WO2012063791A1 - ピラゾリノン塩の製造方法 - Google Patents
ピラゾリノン塩の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- WO2012063791A1 WO2012063791A1 PCT/JP2011/075648 JP2011075648W WO2012063791A1 WO 2012063791 A1 WO2012063791 A1 WO 2012063791A1 JP 2011075648 W JP2011075648 W JP 2011075648W WO 2012063791 A1 WO2012063791 A1 WO 2012063791A1
- Authority
- WO
- WIPO (PCT)
- Prior art keywords
- group
- formula
- represented
- compound represented
- mixture
- Prior art date
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 22
- XBYRMPXUBGMOJC-UHFFFAOYSA-N 1,2-dihydropyrazol-3-one Chemical class OC=1C=CNN=1 XBYRMPXUBGMOJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 7
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 64
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims abstract description 55
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 claims abstract description 47
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 claims abstract description 38
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 claims abstract description 37
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 37
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims abstract description 34
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 claims abstract description 17
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 40
- -1 alkali metal cation Chemical class 0.000 claims description 36
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 35
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 30
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 28
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 22
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 19
- WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M Lithium hydroxide Chemical group [Li+].[OH-] WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 12
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 10
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 claims description 9
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 6
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 claims description 6
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 claims description 6
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims 5
- 125000002029 aromatic hydrocarbon group Chemical group 0.000 claims 1
- 239000004480 active ingredient Substances 0.000 abstract description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 abstract description 2
- 201000010099 disease Diseases 0.000 abstract description 2
- 208000037265 diseases, disorders, signs and symptoms Diseases 0.000 abstract description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 30
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 27
- 125000006527 (C1-C5) alkyl group Chemical group 0.000 description 16
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 15
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 14
- 125000004414 alkyl thio group Chemical group 0.000 description 13
- 125000001188 haloalkyl group Chemical group 0.000 description 13
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 125000004438 haloalkoxy group Chemical group 0.000 description 10
- 125000004995 haloalkylthio group Chemical group 0.000 description 9
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 8
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 8
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 7
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 6
- 125000000876 trifluoromethoxy group Chemical group FC(F)(F)O* 0.000 description 6
- 125000000008 (C1-C10) alkyl group Chemical group 0.000 description 5
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical group [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 5
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 5
- 125000004786 difluoromethoxy group Chemical group [H]C(F)(F)O* 0.000 description 5
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 5
- 125000004705 ethylthio group Chemical group C(C)S* 0.000 description 5
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 5
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 5
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 5
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 5
- 125000002816 methylsulfanyl group Chemical group [H]C([H])([H])S[*] 0.000 description 5
- 125000003261 o-tolyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 5
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 5
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 description 5
- 125000006374 C2-C10 alkenyl group Chemical group 0.000 description 4
- 125000005865 C2-C10alkynyl group Chemical group 0.000 description 4
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 4
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 4
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 description 4
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- 125000005034 trifluormethylthio group Chemical group FC(S*)(F)F 0.000 description 4
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 3
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical group 0.000 description 3
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 238000004811 liquid chromatography Methods 0.000 description 3
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 3
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 125000006552 (C3-C8) cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000006021 1-methyl-2-propenyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004182 2-chlorophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(Cl)=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 125000004493 2-methylbut-1-yl group Chemical group CC(C*)CC 0.000 description 2
- RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N Cyclopentane Chemical compound C1CCCC1 RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 208000005156 Dehydration Diseases 0.000 description 2
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 2
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000004292 cyclic ethers Chemical class 0.000 description 2
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 2
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 2
- PQVSTLUFSYVLTO-UHFFFAOYSA-N ethyl n-ethoxycarbonylcarbamate Chemical compound CCOC(=O)NC(=O)OCC PQVSTLUFSYVLTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- GLXDVVHUTZTUQK-UHFFFAOYSA-M lithium hydroxide monohydrate Substances [Li+].O.[OH-] GLXDVVHUTZTUQK-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229940040692 lithium hydroxide monohydrate Drugs 0.000 description 2
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N nitrogen Substances N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 2
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 2
- 125000004178 (C1-C4) alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- VDFVNEFVBPFDSB-UHFFFAOYSA-N 1,3-dioxane Chemical compound C1COCOC1 VDFVNEFVBPFDSB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RRQYJINTUHWNHW-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxy-2-(2-ethoxyethoxy)ethane Chemical compound CCOCCOCCOCC RRQYJINTUHWNHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JQCSUVJDBHJKNG-UHFFFAOYSA-N 1-methoxy-ethyl Chemical group C[CH]OC JQCSUVJDBHJKNG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006276 2-bromophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(Br)=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000004198 2-fluorophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(F)=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000004204 2-methoxyphenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C(OC([H])([H])[H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000004179 3-chlorophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C([H])C(Cl)=C1[H] 0.000 description 1
- 125000004180 3-fluorophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C([H])C(F)=C1[H] 0.000 description 1
- VATRWWPJWVCZTA-UHFFFAOYSA-N 3-oxo-n-[2-(trifluoromethyl)phenyl]butanamide Chemical compound CC(=O)CC(=O)NC1=CC=CC=C1C(F)(F)F VATRWWPJWVCZTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004800 4-bromophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C([H])C([H])=C1Br 0.000 description 1
- 125000001255 4-fluorophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C([H])C([H])=C1F 0.000 description 1
- 125000004172 4-methoxyphenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(OC([H])([H])[H])=C([H])C([H])=C1* 0.000 description 1
- 125000000590 4-methylphenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HBBGRARXTFLTSG-UHFFFAOYSA-N Lithium ion Chemical compound [Li+] HBBGRARXTFLTSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000005090 alkenylcarbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005092 alkenyloxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004183 alkoxy alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005083 alkoxyalkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004448 alkyl carbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004691 alkyl thio carbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- 125000004799 bromophenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004063 butyryl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 238000004587 chromatography analysis Methods 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 150000001983 dialkylethers Chemical class 0.000 description 1
- 229940019778 diethylene glycol diethyl ether Drugs 0.000 description 1
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 125000003754 ethoxycarbonyl group Chemical group C(=O)(OCC)* 0.000 description 1
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol Natural products OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 1
- 125000006343 heptafluoro propyl group Chemical group 0.000 description 1
- DMEGYFMYUHOHGS-UHFFFAOYSA-N heptamethylene Natural products C1CCCCCC1 DMEGYFMYUHOHGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004128 high performance liquid chromatography Methods 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 238000010813 internal standard method Methods 0.000 description 1
- 229940006487 lithium cation Drugs 0.000 description 1
- 125000000040 m-tolyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C([H])C(=C1[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001160 methoxycarbonyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC(*)=O 0.000 description 1
- 125000004184 methoxymethyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004092 methylthiomethyl group Chemical group [H]C([H])([H])SC([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 1
- 125000003854 p-chlorophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C([H])C([H])=C1Cl 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- SWWHCQCMVCPLEQ-UHFFFAOYSA-N propan-2-yl methanesulfonate Chemical compound CC(C)OS(C)(=O)=O SWWHCQCMVCPLEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001325 propanoyl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002572 propoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004742 propyloxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 1
- 125000006413 ring segment Chemical group 0.000 description 1
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 125000006337 tetrafluoro ethyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000383 tetramethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 125000003258 trimethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])[*:1] 0.000 description 1
- 125000003774 valeryl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D231/00—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings
- C07D231/02—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings not condensed with other rings
- C07D231/06—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings not condensed with other rings having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member
- C07D231/08—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings not condensed with other rings having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member with oxygen or sulfur atoms directly attached to ring carbon atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D231/00—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings
- C07D231/02—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings not condensed with other rings
- C07D231/10—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D231/14—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
- C07D231/44—Oxygen and nitrogen or sulfur and nitrogen atoms
- C07D231/52—Oxygen atom in position 3 and nitrogen atom in position 5, or vice versa
Definitions
- This relates to a method for producing a pyrazolinone salt.
- the present invention provides a method by which a pyrazolinone derivative can be produced with an excellent yield.
- the present invention is as follows. ⁇ 1> Hydrocarbon solvent and the following formula A + OH ⁇ (In the formula, A + represents an alkali metal cation.)
- Ar represents a phenyl group which may have a substituent
- R 1 represents a hydrocarbon group which may have a substituent.
- the manufacturing method of the salt represented by these. ⁇ 2> The production according to ⁇ 1>, wherein the second step is a step of reacting the mixture dehydrated in the first step and the compound represented by formula (2) while dehydrating. Method.
- the amount of water contained in the reaction solution in the second step is adjusted to 0.8 wt% or less for the mixture dehydrated in the first step and the compound represented by formula (2) ⁇ 2>
- the second step is a step of reacting the mixture dehydrated in the first step and the compound represented by the formula (2) with azeotropic dehydration under reduced pressure in a temperature range of 20 to 100 ° C. ⁇ 2> or ⁇ 3> the production method according to the above.
- ⁇ 5> The production method according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 4>, wherein the amount of water contained in the mixture dehydrated in the first step is 0.8% by weight or less.
- ⁇ 6> The method according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 5>, wherein the first step is a step of performing azeotropic dehydration in a temperature range of 20 to 100 ° C. under reduced pressure.
- ⁇ 7> The method according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 6>, wherein the alkali metal hydroxide is lithium hydroxide.
- ⁇ 8> The method according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 7>, wherein the hydrocarbon solvent is an aromatic hydrocarbon solvent.
- the second step is a step of reacting the mixture dehydrated in the first step and the compound represented by the formula (2) in the presence of an ether solvent ⁇ 1> ⁇
- the production method according to any one of ⁇ 8>.
- ⁇ 10> Hydrocarbon solvent and the following formula A + OH ⁇ (In the formula, A + represents an alkali metal cation.)
- a second step of reacting the compound represented by formula; and the product obtained in the second step, and the formula (3) R 2 —O—SO 2 R 3 (3) (In the formula, R 2 represents a hydrocarbon group which may have a substituent, and R 3 represents a phenyl group which may have a substituent or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms.)
- a method for producing a pyrazolinone derivative represented by the formula hereinafter sometimes referred to as derivative (1)).
- the manufacturing method of salt (4) consists of a 1st process and a 2nd process.
- the first step is a hydrocarbon solvent and the following formula A + OH ⁇ (In the formula, A + represents an alkali metal cation.)
- a + represents an alkali metal cation.
- hydrocarbon solvent used in the first step examples include aliphatic hydrocarbons such as normal pentane, normal hexane, and normal heptane, alicyclic hydrocarbons such as cyclopentane and cyclohexane, and benzene, toluene, xylene, chlorobenzene, and the like. Aromatic hydrocarbons are mentioned.
- the hydrocarbon solvent used in the first step is preferably an aromatic hydrocarbon, more preferably, for example, toluene and xylene.
- the amount of the hydrocarbon solvent used in the first step is usually in the range of 0.1 to 1000 parts by weight, preferably 1 to 50 parts by weight with respect to 1 part by weight of the alkali metal hydroxide.
- the first step may be performed in the presence of an ether solvent in addition to the hydrocarbon solvent.
- the ether solvent that can be used in the first step include 5 to 20 ring constituent atoms such as dialkyl ether having 2 to 20 carbon atoms such as diethyl ether, tetrahydrofuran, 1,3-dioxane, 1,4-dioxane and the like.
- examples thereof include cyclic ethers of ⁇ 12, and (poly) alkylene glycol dialkyl ethers of 4 to 12 carbon atoms such as diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, and dipropylene glycol dimethyl ether.
- the ether solvent that can be used in the first step is preferably a cyclic ether having 5 to 12 ring atoms, and more preferably tetrahydrofuran.
- the amount of the ether solvent used is usually 1 part by weight or less, preferably 0.25 part by weight or less with respect to 1 part by weight of the hydrocarbon solvent.
- the alkali metal hydroxide used in the first step include lithium hydroxide, sodium hydroxide, and potassium hydroxide.
- the alkali metal hydroxide used in the first step is preferably lithium hydroxide.
- the alkali metal hydroxide may be an aqueous solution or a hydrate.
- the water contained in the hydrocarbon solvent, the water contained in the alkali metal hydroxide (including hydrate water) and the water adhering to the reaction tank used for the dehydration treatment in the first step are dehydrated in the first step. It is processed.
- the amount of water contained in the mixture after completion of the first step (hereinafter sometimes referred to as the mixture [1]) is preferably 0.8% by weight or less, and more preferably 0.5% by weight or less. .
- the first step will be specifically described.
- method B A method of refluxing (hereinafter sometimes referred to as method B) can be mentioned.
- method B it is preferably carried out under reduced pressure in order to recirculate within the above temperature range.
- the content of the hydrocarbon solvent contained in the mixture of the alkali metal hydroxide and the hydrocarbon solvent-containing solution obtained in the first step is usually 0.1 to 1000 weights per 1 part by weight of the alkali metal hydroxide. Parts, preferably 1 to 50 parts by weight.
- the treatment time of the first step is not particularly limited as long as the water content is adjusted to 0.8% by weight or less.
- the treatment time for the first step is usually in the range of 1 to 24 hours. From the viewpoint of the yield of the salt (4) and the derivative (1), the reaction solution in the first step does not contain the compound (2). That the compound (2) is not contained in the reaction solution in the first step means that the compound (2) contained in the reaction solution in the first step is 100 parts by weight of the compound (2) used in the second step described later.
