histogram processing
US5098640A (en) * 1990-01-10 1992-03-24 Science Applications International Corporation Apparatus and method for detecting contraband using fast neutron activation
US4991189A (en) * 1990-04-16 1991-02-05 General Electric Company Collimation apparatus for x-ray beam correction
US5181234B1 (en) * 1990-08-06 2000-01-04 Rapiscan Security Products Inc X-ray backscatter detection system
US5247561A (en) * 1991-01-02 1993-09-21 Kotowski Andreas F Luggage inspection device
US5093347A (en) * 1991-01-28 1992-03-03 Monsanto Company 3-difluoromethylpyrazolecarboxamide fungicides, compositions and use
US5224144A (en) * 1991-09-12 1993-06-29 American Science And Engineering, Inc. Reduced mass flying spot scanner having arcuate scanning lines
US5182764A (en) * 1991-10-03 1993-01-26 Invision Technologies, Inc. Automatic concealed object detection system having a pre-scan stage
US5221843A (en) * 1992-04-23 1993-06-22 Alvarez Robert E Active energy selective x-ray image detection
US5237598A (en) * 1992-04-24 1993-08-17 Albert Richard D Multiple image scanning X-ray method and apparatus
DE59203913D1 (de) * 1992-07-20 1995-11-09 Heimann Systems Gmbh & Co Prüfanlage für Gegenstände.
JPH06277207A (ja) * 1993-03-25 1994-10-04 Toshiba Corp 非破壊検査装置、x線ct用データ検出装置及びx線ct用画像処理装置
DE4311174C2 (de) * 1993-04-05 1996-02-15 Heimann Systems Gmbh & Co Röntgenprüfanlage für Container und Lastkraftwagen
FR2705786B1 (fr) * 1993-05-28 1995-08-25 Schlumberger Ind Sa Procédé et dispositif pour la reconnaissance de matériaux déterminés dans la composition d'un objet.
FR2708751B1 (fr) * 1993-07-30 1995-10-06 Schlumberger Ind Sa Procédé et dispositif pour détecter la présence d'un objet, comportant un matériau donné, non accessible à la vue.
US5493596A (en) * 1993-11-03 1996-02-20 Annis; Martin High-energy X-ray inspection system
CA2136788C (en) 1993-11-30 2005-01-25 Thomas Charles Britton Process for preparing 2,2-difluoroketene silyl acetals and .alpha.,.alpha.-difluoro-.beta.-silyloxy-1,3-dioxolane-4-propanoic acid esters
US5666393A (en) * 1994-02-17 1997-09-09 Annis; Martin Method and apparatus for reducing afterglow noise in an X-ray inspection system
US5548123A (en) * 1994-12-06 1996-08-20 Regents Of The University Of California High resolution, multiple-energy linear sweep detector for x-ray imaging
DE19510168C2 (de) * 1995-03-21 2001-09-13 Heimann Systems Gmbh & Co Verfahren und Vorrichtung zur Bestimmung von kristallinen und polykristallinen Materialien in einem Untersuchungsbereich
US5642393A (en) * 1995-09-26 1997-06-24 Vivid Technologies, Inc. Detecting contraband by employing interactive multiprobe tomography
US6255654B1 (en) * 1995-10-23 2001-07-03 Science Applications International Corporation Density detection using discrete photon counting
US6507025B1 (en) * 1995-10-23 2003-01-14 Science Applications International Corporation Density detection using real time discrete photon counting for fast moving targets
US5764683B1 (en) * 1996-02-12 2000-11-21 American Science & Eng Inc Mobile x-ray inspection system for large objects
US5642394A (en) * 1996-04-03 1997-06-24 American Science And Engineering, Inc. Sidescatter X-ray detection system
US5638420A (en) * 1996-07-03 1997-06-10 Advanced Research And Applications Corporation Straddle inspection system
WO1998002763A1 (en) * 1996-07-12 1998-01-22 American Science And Engineering, Inc. Side scatter tomography system
US5910973A (en) * 1996-07-22 1999-06-08 American Science And Engineering, Inc. Rapid X-ray inspection system
WO1998020366A1 (en) * 1996-11-08 1998-05-14 American Science And Engineering, Inc. Coded aperture x-ray imaging system