- the second step includes the mixture dehydrated in the first step, and the formula (2) (In the formula, Ar represents a phenyl group which may have a substituent, and R 1 represents a hydrocarbon group which may have a substituent. —CH 2 — contained in the hydrocarbon group represents (It may be replaced by a heteroatom or a carbonyl group.) In which the compound (2) is reacted.
- Ar in the compound (2) is represented by the formula (5)
- the phenyl group which may have substituents, such as a phenyl group represented by these, is represented.
- R 4 to R 8 in formula (5) are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, a haloalkyl group, an alkoxy group, an alkoxyalkyl group, a haloalkoxy group, an alkylthio group, a haloalkylthio group, a cyano group, a nitro group, Group, a phenyl group which may have a substituent or a phenoxy group which may have a substituent, or two adjacent groups out of R 4 to R 8 are bonded to each other at the end, and —CH ⁇ A group represented by CH—CH ⁇ CH—, a methylenedioxy group optionally having a halogen atom, or an alkylene group optionally having an alkyl group is represented.
- the methylene group (—CH 2 —) contained in the alkylene group may be replaced with an oxygen atom (—O—).
- examples of the halogen atom represented by R 4 to R 8 include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.
- examples of the alkyl group represented by R 4 to R 8 include linear or branched alkyl groups having 1 to 5 carbon atoms (hereinafter sometimes referred to as C1 to C5). Examples thereof include a methyl group, an ethyl group, a normal propyl group, an isopropyl group, and a t-butyl group.
- the haloalkyl group means a group in which part or all of the hydrogen atoms of the alkyl group are replaced with halogen atoms.
- Examples of the haloalkyl group represented by R 4 to R 8 include a linear or branched C1-C5 alkyl group having 1 to 11 halogen atoms in the haloalkyl group, specifically, Examples thereof include a trifluoromethyl group, a tetrafluoroethyl group, and a heptafluoropropyl group.
- Examples of the alkoxy group represented by R 4 to R 8 include a linear or branched C1-C5 alkoxy group, and specifically include, for example, a methoxy group, an ethoxy group, a normal propyloxy group, And isopropyloxy group.
- Examples of the alkoxyalkoxy group represented by R 4 to R 8 include a linear or branched (C1 to C3) alkoxy (C1 to C3) alkoxy group. Specifically, for example, a methoxymethoxy group Can be given.
- Examples of the haloalkoxy group represented by R 4 to R 8 include linear or branched C1-C5 alkoxy groups substituted with the same or different 1 to 11 halogen atoms.
- Examples thereof include a trifluoromethoxy group, a difluoromethoxy group, and a tetrafluoroethoxy group.
- Examples of the alkylthio group represented by R 4 to R 8 include a linear or branched C1-C5 alkylthio group, and specific examples include a methylthio group and an ethylthio group.
- Examples of the haloalkylthio group represented by R 4 to R 8 include linear or branched C1-C5 alkylthio groups substituted with the same or different 1 to 11 halogen atoms. Examples include trifluoromethylthio group.
- the phenyl group which may have a substituent represented by R 4 to R 8 means a phenyl group which may have 1 to 5 substituents which are the same or different.
- the phenoxy group which may have a substituent represented by R 4 to R 8 means a phenoxy group which may have 1 to 5 identical or different substituents.
- Examples of the substituent of the phenyl group or phenoxy group include a halogen atom (a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom), a C1-C5 alkyl group (for example, a methyl group and an ethyl group), and a C1-C5 alkoxy group.
- C1-C5 alkylthio group for example, methylthio group and ethylthio group
- C1-C5 haloalkyl group for example, C1-C2 haloalkyl group such as trifluoromethyl group
- C1-C5 A haloalkoxy group for example, a C1-C2 haloalkoxy group such as a trifluoromethoxy group and a difluoromethoxy group
- a C1-C5 haloalkylthio group for example, a C1-C2 haloalkylthio group such as a trifluoromethylthio group
- a cyano group for example, methoxy group and ethoxy group
- C1-C5 alkylthio group for example, methylthio group and ethylthio group
- C1-C5 haloalkyl group for example, C1-C2 haloalkyl group such as trifluoromethyl
- Examples of the methylenedioxy group optionally having a halogen atom represented by R 4 to R 8 include a methylenedioxy group and a difluoromethylenedioxy group.
- Examples of the alkylene group (for example, C2-C6 alkylene group) optionally having an alkyl group represented by R 4 to R 8 include a trimethylene group and a tetramethylene group Is mentioned.
- Examples of the alkylene group in which the methylene group contained in the alkylene group is replaced by an oxygen atom include a group represented by —OCH 2 CH 2 Cl and a group represented by —OCH 2 CH (CH 3 ) Cl.
- Ar preferably includes a phenyl group, an o-tolyl group, a 2,6-dimethylphenyl group, a 2-chlorophenyl group, a 2,6-dichlorophenyl group, and the like.
- the hydrocarbon group which may have a substituent represented by R 1 include a linear or branched C1-C10 alkyl group (for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, Butyl group, isobutyl group, secondary-butyl group, 2-methylbutyl group, 2-ethylpropyl group, and t-butyl group); A linear or branched C2-C10 alkenyl group (eg, 1-methyl-2-propenyl group); A linear or branched C2-C10 alkynyl group (eg, 1-methyl-2-propynyl group); A linear or branched C1-C10 alkyl group substituted with 1
- a C7 to C17 aralkyl group for example, benzyl group, ⁇ -methylbenzyl group, ⁇ , ⁇ -dimethylbenzyl group, etc.
- the group include a halogen atom (a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom), a C1-C5 alkyl group (for example, a methyl group and an ethyl group), a C1-C5 alkoxy group (for example, a methoxy group, And ethoxy group), C1-C5 alkylthio group (for example, methylthio group and ethylthio group), C1-C5 haloalkyl group (for example, C1-C2 haloalkyl group such as trifluoromethyl group), C1-C5 haloalkoxy group (for example, A C
- a halogen atom a fluorine atom, a chlorine
- Examples of the compound (2) include the compounds described in Table 1.
- the compound (2) is dissolved in, for example, a hydrocarbon solvent and / or an ether solvent, preferably a mixed solvent of a hydrocarbon solvent and an ether solvent, and added to the mixture [1].
- Examples of the hydrocarbon solvent and the ether solvent used in this case are the same as those described above.
- the second step is preferably performed in the presence of a mixed solvent of a hydrocarbon solvent and an ether solvent, and more preferably performed in the presence of a mixed solvent of a hydrocarbon solvent and tetrahydrofuran.
- the weight ratio of the hydrocarbon solvent and the ether solvent is usually in the range of 1 to 5 parts by weight of the hydrocarbon solvent per 1 part by weight of the ether solvent. It is.
- the amount of the hydrocarbon solvent used in the second step is usually in the range of 0.1 to 1000 parts by weight, preferably in the range of 1 to 10 parts by weight with respect to 1 part by weight of the compound (2). Since water is generated by the reaction between the compound (2) and the alkali metal hydroxide, the second step is preferably performed while dehydrating.
- the reaction solution in the second step is adjusted to 0.8% by weight or less, preferably 0.5% by weight or less by dehydration. It is preferable. Further, in the second step, the water content of the reaction solution in the second step is 0.8 wt% or less, preferably 0.5 wt% by gradually mixing the mixture [1] and the compound (2).
- the reaction time in the second step is not particularly limited as long as the water content of the mixture [1] is adjusted to 0.8% by weight or less, preferably 0.5% by weight or less.
- the reaction time in the second step is usually in the range of 1 to 18 hours.
- the second step will be specifically described.
- ⁇ 2-I> a method of mixing the compound (2) with the mixture [1] while dehydrating the hydrocarbon solvent under reflux
- ⁇ 2-II> refluxing the hydrocarbon solvent ⁇ 2-III> mixing the mixture [1] into the solution containing the compound (2) while dehydrating the hydrocarbon solvent at reflux
- the second step of the present invention is preferably carried out by the method ⁇ 2-I>.
- the formula (4) (In the formula, A + , Ar and R 1 each have the same meaning as described above.)
- a solution containing a salt represented by the formula (hereinafter sometimes referred to as salt (4)) is obtained.
- a salt in which R 1 of compound (2) is rearranged to the nitrogen atom at the ⁇ -position of the carbonyl group that is, the formula (4 ′) (Wherein A + , Ar and R 1 have the same meaning as described above.)
- the solution containing the salt (4) is not limited to the salt having the structure represented by the formula (4), but the formula (4 ′′) (Wherein A + , Ar and R 1 have the same meaning as described above.) It is considered that there is a salt having a structure represented by the formula (i.e., a tautomer of the salt (4)), but as described above, water is mixed into the solution obtained by performing the first step and the second step.
- the compound (2) can be obtained with good yield, and when the third step described later is performed on the solution, the derivative (1) can be produced with good yield.
- formula (3) R 2 —O—SO 2 R 3 (3) (In the formula, R 2 represents a hydrocarbon group which may have a substituent, and R 3 represents a phenyl group which may have a substituent or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms.)
- the formula (1) (In the formula, Ar, R 1 and R 2 have the same meaning as described above.)
- Examples of the hydrocarbon group which may have a substituent represented by R 2 in the compound (3) include a linear or branched C1-C10 alkyl group (for example, ethyl group, propyl group, isopropyl group).
- Examples of the C1-C10 alkyl group represented by R 3 include a methyl group, an ethyl group, a normal propyl group, an isopropyl group, and a t-butyl group.
- Examples of the phenyl group optionally having a substituent represented by R 3 include a phenyl group, a 2-methylphenyl group, a 3-methylphenyl group, a 4-methylphenyl group, a 2-methoxyphenyl group, and a 3-methoxy group.
- Examples of the compound (3) include the compounds described in Table 2.
- the mixing ratio of the salt (4) and the compound (3) is, for example, 0.9 to 1.5 with respect to 1 mol of the compound (2) used for the preparation of the salt (4). The range of moles.
- the reaction temperature in the third step is usually in the range of 40 ° C to 120 ° C, preferably in the range of 60 ° C to 100 ° C.
- a solution containing salt (4) and a solution containing compound (3) in parallel; and ⁇ 3-III> a solution containing salt (4) is mixed with a solution containing compound (3).
- a method is mentioned.
- the third step is preferably performed by the method ⁇ 3-II>.
- the progress of the reaction in the third step is preferably carried out by confirming the consumption amount of the compound (3) by means such as gas chromatography and high performance liquid chromatography and reacting until the compound (3) is not consumed.
- the reaction time in the third step is usually in the range of 5 minutes to 72 hours.
- no water is generated by the reaction, but it is preferable not to add water to the reaction system in the third step.
- the amount of water contained in the reaction solution in the third step is 0.8% by weight or less, preferably 0.5% by weight or less, more preferably 0.3% by weight or less.
- Examples of the derivative (1) include compounds shown in Table 3. According to the present invention, derivative (1) can be obtained with an excellent yield.
- the derivative (1) can be obtained in a high yield without replacing the hydrocarbon solvent with the ether solvent.
- the solution containing the derivative (1) obtained in the third step and the hydrocarbon solvent can obtain the derivative (1) by a method such as concentration of the hydrocarbon solvent under reduced pressure.
- the obtained derivative (1) may be purified by recrystallization, chromatography or the like.
- Example 1 The first step was performed using the apparatus (10) of FIG. First, FIG. 1 will be described.
- the reaction vessel (1) is provided with a jacket so that it can be heated.
- a condenser (3) is connected to the reaction tank (1) via a pipe (2), and a separator (9) is connected to the condenser (3) via a pipe (4).
- the upper layer (6) of the separator (9) and the reaction vessel (1) are connected via a pipe (5).
- reaction vessel (1 ′′) 273 parts by weight of the solution [2] obtained in the second step (84 parts by weight as 5-amino-3-oxo-4-O-tolyl-2,3-dihydropyrazole-1-thiocarboxylic acid S-allyl ester) ) And a xylene solution containing 51.9 parts by weight of isopropyl methanesulfonate were added dropwise over 1.5 hours, and the mixture was further refluxed at the same temperature for 20 hours.
- the present invention is industrially applicable as a method for producing the derivative (1) with an excellent yield.
- Reaction tank (2) Pipe from reaction tank (1) to condenser (3) (3) Condenser (4) Pipe from condenser (3) to separator (9) (5) Separator ( 9) Pipe (6) from the upper layer (6) to the reaction vessel (1) (6) Upper layer of the separator (9), in the example, xylene layer (7) Lower layer of the separator (9), in the example, an aqueous layer (8 ) Pipe for charging to reaction tank (1) (9) Separator (10) Reactor
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Nitrogen Condensed Heterocyclic Rings (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Agricultural Chemicals And Associated Chemicals (AREA)
- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
Abstract
炭化水素溶媒、及び、式 Ａ+ＯＨ- で表されるアルカリ金属水酸化物を含む混合物を脱水処理する第１工程、並びに、 第１工程で脱水処理された混合物、及び、式（２）で表される化合物を反応させる第２工程を経て製造される、式（４）で表される塩は、植物病害防除剤の有効成分を製造するために有用である。
Description
ピラゾリノン塩の製造方法に関する。
ＵＳ６２９４５６７にはある種のピラゾリノン化合物が植物病害防除剤の有効成分として有用であることが知られている。
また、ＵＳ５８６９６８４には式（１Ａ）
で表わされる化合物の製造方法が記載されている。
また、ＵＳ５８６９６８４には式（１Ａ）
本発明は、ピラゾリノン誘導体を優れた収率で製造できる方法を提供する。
本発明は、以下の通りである。
＜１＞ 炭化水素溶媒、及び、下記式
Ａ＋ＯＨ−
（式中、Ａ＋はアルカリ金属カチオンを表す。）
で表されるアルカリ金属水酸化物を含む混合物（但し、下記式（２）で表される化合物を含まない。）を脱水処理する第１工程、
並びに、
第１工程で脱水処理された混合物、及び、式（２）
（式中、Ａｒは置換基を有していてもよいフェニル基を表わし、Ｒ１は置換基を有していてもよい炭化水素基を表わす。該炭化水素基に含まれる−ＣＨ２−はヘテロ原子またはカルボニル基に置き換わっていてもよい。）
で表される化合物（以下、化合物（２）と記すことがある）を反応させる第２工程
を含むことを特徴とする、式（４）
（式中、Ａ＋、Ａｒ及びＲ１はそれぞれ前記と同じ意味を表わす。）
で表される塩の製造方法。
＜２＞ 第２工程が、第１工程で脱水処理された混合物、及び、式（２）で表される化合物を、脱水しながら反応させる工程であることを特徴とする＜１＞記載の製造方法。
＜３＞ 第２工程が、第１工程で脱水処理された混合物、及び、式（２）で表される化合物を、第２工程の反応液に含まれる水量を０．８重量％以下に調整しながら反応させる工程であることを特徴とする＜２＞記載の製造方法。
＜４＞ 第２工程が、第１工程で脱水処理された混合物、及び、式（２）で表される化合物を、減圧下、２０~１００℃の温度範囲で共沸脱水しながら反応させる工程であることを特徴とする＜２＞又は＜３＞記載の製造方法。
＜５＞ 第１工程で脱水処理された混合物に含まれる水量が０．８重量％以下であることを特徴とする＜１＞~＜４＞のいずれか１項記載の製造方法。
＜６＞ 第１工程が、減圧下、２０~１００℃の温度範囲で共沸脱水する工程であることを特徴とする＜１＞~＜５＞のいずれか１項記載の製造方法。
＜７＞ アルカリ金属水酸化物が水酸化リチウムであることを特徴とする＜１＞~＜６＞のいずれか１項記載の製造方法。
＜８＞ 炭化水素溶媒が芳香族炭化水素溶媒であることを特徴とする＜１＞~＜７＞のいずれか１項記載の製造方法。
＜９＞ 第２工程が、エーテル溶媒の存在下で、第１工程で脱水処理された混合物、及び、式（２）で表される化合物を反応させる工程であることを特徴とする＜１＞~＜８＞のいずれか記載の製造方法。
＜１０＞ 炭化水素溶媒、及び、下記式
Ａ＋ＯＨ−
（式中、Ａ＋はアルカリ金属カチオンを表す。）
で表されるアルカリ金属水酸化物を含む混合物（但し、下記式（２）で表される化合物を含まない。）を脱水処理する第１工程；
第１工程で脱水処理された混合物、及び、式（２）
（式中、Ａｒは置換基を有していてもよいフェニル基を表わし、Ｒ１は置換基を有していてもよい炭化水素基を表わす。該炭化水素基に含まれる−ＣＨ２−はヘテロ原子またはカルボニル基に置き換わっていてもよい。）
で表される化合物を反応させる第２工程；及び
第２工程で得られる生成物と、式（３）
Ｒ２−Ｏ−ＳＯ２Ｒ３ （３）
（式中、Ｒ２は置換基を有していてもよい炭化水素基を表わし、Ｒ３は置換基を有していてもよいフェニル基又は炭素数１~１０のアルキル基を表わす。）
で表される化合物とを反応させる第３工程を含むことを特徴とする式（１）
（式中、Ａｒ、Ｒ１及びＲ２はそれぞれ前記と同じ意味を表わす。）
で表わされるピラゾリノン誘導体（以下、誘導体（１）と記すことがある）の製造方法。
本発明は、以下の通りである。
＜１＞ 炭化水素溶媒、及び、下記式
Ａ＋ＯＨ−
（式中、Ａ＋はアルカリ金属カチオンを表す。）
で表されるアルカリ金属水酸化物を含む混合物（但し、下記式（２）で表される化合物を含まない。）を脱水処理する第１工程、
並びに、
第１工程で脱水処理された混合物、及び、式（２）
で表される化合物（以下、化合物（２）と記すことがある）を反応させる第２工程
を含むことを特徴とする、式（４）
で表される塩の製造方法。
＜２＞ 第２工程が、第１工程で脱水処理された混合物、及び、式（２）で表される化合物を、脱水しながら反応させる工程であることを特徴とする＜１＞記載の製造方法。
＜３＞ 第２工程が、第１工程で脱水処理された混合物、及び、式（２）で表される化合物を、第２工程の反応液に含まれる水量を０．８重量％以下に調整しながら反応させる工程であることを特徴とする＜２＞記載の製造方法。
＜４＞ 第２工程が、第１工程で脱水処理された混合物、及び、式（２）で表される化合物を、減圧下、２０~１００℃の温度範囲で共沸脱水しながら反応させる工程であることを特徴とする＜２＞又は＜３＞記載の製造方法。
＜５＞ 第１工程で脱水処理された混合物に含まれる水量が０．８重量％以下であることを特徴とする＜１＞~＜４＞のいずれか１項記載の製造方法。
＜６＞ 第１工程が、減圧下、２０~１００℃の温度範囲で共沸脱水する工程であることを特徴とする＜１＞~＜５＞のいずれか１項記載の製造方法。
＜７＞ アルカリ金属水酸化物が水酸化リチウムであることを特徴とする＜１＞~＜６＞のいずれか１項記載の製造方法。
＜８＞ 炭化水素溶媒が芳香族炭化水素溶媒であることを特徴とする＜１＞~＜７＞のいずれか１項記載の製造方法。
＜９＞ 第２工程が、エーテル溶媒の存在下で、第１工程で脱水処理された混合物、及び、式（２）で表される化合物を反応させる工程であることを特徴とする＜１＞~＜８＞のいずれか記載の製造方法。
＜１０＞ 炭化水素溶媒、及び、下記式
Ａ＋ＯＨ−
（式中、Ａ＋はアルカリ金属カチオンを表す。）
で表されるアルカリ金属水酸化物を含む混合物（但し、下記式（２）で表される化合物を含まない。）を脱水処理する第１工程；
第１工程で脱水処理された混合物、及び、式（２）
で表される化合物を反応させる第２工程；及び
第２工程で得られる生成物と、式（３）
Ｒ２−Ｏ−ＳＯ２Ｒ３ （３）
（式中、Ｒ２は置換基を有していてもよい炭化水素基を表わし、Ｒ３は置換基を有していてもよいフェニル基又は炭素数１~１０のアルキル基を表わす。）
で表される化合物とを反応させる第３工程を含むことを特徴とする式（１）
で表わされるピラゾリノン誘導体（以下、誘導体（１）と記すことがある）の製造方法。
式（４）で表される塩（以下、塩（４）と記すことがある）の製造方法について説明する。
塩（４）の製造方法は、第１工程及び第２工程からなる。
第１工程は、炭化水素溶媒、及び、下記式
Ａ＋ＯＨ−
（式中、Ａ＋はアルカリ金属カチオンを表す。）
で表されるアルカリ金属水酸化物を含む混合物（但し、下記式（２）で表される化合物を含まない。）を脱水処理する工程である。
第１工程に用いられる炭化水素溶媒としては、例えばノルマルペンタン、ノルマルヘキサン、ノルマルヘプタン等の脂肪族炭化水素、シクロペンタン、シクロヘキサン等の脂環式炭化水素、及びベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素が挙げられる。第１工程に用いられる炭化水素溶媒としては、好ましくは、芳香族炭化水素が挙げられ、より好ましくは、例えばトルエン及びキシレンが挙げられる。
第１工程における炭化水素溶媒の使用量は、アルカリ金属水酸化物１重量部に対し、通常０．１~１０００重量部、好ましくは１~５０重量部の範囲である。
第１工程は、炭化水素溶媒に加えてエーテル溶媒の存在下で行ってもよい。
第１工程に用いることができるエーテル溶媒としては、例えば、ジエチルエーテルなどの炭素数２~２０のジアルキルエーテル、テトラヒドロフラン、１，３−ジオキサン、１，４−ジオキサン等などの環構成原子数が５~１２の環状エーテル、及びジエチレングルコールジメチルエーテル、ジエチレングルコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル等の炭素数４~１２の（ポリ）アルキレングリコールジアルキルエーテルが挙げられる。第１工程に用いることができるエーテル溶媒としては、好ましくは環構成原子数が５~１２の環状エーテルが挙げられ、より好ましくはテトラヒドロフランが挙げられる。
第１工程にエーテル溶媒を使用する場合、エーテル溶媒の使用量は、炭化水素溶媒１重量部に対し、通常１重量部以下、好ましくは０．２５重量部以下である。
第１工程に用いられるアルカリ金属水酸化物としては、例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、及び水酸化カリウムが挙げられる。第１工程に用いられるアルカリ金属水酸化物としては、好ましくは、水酸化リチウムが挙げられる。アルカリ金属水酸化物は、水溶液でもよく、水和物であってもよい。
炭化水素溶媒が含有する水分、アルカリ金属水酸化物が含有する水分（水和物の水分も含む）及び第１工程の脱水処理に用いられる反応槽などに付着した水分は、第１工程によって脱水処理される。第１工程終了後の混合物（以下、混合物［１］と記すことがある）に含まれる水量は、０．８重量％以下であることが好ましく、０．５重量％以下であることがより好ましい。
第１工程を具体的に説明すると、例えば、アルカリ金属水酸化物及び炭化水素溶媒を含む混合液が存在する反応槽から水を含む炭化水素溶媒を、常圧下または減圧下で、２０℃~１００℃の温度範囲内、好ましくは４０℃~８０℃の温度範囲内で留去し、別途、含水量０．８重量％以下、好ましくは０．５重量％以下に調整された炭化水素溶媒を混合させる方法（以下、Ａ法と記すことがある）、及び該反応槽から前記と同様にして留去された炭化水素溶媒を分液して、水分が低減された炭化水素溶媒を該反応槽に還流させる方法（以下、Ｂ法と記すことがある）が挙げられる。第１工程をＢ法で行う場合、上記温度範囲内で還流させるためには、減圧下で行うことが好ましい。
第１工程で得られる、アルカリ金属水酸化物と炭化水素溶媒含有溶液との混合物に含まれる炭化水素溶媒の含有量は、アルカリ金属水酸化物１重量部に対し、通常０．１~１０００重量部、好ましくは１~５０重量部である。
第１工程の処理時間は、含水量が０．８重量％以下に調整されるまでであれば、特に制限されない。第１工程の処理時間は通常１~２４時間の範囲である。
塩（４）及び誘導体（１）の収率の観点から、第１工程の反応溶液には、化合物（２）を含まれない。第１工程の反応溶液に化合物（２）を含まれないとは、後述する第２工程に用いられる化合物（２）１００重量部に対して、第１工程の反応溶液に含まれる化合物（２）の含有量が、５重量部以下、好ましくは１重量部以下、より好ましくは０．１重量部以下であることを意味する。
第２工程は、第１工程で脱水処理された混合物、及び、式（２）
（式中、Ａｒは置換基を有していてもよいフェニル基を表わし、Ｒ１は置換基を有していてもよい炭化水素基を表わす。該炭化水素基に含まれる−ＣＨ２−はヘテロ原子またはカルボニル基に置き換わっていてもよい。）
で表される化合物、すなわち、化合物（２）を反応させる工程である。
化合物（２）におけるＡｒは、式（５）
で表わされるフェニル基などの置換基を有していてもよいフェニル基を表わす。
式（５）におけるＲ４~Ｒ８は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、ハロアルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、ハロアルコキシ基、アルキルチオ基、ハロアルキルチオ基、シアノ基、ニトロ基、置換基を有していてもよいフェニル基または置換基を有していてもよいフェノキシ基を表すか、あるいは、Ｒ４~Ｒ８のうち隣接する２つが末端で結合して−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ−で示される基、ハロゲン原子を有していてもよいメチレンジオキシ基、または、アルキル基を有していてもよいアルキレン基を表す。該アルキレン基に含まれるメチレン基（−ＣＨ２−）は酸素原子（−Ｏ−）に置き換えられていてもよい。
ここで、Ｒ４~Ｒ８で表わされるハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、及びヨウ素原子があげられる。
Ｒ４~Ｒ８で表わされるアルキル基としては、例えば直鎖状もしくは分枝鎖状の炭素数１~５（以下、Ｃ１~Ｃ５と記すことがある）のアルキル基が挙げられ、具体的には、例えばメチル基、エチル基、ノルマルプロピル基、イソプロピル基、及びｔ−ブチル基があげられる。ハロアルキル基とは、前記アルキル基の水素原子の一部又は全部がハロゲン原子に置き換えられた基を意味する。Ｒ４~Ｒ８で表わされるハロアルキル基としては、例えばハロアルキル基中に１~１１個のハロゲン原子を有する直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ１~Ｃ５アルキル基が挙げられ、具体的には、例えばトリフルオロメチル基、テトラフルオロエチル基、及びヘプタフルオロプロピル基があげられる。