US6058158A (en) * 1997-07-04 2000-05-02 Eiler; Peter X-ray device for checking the contents of closed cargo carriers
US6192101B1 (en) * 1997-08-21 2001-02-20 American Science & Engineering, Inc. X-ray determination of the mass distribution in containers
WO1999013323A2 (en) * 1997-09-09 1999-03-18 American Science And Engineering, Inc. A tomographic inspection system
US6067344A (en) * 1997-12-19 2000-05-23 American Science And Engineering, Inc. X-ray ambient level safety system
DE19802668B4 (de) * 1998-01-24 2013-10-17 Smiths Heimann Gmbh Röntgenstrahlungserzeuger
DE19812055C2 (de) * 1998-03-19 2002-08-08 Heimann Systems Gmbh & Co Bildverarbeitung zur Materialerkennung mittels Röntgenstrahlungen
US6218943B1 (en) * 1998-03-27 2001-04-17 Vivid Technologies, Inc. Contraband detection and article reclaim system
US6094472A (en) * 1998-04-14 2000-07-25 Rapiscan Security Products, Inc. X-ray backscatter imaging system including moving body tracking assembly
DE19826062B4 (de) * 1998-06-12 2006-12-14 Smiths Heimann Gmbh Verfahren und Anordnung zur Detektion von Röntgenstrahlen
US6442233B1 (en) * 1998-06-18 2002-08-27 American Science And Engineering, Inc. Coherent x-ray scatter inspection system with sidescatter and energy-resolved detection
US6278115B1 (en) * 1998-08-28 2001-08-21 Annistech, Inc. X-ray inspection system detector with plastic scintillating material
US6453007B2 (en) * 1998-11-30 2002-09-17 American Science And Engineering, Inc. X-ray inspection using co-planar pencil and fan beams
DE19855213C2 (de) * 1998-11-30 2001-03-15 Siemens Ag Röntgenaufnahmeeinrichtung
ATE290223T1 (de) * 1998-11-30 2005-03-15 American Science & Eng Inc Röntgenstrahluntersuchungssystem mit kegel- und bleistiftstrahlen aus einer gemeinsamen quelle
US6421420B1 (en) * 1998-12-01 2002-07-16 American Science & Engineering, Inc. Method and apparatus for generating sequential beams of penetrating radiation
US6249567B1 (en) * 1998-12-01 2001-06-19 American Science & Engineering, Inc. X-ray back scatter imaging system for undercarriage inspection
US6282260B1 (en) * 1998-12-14 2001-08-28 American Science & Engineering, Inc. Unilateral hand-held x-ray inspection apparatus
WO2000037928A2 (en) * 1998-12-22 2000-06-29 American Science And Engineering, Inc. Unilateral hand-held x-ray inspection apparatus
US6256369B1 (en) * 1999-03-31 2001-07-03 Analogic Corporation Computerized tomography scanner with longitudinal flying focal spot
US6456684B1 (en) * 1999-07-23 2002-09-24 Inki Mun Surgical scanning system and process for use thereof
US6546072B1 (en) * 1999-07-30 2003-04-08 American Science And Engineering, Inc. Transmission enhanced scatter imaging
EP1206903A2 (en) * 1999-07-30 2002-05-22 American Science & Engineering, Inc. Method for raster scanning an x-ray tube focal spot
DE19954663B4 (de) * 1999-11-13 2006-06-08 Smiths Heimann Gmbh Verfahren und Vorrichtung zur Bestimmung eines Materials eines detektierten Gegenstandes
US6542578B2 (en) * 1999-11-13 2003-04-01 Heimann Systems Gmbh Apparatus for determining the crystalline and polycrystalline materials of an item
US6763635B1 (en) * 1999-11-30 2004-07-20 Shook Mobile Technology, Lp Boom with mast assembly
US6563903B2 (en) * 2000-03-01 2003-05-13 Tsinghua University Container inspection apparatus
US6434219B1 (en) * 2000-07-24 2002-08-13 American Science And Engineering, Inc. Chopper wheel with two axes of rotation
US6839403B1 (en) * 2000-07-24 2005-01-04 Rapiscan Security Products (Usa), Inc. Generation and distribution of annotation overlays of digital X-ray images for security systems
US6837422B1 (en) * 2000-09-01 2005-01-04 Heimann Systems Gmbh Service unit for an X-ray examining device