Ｒ４~Ｒ８で表わされるアルコキシ基としては、例えば直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ１~Ｃ５のアルコキシ基が挙げられ、具体的には、例えばメトキシ基、エトキシ基、ノルマルプロピルオキシ基、及びイソプロピルオキシ基があげられる。Ｒ４~Ｒ８で表わされるアルコキシアルコキシ基としては、例えば直鎖状もしくは分枝鎖状の（Ｃ１~Ｃ３）アルコキシ（Ｃ１~Ｃ３）アルコキシ基が挙げられ、具体的には、例えばメトキシメトキシ基があげられる。Ｒ４~Ｒ８で表わされるハロアルコキシ基としては、例えば同一もしくは相異なる１~１１個のハロゲン原子で置換された直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ１~Ｃ５アルコキシ基が挙げられ、具体的には、例えばトリフルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基、及びテトラフルオロエトキシ基があげられる。
Ｒ４~Ｒ８で表わされるアルキルチオ基としては、例えば直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ１~Ｃ５アルキルチオ基が挙げられ、具体的には、例えばメチルチオ基、エチルチオ基があげられる。Ｒ４~Ｒ８で表わされるハロアルキルチオ基としては、例えば同一もしくは相異なる１~１１個のハロゲン原子で置換された直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ１~Ｃ５アルキルチオ基が挙げられ、具体的には、例えばトリフルオロメチルチオ基があげられる。
Ｒ４~Ｒ８で表わされる置換基を有していてもよいフェニル基とは、同一もしくは相異なる置換基を１~５個有していてもよいフェニル基を意味する。Ｒ４~Ｒ８で表わされる置換基を有していてもよいフェノキシ基とは、同一もしくは相異なる置換基を１~５個有していてもよいフェノキシ基を意味しする。フェニル基又はフェノキシ基の置換基としては、例えばハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、及びヨウ素原子）、Ｃ１~Ｃ５アルキル基（例えば、メチル基、及びエチル基）、Ｃ１~Ｃ５アルコキシ基（例えば、メトキシ基、及びエトキシ基）、Ｃ１~Ｃ５アルキルチオ基（例えば、メチルチオ基、及びエチルチオ基）、Ｃ１~Ｃ５ハロアルキル基（例えばトリフルオロメチル基等のＣ１~Ｃ２ハロアルキル基）、Ｃ１~Ｃ５ハロアルコキシ基（例えばトリフルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基等のＣ１~Ｃ２ハロアルコキシ基）、Ｃ１~Ｃ５ハロアルキルチオ基（例えばトリフルオロメチルチオ基等のＣ１~Ｃ２ハロアルキルチオ基）、シアノ基が挙げられる。
Ｒ４~Ｒ８で表わされるハロゲン原子を有していてもよいメチレンジオキシ基としては、例えばメチレンジオキシ基、及びジフルオロメチレンジオキシ基が挙げられる。
Ｒ４~Ｒ８で表わされるアルキル基（例えばメチル基等のＣ１~Ｃ４アルキル基）を有していてもよいアルキレン基（例えばＣ２~Ｃ６アルキレン基）としては、例えばトリメチレン基、及びテトラメチレン基が挙げられる。アルキレン基に含まれるメチレン基が酸素原子に置き換えられたアルキレン基としては、例えば、−ＯＣＨ２ＣＨ２Ｃｌで示される基、及び−ＯＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）Ｃｌで示される基が挙げられる。
Ａｒとしては、好ましくは、フェニル基、ｏ−トリル基、２，６−ジメチルフェニル基、２−クロロフェニル基、２，６−ジクロロフェニル基等があげられる。
Ｒ１で示される置換基を有していてもよい炭化水素基としては、例えば直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ１~Ｃ１０アルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、セカンダリ−ブチル基、２−メチルブチル基、２−エチルプロピル基、及びｔ−ブチル基）；
直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ２~Ｃ１０アルケニル基（例えば、１−メチル−２−プロペニル基）；
直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ２~Ｃ１０アルキニル基（例えば、１−メチル−２−プロピニル基）；
同一もしくは相異なる１~２１個のハロゲン原子で置換された直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ１~Ｃ１０アルキル基；
同一もしくは相異なる１~１９個のハロゲン原子で置換された直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ２~Ｃ１０アルケニル基；
同一もしくは相異なる１~１７個のハロゲン原子で置換された直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ２~Ｃ１０アルキニル基；
直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ１~Ｃ５アルコキシを有するＣ１~Ｃ５アルキル基（例えば、メトキシメチル基、及び１−メトキシエチル基）；
直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ１~Ｃ５アルキルチオ基を有するＣ１~Ｃ５アルキル基（例えば、メチルチオメチル基、及び１−メチルチオエチル基）；
同一もしくは相異なる１~１１個のハロゲン原子を有するＣ１~Ｃ５アルコキシ基を有し、且つ同一もしくは相異なる１~１０個のハロゲン原子を有する直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ１~Ｃ５アルキル基；
同一もしくは相異なる１~１１個のハロゲン原子を有するＣ１~Ｃ５アルキルチオ基を有し、且つ同一もしくは相異なる１~１０個のハロゲン原子を有する直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ１~Ｃ５アルキル基；
シアノ基を有する直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ１~Ｃ５アルキル基（例えば、１−シアノエチル基）；
Ｃ１~Ｃ５アルコキシカルボニル基を有する直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ１~Ｃ５アルキル基（例えば、１−（メトキシカルボニル）エチル基）；
ハロゲン原子を有していてもよく、不飽和結合を含んでもよい、Ｃ３~Ｃ８シクロアルキル基（例えば、シクロヘキシル基、及びシクロペンチル基）；
Ｃ２~Ｃ６アルキルカルボニル基（例えば、アセチル基、プロパノイル基、ブタノイル基、及びペンタノイル基）；
Ｃ３~Ｃ６アルケニルカルボニル基（例えば、３−ブテノイル基）；
Ｃ２~Ｃ６アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、及びプロピルオキシカルボニル基）；
Ｃ３~Ｃ６アルケニルオキシカルボニル基（例えば、アリルオキシカルボニル基）；
Ｃ２~Ｃ６アルキルチオカルボニル基（例えば、メチルチオカルボニル基、エチルチオカルボニル基、及びプロピルチオカルボニル基）；
Ｃ３~Ｃ６アルケニルチオカルボニル基（例えば、アリルチオカルボニル基）；
同一もしくは相異なる置換基を１~５個有していてもよいフェニル基｛該置換基としては、例えば、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、及びヨウ素原子）、Ｃ１~Ｃ５アルキル基（例えば、メチル基、及びエチル基）、Ｃ１~Ｃ５アルコキシ基（例えば、メトキシ基、及びエトキシ基）、Ｃ１~Ｃ５アルキルチオ基（例えば、メチルチオ基、及びエチルチオ基）、Ｃ１~Ｃ５ハロアルキル基（例えば、トリフルオロメチル基等のＣ１~Ｃ２ハロアルキル基）、Ｃ１~Ｃ５ハロアルコキシ基（例えば、トリフルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基等のＣ１~Ｃ２ハロアルコキシ基）、Ｃ１~Ｃ５ハロアルキルチオ基（例えば、トリフルオロメチルチオ基等のＣ１~Ｃ２ハロアルキルチオ基）、シアノ基等があげられる。｝；及び
同一もしくは相異なる置換基を１~５個有していてもよいＣ７~Ｃ１７アラルキル基（例えば、ベンジル基、α−メチルベンジル基、及びα，α−ジメチルベンジル基等）｛該置換基としては、例えば、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、及びヨウ素原子）、Ｃ１~Ｃ５アルキル基（例えば、メチル基、及びエチル基）、Ｃ１~Ｃ５アルコキシ基（例えば、メトキシ基、及びエトキシ基）、Ｃ１~Ｃ５アルキルチオ基（例えば、メチルチオ基、及びエチルチオ基）、Ｃ１~Ｃ５ハロアルキル基（例えばトリフルオロメチル基等のＣ１~Ｃ２ハロアルキル基）、Ｃ１~Ｃ５ハロアルコキシ基（例えば、トリフルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基等のＣ１~Ｃ２ハロアルコキシ基）、Ｃ１~Ｃ５ハロアルキルチオ基（例えば、トリフルオロメチルチオ基等のＣ１~Ｃ２ハロアルキルチオ基）、及びシアノ基があげられる。｝があげられる。
化合物（２）としては、例えば表１記載の化合物が挙げられる。
化合物（２）は、例えば炭化水素溶媒及び／又はエーテル溶媒、好ましくは炭化水素溶媒及びエーテル溶媒の混合溶媒に溶解して混合物［１］に加えられる。この場合に用いられる、炭化水素溶媒及びエーテル溶媒としては、それぞれ前記と同じものが例示される。
第２工程は、炭化水素溶媒とエーテル溶媒との混合溶媒の存在下で行うことが好ましく、炭化水素溶媒とテトラヒドロフランとの混合溶媒の存在下で行うことがより好ましい。
第２工程が炭化水素溶媒及びエーテル溶媒の混合溶媒の存在下で行われる場合炭化水素溶媒及びエーテル溶媒の重量比は、エーテル溶媒１重量部に対し、通常炭化水素溶媒１~５重量部の範囲である。第２工程における炭化水素溶媒の使用量は、化合物（２）１重量部に対し、通常、０．１~１０００重量部の範囲、好ましくは、１~１０重量部の範囲である。
化合物（２）及びアルカリ金属水酸化物が反応することにより水分が生じることから、第２工程は、脱水しながら反応させることが好ましい。具体的には、減圧下、２０~１００℃、好ましくは４０~８０℃の温度範囲で化合物（２）及び混合物［１］を混合させる方法が挙げられる。
塩（４）及び誘導体（１）の収率の観点から、第２工程の反応液は、脱水することにより、０．８重量％以下、好ましくは、０．５重量％以下に調整されていることが好ましい。
また、第２工程において、混合物［１］と化合物（２）とを徐々に混合することにより、第２工程の反応液の含水量を０．８重量％以下、好ましくは、０．５重量％以下に容易に調整できる。
第２工程の反応時間は、混合物［１］の含水量を０．８重量％以下、好ましくは、０．５重量％以下に調整する限り、特に制限されない。第２工程の反応時間は通常１~１８時間の範囲である。
第２工程を具体的に説明すると、例えば、＜２−Ｉ＞炭化水素溶媒を還流脱水させながら、混合物［１］に化合物（２）を混合させる方法；＜２−ＩＩ＞炭化水素溶媒を還流脱水させながら、混合物［１］および化合物（２）を並行して混合する方法；及び＜２−ＩＩＩ＞炭化水素溶媒を還流脱水させながら、化合物（２）を含む溶液に混合物［１］を混合させる方法が挙げられる。本発明の第２工程は、好ましくは＜２−Ｉ＞の方法で行われる。
本発明の第１工程及び第２工程を行うと、式（４）
（式中、Ａ＋、Ａｒ及びＲ１はそれぞれ前記と同じ意味を表わす。）
で表される塩（以下、塩（４）と記すことがある）を含む溶液が得られる。
本発明によれば、化合物（２）のＲ１がカルボニル基のα位の窒素原子に転位した塩、すなわち、式（４’）
（式中、Ａ＋、Ａｒ及びＲ１は前記と同じ意味を表わす。）
で表される塩）の生成が抑制される。
また、塩（４）を含む溶液には、式（４）で表される構造を有する塩のみにとどまらず、式（４”）
（式中、Ａ＋、Ａｒ及びＲ１は前記と同じ意味を表わす。）
で表される構造を有する塩、すなわち、塩（４）の互変異性体も存在すると考えられるが、前述したように、第１工程及び第２工程を行って得られた溶液に水を混合させた場合、化合物（２）を収率よく得られ、該溶液に後述する第３工程を行う場合、誘導体（１）を収率よく製造できる。
塩（４）を含む溶液に、式（３）
Ｒ２−Ｏ−ＳＯ２Ｒ３ （３）
（式中、Ｒ２は置換基を有していてもよい炭化水素基を表わし、Ｒ３は置換基を有していてもよいフェニル基又は炭素数１~１０のアルキル基を表わす。）
で表される化合物（以下、化合物（３）と記すことがある）を反応させる工程（以下、第３工程と記すことがある）を行うことにより、式（１）
（式中、Ａｒ、Ｒ１及びＲ２は前記と同じ意味を表わす。）
で表わされるピラゾリノン誘導体が得られる。
化合物（３）におけるＲ２で表わされる置換基を有していてもよい炭化水素基としては、例えば直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ１~Ｃ１０アルキル基（例えば、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、セカンダリ−ブチル基、２−メチルブチル基、及び２−エチルプロピル基）；
直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ２~Ｃ１０アルケニル基（例えば、１−メチル−２−プロペニル基等）；
直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ２~Ｃ１０アルキニル基（例えば、１−メチル−２−プロピニル基）；
同一もしくは相異なる１~２１個のハロゲン原子を有する直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ１~Ｃ１０アルキル基；
同一もしくは相異なる１~１９個のハロゲン原子を有する直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ２~Ｃ１０アルケニル基；
同一もしくは相異なる１~１７個のハロゲン原子を有する直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ２~Ｃ１０アルキニル基；
直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ１~Ｃ５アルコキシを有するＣ１~Ｃ５アルキル基（例えば、１−メチル−２−メトキシエチル基）；
直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ１~Ｃ５アルキルチオ基を有するＣ１~Ｃ５アルキル基（例えば、１−メチル−２−メチルチオエチル基）；
同一もしくは相異なる１~１１個のハロゲンを有するＣ１~Ｃ５アルコキシ基を有し、且つ同一もしくは相異なる１~１０個のハロゲンで置換された直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ１~Ｃ５アルキル基；
同一もしくは相異なる１~１１個のハロゲンで置換されたＣ１~Ｃ５アルキルチオ基を有し、且つ同一もしくは相異なる１~１０個のハロゲン原子を有する直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ１~Ｃ５アルキル基；
シアノ基で置換された直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ１~Ｃ５アルキル基（例えば、１−メチル−２−シアノエチル基）；
Ｃ１~Ｃ５アルコキシカルボニル基を有する直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ１~Ｃ５アルキル基（例えば、２−メトキシカルボニルエチル基）；
ハロゲン原子を有していてもよく、不飽和結合を含んでもよい、Ｃ３~Ｃ８シクロアルキル基（例えば、シクロヘキシル基、及びシクロペンチル基）；
同一もしくは相異なる置換基で１~５個置換されていてもよいＣ７~Ｃ１７アラルキル基（例えば、ベンジル基、及びα−メチルベンジル基）｛該置換基としては、例えば、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、及びヨウ素原子）、Ｃ１~Ｃ５アルキル基（例えば、メチル基、及びエチル基）、Ｃ１~Ｃ５アルコキシ基（例えば、メトキシ基、及びエトキシ基）、Ｃ１~Ｃ５アルキルチオ基（例えば、メチルチオ基、及びエチルチオ基）、Ｃ１~Ｃ５ハロアルキル基（例えばトリフルオロメチル基等のＣ１~Ｃ２ハロアルキル基）、Ｃ１~Ｃ５ハロアルコキシ基（例えばトリフルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基等のＣ１~Ｃ２ハロアルコキシ基）、Ｃ１~Ｃ５ハロアルキルチオ基（例えばトリフルオロメチルチオ基等のＣ１~Ｃ２ハロアルキルチオ基）、及びシアノ基があげられる。｝があげられる。
Ｒ３で示されるＣ１~Ｃ１０アルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、ノルマルプロピル基、イソプロピル基、及びｔ−ブチル基が挙げられる。Ｒ３で示される置換基を有していてもよいフェニル基としては、例えばフェニル基、２−メチルフェニル基、３−メチルフェニル基、４−メチルフェニル基、２−メトキシフェニル基、３−メトキシフェニル基、４−メトキシフェニル基、２−フルオロフェニル基、３−フルオロフェニル基、４−フルオロフェニル基、２−クロロフェニル基、３−クロロフェニル基、４−クロロフェニル基、２−ブロモフェニル基、３−ブロモフェニル基、及び４−ブロモフェニル基が挙げられる。
化合物（３）としては、例えば表２記載の化合物が挙げられる。
塩（４）と化合物（３）との混合比率としては、塩（４）の調製に用いられた化合物（２）１モルに対し、化合物（３）を、例えば、０．９~１．５モルの範囲である。
第３工程の反応温度は、通常４０℃~１２０℃の範囲、好ましくは６０℃~１００℃の範囲である。
第３工程を具体的に説明すると、例えば＜３−Ｉ＞塩（４）を含む溶液に、化合物（３）を含む溶液を混合する方法；＜３−ＩＩ＞炭化水素溶媒及び／又はエーテル溶媒に、塩（４）を含む溶液および化合物（３）を含む溶液を並行して混合する方法；及び＜３−ＩＩＩ＞化合物（３）を含む溶液に、塩（４）を含む溶液を混合する方法が挙げられる。第３工程は、好ましくは＜３−ＩＩ＞の方法で行われる。
第３工程における反応の進行は、化合物（３）の消費量をガスクロマトグラフィー、高速液体クロマトグラフィー等の手段により確認し、化合物（３）が消費されなくなるまで反応することが好ましい。第３工程の反応時間は、通常５分間~７２時間の範囲である。
第３工程においては、反応によって水分は発生しないが、第３工程の反応系内に水分を添加しないことが好ましい。具体的には、第３工程の反応液に含まれる水量を０．８重量％以下、好ましくは、０．５重量％以下であり、より好ましくは０．３重量％以下である。
誘導体（１）としては、例えば、表３記載の化合物が挙げられる。
本発明によれば、優れた収率で誘導体（１）が得られる。また、前記式（４’）で表される塩の生成が抑制されていることから、第３工程で得られる反応生成物には、誘導体（１）におけるＲ１とＲ２とが入れ替わった不純物の生成が抑制される傾向があることから好ましい。さらに、炭化水素溶媒からエーテル溶媒への置換を行うことなく誘導体（１）を収率よく得られる。
第３工程によって得られた誘導体（１）と炭化水素溶媒とを含む溶液は、例えば、炭化水素溶媒を減圧濃縮などの方法によって誘導体（１）を得られる。得られた誘導体（１）は、再結晶、クロマトグラフィーなどによって、精製してもよい。
塩（４）の製造方法は、第１工程及び第２工程からなる。
第１工程は、炭化水素溶媒、及び、下記式
Ａ＋ＯＨ−
（式中、Ａ＋はアルカリ金属カチオンを表す。）
で表されるアルカリ金属水酸化物を含む混合物（但し、下記式（２）で表される化合物を含まない。）を脱水処理する工程である。
第１工程に用いられる炭化水素溶媒としては、例えばノルマルペンタン、ノルマルヘキサン、ノルマルヘプタン等の脂肪族炭化水素、シクロペンタン、シクロヘキサン等の脂環式炭化水素、及びベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素が挙げられる。第１工程に用いられる炭化水素溶媒としては、好ましくは、芳香族炭化水素が挙げられ、より好ましくは、例えばトルエン及びキシレンが挙げられる。
第１工程における炭化水素溶媒の使用量は、アルカリ金属水酸化物１重量部に対し、通常０．１~１０００重量部、好ましくは１~５０重量部の範囲である。
第１工程は、炭化水素溶媒に加えてエーテル溶媒の存在下で行ってもよい。
第１工程に用いることができるエーテル溶媒としては、例えば、ジエチルエーテルなどの炭素数２~２０のジアルキルエーテル、テトラヒドロフラン、１，３−ジオキサン、１，４−ジオキサン等などの環構成原子数が５~１２の環状エーテル、及びジエチレングルコールジメチルエーテル、ジエチレングルコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル等の炭素数４~１２の（ポリ）アルキレングリコールジアルキルエーテルが挙げられる。第１工程に用いることができるエーテル溶媒としては、好ましくは環構成原子数が５~１２の環状エーテルが挙げられ、より好ましくはテトラヒドロフランが挙げられる。
第１工程にエーテル溶媒を使用する場合、エーテル溶媒の使用量は、炭化水素溶媒１重量部に対し、通常１重量部以下、好ましくは０．２５重量部以下である。
第１工程に用いられるアルカリ金属水酸化物としては、例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、及び水酸化カリウムが挙げられる。第１工程に用いられるアルカリ金属水酸化物としては、好ましくは、水酸化リチウムが挙げられる。アルカリ金属水酸化物は、水溶液でもよく、水和物であってもよい。
炭化水素溶媒が含有する水分、アルカリ金属水酸化物が含有する水分（水和物の水分も含む）及び第１工程の脱水処理に用いられる反応槽などに付着した水分は、第１工程によって脱水処理される。第１工程終了後の混合物（以下、混合物［１］と記すことがある）に含まれる水量は、０．８重量％以下であることが好ましく、０．５重量％以下であることがより好ましい。
第１工程を具体的に説明すると、例えば、アルカリ金属水酸化物及び炭化水素溶媒を含む混合液が存在する反応槽から水を含む炭化水素溶媒を、常圧下または減圧下で、２０℃~１００℃の温度範囲内、好ましくは４０℃~８０℃の温度範囲内で留去し、別途、含水量０．８重量％以下、好ましくは０．５重量％以下に調整された炭化水素溶媒を混合させる方法（以下、Ａ法と記すことがある）、及び該反応槽から前記と同様にして留去された炭化水素溶媒を分液して、水分が低減された炭化水素溶媒を該反応槽に還流させる方法（以下、Ｂ法と記すことがある）が挙げられる。第１工程をＢ法で行う場合、上記温度範囲内で還流させるためには、減圧下で行うことが好ましい。
第１工程で得られる、アルカリ金属水酸化物と炭化水素溶媒含有溶液との混合物に含まれる炭化水素溶媒の含有量は、アルカリ金属水酸化物１重量部に対し、通常０．１~１０００重量部、好ましくは１~５０重量部である。
第１工程の処理時間は、含水量が０．８重量％以下に調整されるまでであれば、特に制限されない。第１工程の処理時間は通常１~２４時間の範囲である。
塩（４）及び誘導体（１）の収率の観点から、第１工程の反応溶液には、化合物（２）を含まれない。第１工程の反応溶液に化合物（２）を含まれないとは、後述する第２工程に用いられる化合物（２）１００重量部に対して、第１工程の反応溶液に含まれる化合物（２）の含有量が、５重量部以下、好ましくは１重量部以下、より好ましくは０．１重量部以下であることを意味する。
第２工程は、第１工程で脱水処理された混合物、及び、式（２）
で表される化合物、すなわち、化合物（２）を反応させる工程である。
化合物（２）におけるＡｒは、式（５）
式（５）におけるＲ４~Ｒ８は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、ハロアルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、ハロアルコキシ基、アルキルチオ基、ハロアルキルチオ基、シアノ基、ニトロ基、置換基を有していてもよいフェニル基または置換基を有していてもよいフェノキシ基を表すか、あるいは、Ｒ４~Ｒ８のうち隣接する２つが末端で結合して−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ−で示される基、ハロゲン原子を有していてもよいメチレンジオキシ基、または、アルキル基を有していてもよいアルキレン基を表す。該アルキレン基に含まれるメチレン基（−ＣＨ２−）は酸素原子（−Ｏ−）に置き換えられていてもよい。
ここで、Ｒ４~Ｒ８で表わされるハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、及びヨウ素原子があげられる。
Ｒ４~Ｒ８で表わされるアルキル基としては、例えば直鎖状もしくは分枝鎖状の炭素数１~５（以下、Ｃ１~Ｃ５と記すことがある）のアルキル基が挙げられ、具体的には、例えばメチル基、エチル基、ノルマルプロピル基、イソプロピル基、及びｔ−ブチル基があげられる。ハロアルキル基とは、前記アルキル基の水素原子の一部又は全部がハロゲン原子に置き換えられた基を意味する。Ｒ４~Ｒ８で表わされるハロアルキル基としては、例えばハロアルキル基中に１~１１個のハロゲン原子を有する直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ１~Ｃ５アルキル基が挙げられ、具体的には、例えばトリフルオロメチル基、テトラフルオロエチル基、及びヘプタフルオロプロピル基があげられる。
Ｒ４~Ｒ８で表わされるアルコキシ基としては、例えば直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ１~Ｃ５のアルコキシ基が挙げられ、具体的には、例えばメトキシ基、エトキシ基、ノルマルプロピルオキシ基、及びイソプロピルオキシ基があげられる。Ｒ４~Ｒ８で表わされるアルコキシアルコキシ基としては、例えば直鎖状もしくは分枝鎖状の（Ｃ１~Ｃ３）アルコキシ（Ｃ１~Ｃ３）アルコキシ基が挙げられ、具体的には、例えばメトキシメトキシ基があげられる。Ｒ４~Ｒ８で表わされるハロアルコキシ基としては、例えば同一もしくは相異なる１~１１個のハロゲン原子で置換された直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ１~Ｃ５アルコキシ基が挙げられ、具体的には、例えばトリフルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基、及びテトラフルオロエトキシ基があげられる。
Ｒ４~Ｒ８で表わされるアルキルチオ基としては、例えば直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ１~Ｃ５アルキルチオ基が挙げられ、具体的には、例えばメチルチオ基、エチルチオ基があげられる。Ｒ４~Ｒ８で表わされるハロアルキルチオ基としては、例えば同一もしくは相異なる１~１１個のハロゲン原子で置換された直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ１~Ｃ５アルキルチオ基が挙げられ、具体的には、例えばトリフルオロメチルチオ基があげられる。
Ｒ４~Ｒ８で表わされる置換基を有していてもよいフェニル基とは、同一もしくは相異なる置換基を１~５個有していてもよいフェニル基を意味する。Ｒ４~Ｒ８で表わされる置換基を有していてもよいフェノキシ基とは、同一もしくは相異なる置換基を１~５個有していてもよいフェノキシ基を意味しする。フェニル基又はフェノキシ基の置換基としては、例えばハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、及びヨウ素原子）、Ｃ１~Ｃ５アルキル基（例えば、メチル基、及びエチル基）、Ｃ１~Ｃ５アルコキシ基（例えば、メトキシ基、及びエトキシ基）、Ｃ１~Ｃ５アルキルチオ基（例えば、メチルチオ基、及びエチルチオ基）、Ｃ１~Ｃ５ハロアルキル基（例えばトリフルオロメチル基等のＣ１~Ｃ２ハロアルキル基）、Ｃ１~Ｃ５ハロアルコキシ基（例えばトリフルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基等のＣ１~Ｃ２ハロアルコキシ基）、Ｃ１~Ｃ５ハロアルキルチオ基（例えばトリフルオロメチルチオ基等のＣ１~Ｃ２ハロアルキルチオ基）、シアノ基が挙げられる。
Ｒ４~Ｒ８で表わされるハロゲン原子を有していてもよいメチレンジオキシ基としては、例えばメチレンジオキシ基、及びジフルオロメチレンジオキシ基が挙げられる。
Ｒ４~Ｒ８で表わされるアルキル基（例えばメチル基等のＣ１~Ｃ４アルキル基）を有していてもよいアルキレン基（例えばＣ２~Ｃ６アルキレン基）としては、例えばトリメチレン基、及びテトラメチレン基が挙げられる。アルキレン基に含まれるメチレン基が酸素原子に置き換えられたアルキレン基としては、例えば、−ＯＣＨ２ＣＨ２Ｃｌで示される基、及び−ＯＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）Ｃｌで示される基が挙げられる。
Ａｒとしては、好ましくは、フェニル基、ｏ−トリル基、２，６−ジメチルフェニル基、２−クロロフェニル基、２，６−ジクロロフェニル基等があげられる。
Ｒ１で示される置換基を有していてもよい炭化水素基としては、例えば直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ１~Ｃ１０アルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、セカンダリ−ブチル基、２−メチルブチル基、２−エチルプロピル基、及びｔ−ブチル基）；