DE10044357A1 (de) * 2000-09-07 2002-03-21 Heimann Systems Gmbh & Co Detektoranordnung zur Detektion von Röntgenstrahlen
DE10062214B4 (de) * 2000-12-13 2013-01-24 Smiths Heimann Gmbh Vorrichtungen zur Durchleuchtung von Objekten
US6477417B1 (en) * 2001-04-12 2002-11-05 Pacesetter, Inc. System and method for automatically selecting electrode polarity during sensing and stimulation
US6597760B2 (en) * 2001-05-23 2003-07-22 Heimann Systems Gmbh Inspection device
US6580778B2 (en) * 2001-05-23 2003-06-17 Heimann Systems Gmbh Inspection device
US7505557B2 (en) * 2006-01-30 2009-03-17 Rapiscan Security Products, Inc. Method and system for certifying operators of x-ray inspection systems
DE10139672A1 (de) * 2001-08-11 2003-03-06 Heimann Systems Gmbh & Co Verfahren und Anlage zur Inspektion eines Objektes, insbesondere eines Gepäckstückes
US8502699B2 (en) * 2001-09-28 2013-08-06 Mct Technology, Llc Integrated detection and monitoring system
US6542580B1 (en) * 2002-01-15 2003-04-01 Rapiscan Security Products (Usa), Inc. Relocatable X-ray imaging system and method for inspecting vehicles and containers
DE10215292A1 (de) 2002-02-19 2003-08-28 Bayer Cropscience Ag Disubstitutierte Pyrazolylcarbocanilide
US6843599B2 (en) * 2002-07-23 2005-01-18 Rapiscan, Inc. Self-contained, portable inspection system and method
CN1181336C (zh) * 2002-10-16 2004-12-22 清华大学 一种车载移动式集装箱检查系统
US7099434B2 (en) * 2002-11-06 2006-08-29 American Science And Engineering, Inc. X-ray backscatter mobile inspection van
US6785357B2 (en) * 2003-01-16 2004-08-31 Bio-Imaging Research, Inc. High energy X-ray mobile cargo inspection system with penumbra collimator
US20050117700A1 (en) * 2003-08-08 2005-06-02 Peschmann Kristian R. Methods and systems for the rapid detection of concealed objects
DE10351088A1 (de) 2003-10-31 2005-06-02 Bayer Cropscience Gmbh Verfahren zum Herstellen von fluormethyl-substituierten Heterocyclen
CN1627061A (zh) * 2003-12-10 2005-06-15 清华同方威视技术股份有限公司 一种组合移动式低靶点集装箱检查系统
US7039159B2 (en) * 2004-01-30 2006-05-02 Science Applications International Corporation Method and system for automatically scanning and imaging the contents of a moving target
US7166844B1 (en) * 2004-06-01 2007-01-23 Science Applications International Corporation Target density imaging using discrete photon counting to produce high-resolution radiographic images
BRPI0512118A (pt) * 2004-06-18 2008-02-06 Basf Ag composto, processo para combater fungos nocivos, e, agente fungicida
US7738687B2 (en) * 2005-04-07 2010-06-15 L-3 Communications Security And Detection Systems, Inc. Method of registration in a contraband detection system
JP5118043B2 (ja) 2005-09-16 2013-01-16 シンジェンタ パーティシペーションズ アクチェンゲゼルシャフト アミドの生成方法
EA017900B1 (ru) 2006-11-03 2013-04-30 Басф Се Способ получения дифторметилпиразолилкарбоксилатов
WO2008077907A1 (de) 2006-12-21 2008-07-03 Basf Se Verfahren zur herstellung fluormethylsubstituierter heterocyclischer verbindungen
EP1997808A1 (en) 2007-05-31 2008-12-03 Syngeta Participations AG Process for the production of pyrazoles

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07501549A (ja) * 1991-12-06 1995-02-16 モンサント・カンパニー ピラゾールカルボキサニリド殺菌剤
WO2006090778A1 (ja) * 2005-02-25 2006-08-31 Sagami Chemical Research Center 1-置換-3-フルオロアルキルピラゾール-4-カルボン酸エステルの製造方法
WO2007115766A1 (en) * 2006-04-06 2007-10-18 Syngenta Participations Ag Fungicidal compositions

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015522536A (ja) * 2012-05-16 2015-08-06 ソルヴェイ(ソシエテ アノニム) 1−置換メチリデン化合物の製造
JP2018118982A (ja) * 2012-05-16 2018-08-02 ソルヴェイ(ソシエテ アノニム) 1−置換メチリデン化合物の製造

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