直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ２~Ｃ１０アルケニル基（例えば、１−メチル−２−プロペニル基）；
直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ２~Ｃ１０アルキニル基（例えば、１−メチル−２−プロピニル基）；
同一もしくは相異なる１~２１個のハロゲン原子で置換された直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ１~Ｃ１０アルキル基；
同一もしくは相異なる１~１９個のハロゲン原子で置換された直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ２~Ｃ１０アルケニル基；
同一もしくは相異なる１~１７個のハロゲン原子で置換された直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ２~Ｃ１０アルキニル基；
直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ１~Ｃ５アルコキシを有するＣ１~Ｃ５アルキル基（例えば、メトキシメチル基、及び１−メトキシエチル基）；
直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ１~Ｃ５アルキルチオ基を有するＣ１~Ｃ５アルキル基（例えば、メチルチオメチル基、及び１−メチルチオエチル基）；
同一もしくは相異なる１~１１個のハロゲン原子を有するＣ１~Ｃ５アルコキシ基を有し、且つ同一もしくは相異なる１~１０個のハロゲン原子を有する直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ１~Ｃ５アルキル基；
同一もしくは相異なる１~１１個のハロゲン原子を有するＣ１~Ｃ５アルキルチオ基を有し、且つ同一もしくは相異なる１~１０個のハロゲン原子を有する直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ１~Ｃ５アルキル基；
シアノ基を有する直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ１~Ｃ５アルキル基（例えば、１−シアノエチル基）；
Ｃ１~Ｃ５アルコキシカルボニル基を有する直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ１~Ｃ５アルキル基（例えば、１−（メトキシカルボニル）エチル基）；
ハロゲン原子を有していてもよく、不飽和結合を含んでもよい、Ｃ３~Ｃ８シクロアルキル基（例えば、シクロヘキシル基、及びシクロペンチル基）；
Ｃ２~Ｃ６アルキルカルボニル基（例えば、アセチル基、プロパノイル基、ブタノイル基、及びペンタノイル基）；
Ｃ３~Ｃ６アルケニルカルボニル基（例えば、３−ブテノイル基）；
Ｃ２~Ｃ６アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、及びプロピルオキシカルボニル基）；
Ｃ３~Ｃ６アルケニルオキシカルボニル基（例えば、アリルオキシカルボニル基）；
Ｃ２~Ｃ６アルキルチオカルボニル基（例えば、メチルチオカルボニル基、エチルチオカルボニル基、及びプロピルチオカルボニル基）；
Ｃ３~Ｃ６アルケニルチオカルボニル基（例えば、アリルチオカルボニル基）；
同一もしくは相異なる置換基を１~５個有していてもよいフェニル基｛該置換基としては、例えば、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、及びヨウ素原子）、Ｃ１~Ｃ５アルキル基（例えば、メチル基、及びエチル基）、Ｃ１~Ｃ５アルコキシ基（例えば、メトキシ基、及びエトキシ基）、Ｃ１~Ｃ５アルキルチオ基（例えば、メチルチオ基、及びエチルチオ基）、Ｃ１~Ｃ５ハロアルキル基（例えば、トリフルオロメチル基等のＣ１~Ｃ２ハロアルキル基）、Ｃ１~Ｃ５ハロアルコキシ基（例えば、トリフルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基等のＣ１~Ｃ２ハロアルコキシ基）、Ｃ１~Ｃ５ハロアルキルチオ基（例えば、トリフルオロメチルチオ基等のＣ１~Ｃ２ハロアルキルチオ基）、シアノ基等があげられる。｝；及び
同一もしくは相異なる置換基を１~５個有していてもよいＣ７~Ｃ１７アラルキル基（例えば、ベンジル基、α−メチルベンジル基、及びα，α−ジメチルベンジル基等）｛該置換基としては、例えば、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、及びヨウ素原子）、Ｃ１~Ｃ５アルキル基（例えば、メチル基、及びエチル基）、Ｃ１~Ｃ５アルコキシ基（例えば、メトキシ基、及びエトキシ基）、Ｃ１~Ｃ５アルキルチオ基（例えば、メチルチオ基、及びエチルチオ基）、Ｃ１~Ｃ５ハロアルキル基（例えばトリフルオロメチル基等のＣ１~Ｃ２ハロアルキル基）、Ｃ１~Ｃ５ハロアルコキシ基（例えば、トリフルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基等のＣ１~Ｃ２ハロアルコキシ基）、Ｃ１~Ｃ５ハロアルキルチオ基（例えば、トリフルオロメチルチオ基等のＣ１~Ｃ２ハロアルキルチオ基）、及びシアノ基があげられる。｝があげられる。
化合物（２）としては、例えば表１記載の化合物が挙げられる。
第２工程は、炭化水素溶媒とエーテル溶媒との混合溶媒の存在下で行うことが好ましく、炭化水素溶媒とテトラヒドロフランとの混合溶媒の存在下で行うことがより好ましい。
第２工程が炭化水素溶媒及びエーテル溶媒の混合溶媒の存在下で行われる場合炭化水素溶媒及びエーテル溶媒の重量比は、エーテル溶媒１重量部に対し、通常炭化水素溶媒１~５重量部の範囲である。第２工程における炭化水素溶媒の使用量は、化合物（２）１重量部に対し、通常、０．１~１０００重量部の範囲、好ましくは、１~１０重量部の範囲である。
化合物（２）及びアルカリ金属水酸化物が反応することにより水分が生じることから、第２工程は、脱水しながら反応させることが好ましい。具体的には、減圧下、２０~１００℃、好ましくは４０~８０℃の温度範囲で化合物（２）及び混合物［１］を混合させる方法が挙げられる。
塩（４）及び誘導体（１）の収率の観点から、第２工程の反応液は、脱水することにより、０．８重量％以下、好ましくは、０．５重量％以下に調整されていることが好ましい。
また、第２工程において、混合物［１］と化合物（２）とを徐々に混合することにより、第２工程の反応液の含水量を０．８重量％以下、好ましくは、０．５重量％以下に容易に調整できる。
第２工程の反応時間は、混合物［１］の含水量を０．８重量％以下、好ましくは、０．５重量％以下に調整する限り、特に制限されない。第２工程の反応時間は通常１~１８時間の範囲である。
第２工程を具体的に説明すると、例えば、＜２−Ｉ＞炭化水素溶媒を還流脱水させながら、混合物［１］に化合物（２）を混合させる方法；＜２−ＩＩ＞炭化水素溶媒を還流脱水させながら、混合物［１］および化合物（２）を並行して混合する方法；及び＜２−ＩＩＩ＞炭化水素溶媒を還流脱水させながら、化合物（２）を含む溶液に混合物［１］を混合させる方法が挙げられる。本発明の第２工程は、好ましくは＜２−Ｉ＞の方法で行われる。
本発明の第１工程及び第２工程を行うと、式（４）
で表される塩（以下、塩（４）と記すことがある）を含む溶液が得られる。
本発明によれば、化合物（２）のＲ１がカルボニル基のα位の窒素原子に転位した塩、すなわち、式（４’）
で表される塩）の生成が抑制される。
また、塩（４）を含む溶液には、式（４）で表される構造を有する塩のみにとどまらず、式（４”）
で表される構造を有する塩、すなわち、塩（４）の互変異性体も存在すると考えられるが、前述したように、第１工程及び第２工程を行って得られた溶液に水を混合させた場合、化合物（２）を収率よく得られ、該溶液に後述する第３工程を行う場合、誘導体（１）を収率よく製造できる。
塩（４）を含む溶液に、式（３）
Ｒ２−Ｏ−ＳＯ２Ｒ３ （３）
（式中、Ｒ２は置換基を有していてもよい炭化水素基を表わし、Ｒ３は置換基を有していてもよいフェニル基又は炭素数１~１０のアルキル基を表わす。）
で表される化合物（以下、化合物（３）と記すことがある）を反応させる工程（以下、第３工程と記すことがある）を行うことにより、式（１）
で表わされるピラゾリノン誘導体が得られる。
化合物（３）におけるＲ２で表わされる置換基を有していてもよい炭化水素基としては、例えば直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ１~Ｃ１０アルキル基（例えば、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、セカンダリ−ブチル基、２−メチルブチル基、及び２−エチルプロピル基）；
直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ２~Ｃ１０アルケニル基（例えば、１−メチル−２−プロペニル基等）；
直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ２~Ｃ１０アルキニル基（例えば、１−メチル−２−プロピニル基）；
同一もしくは相異なる１~２１個のハロゲン原子を有する直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ１~Ｃ１０アルキル基；
同一もしくは相異なる１~１９個のハロゲン原子を有する直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ２~Ｃ１０アルケニル基；
同一もしくは相異なる１~１７個のハロゲン原子を有する直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ２~Ｃ１０アルキニル基；
直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ１~Ｃ５アルコキシを有するＣ１~Ｃ５アルキル基（例えば、１−メチル−２−メトキシエチル基）；
直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ１~Ｃ５アルキルチオ基を有するＣ１~Ｃ５アルキル基（例えば、１−メチル−２−メチルチオエチル基）；
同一もしくは相異なる１~１１個のハロゲンを有するＣ１~Ｃ５アルコキシ基を有し、且つ同一もしくは相異なる１~１０個のハロゲンで置換された直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ１~Ｃ５アルキル基；
同一もしくは相異なる１~１１個のハロゲンで置換されたＣ１~Ｃ５アルキルチオ基を有し、且つ同一もしくは相異なる１~１０個のハロゲン原子を有する直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ１~Ｃ５アルキル基；
シアノ基で置換された直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ１~Ｃ５アルキル基（例えば、１−メチル−２−シアノエチル基）；
Ｃ１~Ｃ５アルコキシカルボニル基を有する直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ１~Ｃ５アルキル基（例えば、２−メトキシカルボニルエチル基）；
ハロゲン原子を有していてもよく、不飽和結合を含んでもよい、Ｃ３~Ｃ８シクロアルキル基（例えば、シクロヘキシル基、及びシクロペンチル基）；
同一もしくは相異なる置換基で１~５個置換されていてもよいＣ７~Ｃ１７アラルキル基（例えば、ベンジル基、及びα−メチルベンジル基）｛該置換基としては、例えば、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、及びヨウ素原子）、Ｃ１~Ｃ５アルキル基（例えば、メチル基、及びエチル基）、Ｃ１~Ｃ５アルコキシ基（例えば、メトキシ基、及びエトキシ基）、Ｃ１~Ｃ５アルキルチオ基（例えば、メチルチオ基、及びエチルチオ基）、Ｃ１~Ｃ５ハロアルキル基（例えばトリフルオロメチル基等のＣ１~Ｃ２ハロアルキル基）、Ｃ１~Ｃ５ハロアルコキシ基（例えばトリフルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基等のＣ１~Ｃ２ハロアルコキシ基）、Ｃ１~Ｃ５ハロアルキルチオ基（例えばトリフルオロメチルチオ基等のＣ１~Ｃ２ハロアルキルチオ基）、及びシアノ基があげられる。｝があげられる。
Ｒ３で示されるＣ１~Ｃ１０アルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、ノルマルプロピル基、イソプロピル基、及びｔ−ブチル基が挙げられる。Ｒ３で示される置換基を有していてもよいフェニル基としては、例えばフェニル基、２−メチルフェニル基、３−メチルフェニル基、４−メチルフェニル基、２−メトキシフェニル基、３−メトキシフェニル基、４−メトキシフェニル基、２−フルオロフェニル基、３−フルオロフェニル基、４−フルオロフェニル基、２−クロロフェニル基、３−クロロフェニル基、４−クロロフェニル基、２−ブロモフェニル基、３−ブロモフェニル基、及び４−ブロモフェニル基が挙げられる。
化合物（３）としては、例えば表２記載の化合物が挙げられる。
第３工程の反応温度は、通常４０℃~１２０℃の範囲、好ましくは６０℃~１００℃の範囲である。
第３工程を具体的に説明すると、例えば＜３−Ｉ＞塩（４）を含む溶液に、化合物（３）を含む溶液を混合する方法；＜３−ＩＩ＞炭化水素溶媒及び／又はエーテル溶媒に、塩（４）を含む溶液および化合物（３）を含む溶液を並行して混合する方法；及び＜３−ＩＩＩ＞化合物（３）を含む溶液に、塩（４）を含む溶液を混合する方法が挙げられる。第３工程は、好ましくは＜３−ＩＩ＞の方法で行われる。
第３工程における反応の進行は、化合物（３）の消費量をガスクロマトグラフィー、高速液体クロマトグラフィー等の手段により確認し、化合物（３）が消費されなくなるまで反応することが好ましい。第３工程の反応時間は、通常５分間~７２時間の範囲である。
第３工程においては、反応によって水分は発生しないが、第３工程の反応系内に水分を添加しないことが好ましい。具体的には、第３工程の反応液に含まれる水量を０．８重量％以下、好ましくは、０．５重量％以下であり、より好ましくは０．３重量％以下である。
誘導体（１）としては、例えば、表３記載の化合物が挙げられる。
第３工程によって得られた誘導体（１）と炭化水素溶媒とを含む溶液は、例えば、炭化水素溶媒を減圧濃縮などの方法によって誘導体（１）を得られる。得られた誘導体（１）は、再結晶、クロマトグラフィーなどによって、精製してもよい。
以下、本発明を実施例に基づいて更に詳細に説明する。実施例、参考例中の「％」及び「部」は、特記ない限り、重量％及び重量部である。反応液の含水量はカールフィシャー法で求めた。
（実施例１）
第１工程は、図１の装置（１０）を用いておこなった。まず、図１を説明する。反応槽（１）には、加熱し得るようにジャケットが具備されている。反応槽（１）には、配管（２）を介して凝縮器（３）が接続され、凝縮器（３）には配管（４）を介して分離器（９）が接続されている。分離器（９）の上層（６）と反応槽（１）とは配管（５）を介して接続されている。
［第１工程］
反応槽（１）に、キシレン１５９重量部、水酸化リチウム一水和物１２．１重量部を仕込み、ゲージ圧が約１０ｋＰａとなるまで減圧した。次に、反応槽（１）内のキシレン溶液が約６７℃になるまで昇温したところ、水とキシレンとの共沸蒸気が配管（２）を経由して凝縮器（３）で冷却され、分離器（９）に移送された。分離器（９）内で分液されたキシレンは配管（５）を介して反応槽（１）に還流された。分離器（９）の下層（７）からは４．７重量部の水が回収された。
反応槽（１）内の混合物［１］の含水量は０．１９重量％であった。
［第２工程］
次に、５−アミノ−３−オキソ−４−Ｏ−トリル−２，３−ジヒドロピラゾール−１−チオカルボン酸Ｓ−アリルエステル（表１における化合物番号（２−１）で表される化合物）８０重量部、キシレン２４０重量部、テトラヒドロフラン８０重量部を含む溶液を、反応槽（１）内の混合物［１］に、１１時間かけて配管（８）から滴下した。滴下中、水とキシレンとの共沸蒸気が配管（２）を経由して凝縮器（３）で冷却され、分離器（９）に移送された。分離器（９）の下層（７）からは４．７重量部の水が回収された。
反応槽（１）内から１時間ごとにサンプリングして含水量を求めたところ、０．１９~０．２２重量％であった。
滴下終了後の溶液［２］をサンプリングし、当該サンプルに水を加えて液体クロマトグラフィで測定したところ、化合物（２）に相当する５−アミノ−３−オキソ−４−Ｏ−トリル−２，３−ジヒドロピラゾール−１−チオカルボン酸Ｓ−アリルエステルを１００％（クロマトグラフの面積）とし、５−アミノ−３−オキソ−４−Ｏ−トリル−２，３−ジヒドロピラゾール−２−チオカルボン酸Ｓ−アリルエステル（式（１）におけるＡｒが２−メチルフェニル基、Ｒ１が水素原子、Ｒ２がＣＨ２＝ＣＨ−ＣＨ２−Ｓ−Ｃ（＝Ｏ）−である化合物、すなわち、式（４’）で表される化合物の窒素アニオンがＮＨとなった化合物）は１．７２％（クロマトグラフの面積）であった。リチウムカチオンは、化合物（２）のカルボニル基のα位の窒素原子に結合した水素原子に選択的に置換されていることがわかる。
［第３工程］
前記反応槽（１）及び（１’）とは異なるが同形の反応槽（１”）に、テトラヒドロフラン２４１重量部を仕込み８５℃まで昇温させ、還流させた。次に、反応槽（１”）に第２工程で得られた溶液［２］ ２７３重量部（５−アミノ−３−オキソ−４−Ｏ−トリル−２，３−ジヒドロピラゾール−１−チオカルボン酸Ｓ−アリルエステルとして８４重量部）とメタンスルホン酸イソプロピルエステル５１．９重量部を含むキシレン溶液とを１．５時間かけて滴下し、さらに、同温度にて２０時間還流させた。
得られた反応溶液を液体クロマトグラフィ（内部標準法）で定量したところ、５−アミノ−２−イソプロピル−３−オキソ−４−Ｏ−トリル−２，３−ジヒドロピラゾール−１−チオカルボン酸Ｓ−アリルエステル（式（１）におけるＡｒが２−メチルフェニル基、Ｒ１がイソプロピル基、Ｒ２がＣＨ２＝ＣＨ−ＣＨ２−Ｓ−Ｃ（＝Ｏ）−。表３における化合物番号（１−１）で表される化合物）の収率は８２．３％であった。
（参考例１）
還流冷却器を具備する反応槽に、キシレン５００重量部及び５−アミノ−３−オキソ−４−Ｏ−トリル−２，３−ジヒドロピラゾール−１−チオカルボン酸Ｓ−アリルエステル１０５重量部を入れ、得られた混合物を約７８℃まで昇温した。該混合物が沸騰するまで減圧した後、キシレンを留去しながら、水酸化リチウム一水和物１５．２重量部を加えた。得られた反応液は、さらに同温度にて４時間かけてキシレンの留去（キシレンの留去量としては３６０重量部）を行った。
得られた反応液に水を加えて液体クロマトグラフィで測定したところ、化合物（２）に相当する５−アミノ−３−オキソ−４−Ｏ−トリル−２，３−ジヒドロピラゾール−１−チオカルボン酸Ｓ−アリルエステルを１００％（クロマトグラフの面積）とし、５−アミノ−３−オキソ−４−Ｏ−トリル−２，３−ジヒドロピラゾール−２−チオカルボン酸Ｓ−アリルエステル（式（１）におけるＡｒが２−メチルフェニル基、Ｒ１が水素原子、Ｒ２がＣＨ２＝ＣＨ−ＣＨ２−Ｓ−Ｃ（＝Ｏ）−である化合物、式（４’）で表される化合物の窒素アニオンがＮＨとなった化合物に相当）は１６．７％（クロマトグラフィの面積）であった。キシレンを留去した場合、化合物（２）におけるカルボニル基のβ位に結合したＣＨ２＝ＣＨ−ＣＨ２−Ｓ−Ｃ（＝Ｏ）−が、カルボニル基のα位に多く転位したことがわかる。
（実施例１）
第１工程は、図１の装置（１０）を用いておこなった。まず、図１を説明する。反応槽（１）には、加熱し得るようにジャケットが具備されている。反応槽（１）には、配管（２）を介して凝縮器（３）が接続され、凝縮器（３）には配管（４）を介して分離器（９）が接続されている。分離器（９）の上層（６）と反応槽（１）とは配管（５）を介して接続されている。
［第１工程］
反応槽（１）に、キシレン１５９重量部、水酸化リチウム一水和物１２．１重量部を仕込み、ゲージ圧が約１０ｋＰａとなるまで減圧した。次に、反応槽（１）内のキシレン溶液が約６７℃になるまで昇温したところ、水とキシレンとの共沸蒸気が配管（２）を経由して凝縮器（３）で冷却され、分離器（９）に移送された。分離器（９）内で分液されたキシレンは配管（５）を介して反応槽（１）に還流された。分離器（９）の下層（７）からは４．７重量部の水が回収された。
反応槽（１）内の混合物［１］の含水量は０．１９重量％であった。
［第２工程］
次に、５−アミノ−３−オキソ−４−Ｏ−トリル−２，３−ジヒドロピラゾール−１−チオカルボン酸Ｓ−アリルエステル（表１における化合物番号（２−１）で表される化合物）８０重量部、キシレン２４０重量部、テトラヒドロフラン８０重量部を含む溶液を、反応槽（１）内の混合物［１］に、１１時間かけて配管（８）から滴下した。滴下中、水とキシレンとの共沸蒸気が配管（２）を経由して凝縮器（３）で冷却され、分離器（９）に移送された。分離器（９）の下層（７）からは４．７重量部の水が回収された。
反応槽（１）内から１時間ごとにサンプリングして含水量を求めたところ、０．１９~０．２２重量％であった。
滴下終了後の溶液［２］をサンプリングし、当該サンプルに水を加えて液体クロマトグラフィで測定したところ、化合物（２）に相当する５−アミノ−３−オキソ−４−Ｏ−トリル−２，３−ジヒドロピラゾール−１−チオカルボン酸Ｓ−アリルエステルを１００％（クロマトグラフの面積）とし、５−アミノ−３−オキソ−４−Ｏ−トリル−２，３−ジヒドロピラゾール−２−チオカルボン酸Ｓ−アリルエステル（式（１）におけるＡｒが２−メチルフェニル基、Ｒ１が水素原子、Ｒ２がＣＨ２＝ＣＨ−ＣＨ２−Ｓ−Ｃ（＝Ｏ）−である化合物、すなわち、式（４’）で表される化合物の窒素アニオンがＮＨとなった化合物）は１．７２％（クロマトグラフの面積）であった。リチウムカチオンは、化合物（２）のカルボニル基のα位の窒素原子に結合した水素原子に選択的に置換されていることがわかる。
［第３工程］
前記反応槽（１）及び（１’）とは異なるが同形の反応槽（１”）に、テトラヒドロフラン２４１重量部を仕込み８５℃まで昇温させ、還流させた。次に、反応槽（１”）に第２工程で得られた溶液［２］ ２７３重量部（５−アミノ−３−オキソ−４−Ｏ−トリル−２，３−ジヒドロピラゾール−１−チオカルボン酸Ｓ−アリルエステルとして８４重量部）とメタンスルホン酸イソプロピルエステル５１．９重量部を含むキシレン溶液とを１．５時間かけて滴下し、さらに、同温度にて２０時間還流させた。
得られた反応溶液を液体クロマトグラフィ（内部標準法）で定量したところ、５−アミノ−２−イソプロピル−３−オキソ−４−Ｏ−トリル−２，３−ジヒドロピラゾール−１−チオカルボン酸Ｓ−アリルエステル（式（１）におけるＡｒが２−メチルフェニル基、Ｒ１がイソプロピル基、Ｒ２がＣＨ２＝ＣＨ−ＣＨ２−Ｓ−Ｃ（＝Ｏ）−。表３における化合物番号（１−１）で表される化合物）の収率は８２．３％であった。
（参考例１）
還流冷却器を具備する反応槽に、キシレン５００重量部及び５−アミノ−３−オキソ−４−Ｏ−トリル−２，３−ジヒドロピラゾール−１−チオカルボン酸Ｓ−アリルエステル１０５重量部を入れ、得られた混合物を約７８℃まで昇温した。該混合物が沸騰するまで減圧した後、キシレンを留去しながら、水酸化リチウム一水和物１５．２重量部を加えた。得られた反応液は、さらに同温度にて４時間かけてキシレンの留去（キシレンの留去量としては３６０重量部）を行った。
得られた反応液に水を加えて液体クロマトグラフィで測定したところ、化合物（２）に相当する５−アミノ−３−オキソ−４−Ｏ−トリル−２，３−ジヒドロピラゾール−１−チオカルボン酸Ｓ−アリルエステルを１００％（クロマトグラフの面積）とし、５−アミノ−３−オキソ−４−Ｏ−トリル−２，３−ジヒドロピラゾール−２−チオカルボン酸Ｓ−アリルエステル（式（１）におけるＡｒが２−メチルフェニル基、Ｒ１が水素原子、Ｒ２がＣＨ２＝ＣＨ−ＣＨ２−Ｓ−Ｃ（＝Ｏ）−である化合物、式（４’）で表される化合物の窒素アニオンがＮＨとなった化合物に相当）は１６．７％（クロマトグラフィの面積）であった。キシレンを留去した場合、化合物（２）におけるカルボニル基のβ位に結合したＣＨ２＝ＣＨ−ＣＨ２−Ｓ−Ｃ（＝Ｏ）−が、カルボニル基のα位に多く転位したことがわかる。
本発明は、誘導体（１）を優れた収率で製造できる方法として、産業上利用可能である。
（１） 反応槽
（２） 反応槽（１）から凝縮器（３）への配管
（３） 凝縮器
（４） 凝縮器（３）から分離器（９）への配管
（５） 分離器（９）の上層（６）から反応槽（１）への配管
（６） 分離器（９）の上層、実施例ではキシレン層
（７） 分離器（９）の下層、実施例では水層
（８） 反応槽（１）への仕込み用配管
（９） 分離器
（１０）反応装置
（２） 反応槽（１）から凝縮器（３）への配管
（３） 凝縮器
（４） 凝縮器（３）から分離器（９）への配管
（５） 分離器（９）の上層（６）から反応槽（１）への配管
（６） 分離器（９）の上層、実施例ではキシレン層
（７） 分離器（９）の下層、実施例では水層
（８） 反応槽（１）への仕込み用配管
（９） 分離器
（１０）反応装置
Claims (10)
- 炭化水素溶媒、及び、下記式
Ａ＋ＯＨ−
（式中、Ａ＋はアルカリ金属カチオンを表す。）
で表されるアルカリ金属水酸化物を含む混合物（但し、下記式（２）で表される化合物を含まない。）を脱水処理する第１工程、
並びに、
第１工程で脱水処理された混合物、及び、式（２）
（式中、Ａｒは置換基を有していてもよいフェニル基を表わし、Ｒ１は置換基を有していてもよい炭化水素基を表わす。該炭化水素基に含まれる−ＣＨ２−はヘテロ原子またはカルボニル基に置き換わっていてもよい。）
で表される化合物を反応させる第２工程
を含むことを特徴とする、式（４）
（式中、Ａ＋、Ａｒ及びＲ１はそれぞれ前記と同じ意味を表わす。）
で表される塩の製造方法。 - 第２工程が、第１工程で脱水処理された混合物、及び、式（２）で表される化合物を、脱水しながら反応させる工程であることを特徴とする請求項１記載の製造方法。
- 第２工程が、第１工程で脱水処理された混合物、及び、式（２）で表される化合物を、第２工程の反応液に含まれる水量を０．８重量％以下に調整しながら反応させる工程であることを特徴とする請求項２記載の製造方法。
- 第２工程が、第１工程で脱水処理された混合物、及び、式（２）で表される化合物を、減圧下、２０~１００℃の温度範囲で共沸脱水しながら反応させる工程であることを特徴とする請求項２又は３記載の製造方法。
- 第１工程で脱水処理された混合物に含まれる水量が０．８重量％以下であることを特徴とする請求項１~４のいずれか１項記載の製造方法。
- 第１工程が、減圧下、２０~１００℃の温度範囲で共沸脱水する工程であることを特徴とする請求項１~５のいずれか記載の製造方法。
- アルカリ金属水酸化物が水酸化リチウムであることを特徴とする請求項１~６のいずれか１項記載の製造方法。
- 炭化水素溶媒が芳香族炭化水素溶媒であることを特徴とする請求項１~７のいずれか１項記載の製造方法。
- 第２工程が、エーテル溶媒の存在下で、第１工程で脱水処理された混合物、及び、式（２）で表される化合物を反応させる工程であることを特徴とする請求項１~８のいずれか１項記載の製造方法。
- 炭化水素溶媒、及び、下記式
Ａ＋ＯＨ−
（式中、Ａ＋はアルカリ金属カチオンを表す。）
で表されるアルカリ金属水酸化物を含む混合物（但し、下記式（２）で表される化合物を含まない。）を脱水処理する第１工程；
第１工程で脱水処理された混合物、及び、式（２）
（式中、Ａｒは置換基を有していてもよいフェニル基を表わし、Ｒ１は置換基を有していてもよい炭化水素基を表わす。該炭化水素基に含まれる−ＣＨ２−はヘテロ原子またはカルボニル基に置き換わっていてもよい。）
で表される化合物を反応させる第２工程；及び
第２工程で得られる生成物と、式（３）
Ｒ２−Ｏ−ＳＯ２Ｒ３ （３）
（式中、Ｒ２は置換基を有していてもよい炭化水素基を表わし、Ｒ３は置換基を有していてもよいフェニル基又は炭素数１~１０のアルキル基を表わす。）
で表される化合物とを反応させる第３工程を含むことを特徴とする式（１）
（式中、Ａｒ、Ｒ１及びＲ２はそれぞれ前記と同じ意味を表わす。）
で表わされるピラゾリノン誘導体の製造方法。
Priority Applications (8)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020137014755A KR101867639B1 (ko) | 2010-11-12 | 2011-11-01 | 피라졸리논염의 제조 방법 |
| CN201180053786.8A CN103209965B (zh) | 2010-11-12 | 2011-11-01 | 吡唑啉酮盐的制造方法 |
| AU2011327253A AU2011327253B2 (en) | 2010-11-12 | 2011-11-01 | Method for producing pyrazolinone salt |
| US13/881,199 US8921574B2 (en) | 2010-11-12 | 2011-11-01 | Method for producing pyrazolinone salt |
| BR112013011753-2A BR112013011753B1 (pt) | 2010-11-12 | 2011-11-01 | Process for production of salt pyrazolinone |
| EP11839486.5A EP2639225A4 (en) | 2010-11-12 | 2011-11-01 | PROCESS FOR PRODUCING PYRAZOLINONE SALT |
| ZA2013/02947A ZA201302947B (en) | 2010-11-12 | 2013-04-23 | Method for producing pyrazolinone salt |
| IL225979A IL225979A (en) | 2010-11-12 | 2013-04-25 | METHOD FOR PRODUCING PIERAZOLINEAN SALT |
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2010-253567 | 2010-11-12 | ||
| JP2010253567 | 2010-11-12 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| WO2012063791A1 true WO2012063791A1 (ja) | 2012-05-18 |
Family
ID=46050935
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PCT/JP2011/075648 WO2012063791A1 (ja) | 2010-11-12 | 2011-11-01 | ピラゾリノン塩の製造方法 |
Country Status (12)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US8921574B2 (ja) |
| EP (1) | EP2639225A4 (ja) |
| JP (1) | JP5811736B2 (ja) |
| KR (1) | KR101867639B1 (ja) |
| CN (1) | CN103209965B (ja) |
| AU (1) | AU2011327253B2 (ja) |
| BR (1) | BR112013011753B1 (ja) |
| CL (1) | CL2013001293A1 (ja) |
| IL (1) | IL225979A (ja) |
| TW (1) | TWI530487B (ja) |
| WO (1) | WO2012063791A1 (ja) |
| ZA (1) | ZA201302947B (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2015000826A (ja) * | 2013-06-14 | 2015-01-05 | 出光興産株式会社 | 脱水化無機金属塩の製造方法 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0413674A (ja) * | 1990-05-07 | 1992-01-17 | Mitsui Petrochem Ind Ltd | ジヒドロフラノン誘導体の製造方法 |
| US5869684A (en) | 1997-07-07 | 1999-02-09 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Method for producing pyrazolinone compounds |
| WO1999054307A1 (fr) * | 1998-04-23 | 1999-10-28 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Derives de pyrazolinone |
| WO2010143598A1 (ja) * | 2009-06-08 | 2010-12-16 | 住友化学株式会社 | ピラゾリノン誘導体の精製方法 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0212922B1 (en) * | 1985-08-13 | 1991-01-02 | Exxon Chemical Patents Inc. | Overbased additives |
| JP5034142B2 (ja) * | 2001-04-20 | 2012-09-26 | 住友化学株式会社 | 植物病害防除剤組成物 |
-
2011
- 2011-09-26 JP JP2011208600A patent/JP5811736B2/ja active Active
- 2011-11-01 WO PCT/JP2011/075648 patent/WO2012063791A1/ja active Application Filing
- 2011-11-01 EP EP11839486.5A patent/EP2639225A4/en not_active Withdrawn
- 2011-11-01 BR BR112013011753-2A patent/BR112013011753B1/pt active IP Right Grant
- 2011-11-01 AU AU2011327253A patent/AU2011327253B2/en active Active
- 2011-11-01 US US13/881,199 patent/US8921574B2/en active Active
- 2011-11-01 KR KR1020137014755A patent/KR101867639B1/ko active IP Right Grant
- 2011-11-01 CN CN201180053786.8A patent/CN103209965B/zh active Active
- 2011-11-10 TW TW100141095A patent/TWI530487B/zh not_active IP Right Cessation
-
2013
- 2013-04-23 ZA ZA2013/02947A patent/ZA201302947B/en unknown
- 2013-04-25 IL IL225979A patent/IL225979A/en active IP Right Grant
- 2013-05-10 CL CL2013001293A patent/CL2013001293A1/es unknown
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0413674A (ja) * | 1990-05-07 | 1992-01-17 | Mitsui Petrochem Ind Ltd | ジヒドロフラノン誘導体の製造方法 |
| US5869684A (en) | 1997-07-07 | 1999-02-09 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Method for producing pyrazolinone compounds |
| WO1999054307A1 (fr) * | 1998-04-23 | 1999-10-28 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Derives de pyrazolinone |
| WO2010143598A1 (ja) * | 2009-06-08 | 2010-12-16 | 住友化学株式会社 | ピラゾリノン誘導体の精製方法 |
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| See also references of EP2639225A4 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2015000826A (ja) * | 2013-06-14 | 2015-01-05 | 出光興産株式会社 | 脱水化無機金属塩の製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| ZA201302947B (en) | 2014-06-25 |
| JP2012116831A (ja) | 2012-06-21 |
| EP2639225A4 (en) | 2014-04-16 |
| EP2639225A1 (en) | 2013-09-18 |
| AU2011327253B2 (en) | 2016-03-10 |
| TW201229042A (en) | 2012-07-16 |
| IL225979A0 (en) | 2013-06-27 |
| KR101867639B1 (ko) | 2018-06-15 |
| TWI530487B (zh) | 2016-04-21 |
| KR20140051815A (ko) | 2014-05-02 |
| IL225979A (en) | 2016-11-30 |
| BR112013011753B1 (pt) | 2017-12-19 |
| CL2013001293A1 (es) | 2014-06-20 |
| US8921574B2 (en) | 2014-12-30 |
| US20130217890A1 (en) | 2013-08-22 |
| CN103209965B (zh) | 2016-01-20 |
| AU2011327253A1 (en) | 2013-05-23 |
| CN103209965A (zh) | 2013-07-17 |
| JP5811736B2 (ja) | 2015-11-11 |
| BR112013011753A2 (pt) | 2016-07-12 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP5559066B2 (ja) | ２−アルコキシメチレン−４，４−ジフルオロ−３−オキソ酪酸アルキルの製造方法 | |
| MX2012009782A (es) | Procesos para la sintesis de diariltiohidantoina y compuestos de diarilhidantoina. | |
| CN104379551B (zh) | 3‑二氟甲基‑1‑甲基‑1h‑吡唑‑4‑羧酸烷基酯及其类似物的制备方法 | |
| TW200538116A (en) | Process for the preparation of substituted triazole compounds | |
| JP2018118982A (ja) | １−置換メチリデン化合物の製造 | |
| WO2012063791A1 (ja) | ピラゾリノン塩の製造方法 | |
| CN107801390B (zh) | 用于制造1-环丙基萘的方法 | |
| EP0890573B1 (en) | Method for producing pyrazolinone compounds | |
| JP6040079B2 (ja) | アミド誘導体の製造方法 | |
| US10626102B2 (en) | Process for the synthesis of efinaconazol | |
| JP6922924B2 (ja) | 含窒素化合物の製造方法 | |
| US9296700B2 (en) | Method for purifying a pyrazolinone derivative | |
| JP2007519660A (ja) | ２−（エトキシメチル）トロパン誘導体の製造方法 | |
| US20230373899A1 (en) | Method for producing asymmetric linear carbonate | |
| MX2015003902A (es) | Procedimiento para la preparacion de fenil y piridil pirrolidinas opcionalmente sustituidas. | |
| KR101478597B1 (ko) | 질소 치환 아미노-5,6,7,8-테트라하이드로나프톨의 공업화 제조방법 | |
| JP2019094298A (ja) | ジフラン化合物の製造方法 | |
| EP2644593A1 (en) | Dialkoxymethyl oxobutyric acid esters, their manufacture and use | |
| CZ2014792A3 (cs) | Způsob přípravy, izolace a čištění farmaceuticky využitelných forem AHU-377 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| 121 | Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application |
Ref document number: 11839486 Country of ref document: EP Kind code of ref document: A1 |
|
| WWE | Wipo information: entry into national phase |
Ref document number: 13881199 Country of ref document: US Ref document number: 2011839486 Country of ref document: EP |
|
| WWE | Wipo information: entry into national phase |
Ref document number: 225979 Country of ref document: IL |
|
| WWE | Wipo information: entry into national phase |
Ref document number: 2013001293 Country of ref document: CL |
|
| NENP | Non-entry into the national phase |
Ref country code: DE |
|
| ENP | Entry into the national phase |
Ref document number: 2011327253 Country of ref document: AU Date of ref document: 20111101 Kind code of ref document: A |
|
| ENP | Entry into the national phase |
Ref document number: 20137014755 Country of ref document: KR Kind code of ref document: A |
|
| REG | Reference to national code |
Ref country code: BR Ref legal event code: B01A Ref document number: 112013011753 Country of ref document: BR |
|
| ENP | Entry into the national phase |
Ref document number: 112013011753 Country of ref document: BR Kind code of ref document: A2 Effective date: 20130510 |