TWI530487B - Preparation of pyrazolone salts - Google Patents

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TWI530487B
TWI530487B TW100141095A TW100141095A TWI530487B TW I530487 B TWI530487 B TW I530487B TW 100141095 A TW100141095 A TW 100141095A TW 100141095 A TW100141095 A TW 100141095A TW I530487 B TWI530487 B TW I530487B
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Masaya Miura
Masao Kojio
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Sumitomo Chemical Co
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Description

吡唑啉酮鹽之製造方法
本發明係關於一種吡唑啉酮鹽之製造方法。
已知於US6294567中，某種吡唑啉酮化合物作為植物病害防治劑之有效成分而有用。
又，於US5869684中，記載有式(1A)
所表示之化合物之製造方法。
本發明提供一種可以優異之產率製造吡唑啉酮衍生物之方法。
本發明如下所述。
<1>　一種式(4)所表示之鹽之製造方法，
(式中，A+、Ar及R1分別表示與下述相同之含義)
其特徵在於包括如下步驟：對包含烴溶劑、及下述式
A+OH-
(式中，A+表示鹼金屬陽離子)
所表示之鹼金屬氫氧化物的混合物(但，不含以下述式(2)表示之化合物)進行脫水處理之第1步驟；以及
使於第1步驟中經脫水處理之混合物、及式(2)
(式中，Ar表示亦可具有取代基之苯基，R1表示亦可具有取代基之烴基，該烴基中所含之-CH2-亦可經雜原子或羰基取代)
所表示的化合物(以下有時記為化合物(2))進行反應之第2步驟。
<2>　如上述<1>之製造方法，其中第2步驟為一面使於第1步驟中經脫水處理之混合物、及式(2)所表示之化合物脫水，一面使該等反應之步驟。
<3>　如上述<2>之製造方法，其中第2步驟為一面將第2步驟之反應液中所含之水量調整至0.8重量%以下，一面使於第1步驟中經脫水處理之混合物、及式(2)所表示的化合物進行反應之步驟。
<4>　如上述<2>或<3>之製造方法，其中第2步驟為於減壓下於20~100℃之溫度範圍內，一面使於第1步驟中經脫水處理之混合物、及式(2)所表示之化合物進行共沸脫水，一面使該等反應之步驟。
<5>　如上述<1>至<4>中任一項之製造方法，其中於第1步驟中經脫水處理之混合物中所含之水量為0.8重量%以下。
<6>　如上述<1>至<5>中任一項之製造方法，其中第1步驟為於減壓下於20~100℃之溫度範圍內進行共沸脫水之步驟。
<7>　如上述<1>至<6>中任一項之製造方法，其中鹼金屬氫氧化物為氫氧化鋰。
<8>　如上述<1>至<7>中任一項之製造方法，其中烴溶劑為芳香族烴溶劑。
<9>　如上述<1>至<8>中任一項之製造方法，其中第2步驟為於醚溶劑之存在下，使於第1步驟中經脫水處理之混合物、及式(2)所表示之化合物進行反應之步驟。
<10>　一種式(1)所表示之吡唑啉酮衍生物(以下有時記為衍生物(1))之製造方法，
(式中，Ar、R1及R2分別表示與下述相同之含義)
其特徵在於包括如下步驟：對包含烴溶劑、及下述式
A+OH-
(式中，A+表示鹼金屬陽離子)
所表示之鹼金屬氫氧化物的混合物(但，不含下述式(2)所表示之化合物)進行脫水處理之第1步驟；
使於第1步驟中經脫水處理之混合物、及式(2)
(式中，Ar表示亦可具有取代基之苯基，R1表示亦可具有取代基之烴基，該烴基中所含之-CH2-亦可經雜原子或羰基取代)
所表示之化合物進行反應之第2步驟；以及
使於第2步驟中所獲得之產物與以式(3)
R2-O-SO2R3　(3)
(式中，R2表示亦可具有取代基之烴基，R3表示亦可具有取代基之苯基或碳數1~10之烷基)
所表示的化合物進行反應之第3步驟。
對式(4)所表示之鹽(以下有時記為鹽(4))之製造方法進行說明。
鹽(4)之製造方法包括第1步驟及第2步驟。
第1步驟為對包含烴溶劑、及下述式
A+OH-
(式中，A+表示鹼金屬陽離子)
所表示之鹼金屬氫氧化物的混合物(其中，不含下述式(2)所表示之化合物)進行脫水處理之步驟。
作為第1步驟中所使用之烴溶劑，例如可列舉：正戊烷、正己烷、正庚烷等脂肪族烴，環戊烷、環己烷等脂環烴，及苯、甲苯、二甲苯、氯苯等芳香族烴。作為第1步驟中所使用之烴溶劑，較佳可列舉為芳香族烴，更佳為例如可列舉甲苯及二甲苯。
第1步驟中之烴溶劑之使用量相對於鹼金屬氫氧化物1重量份，通常為0.1~1000重量份，較佳為1~50重量份之範圍。
第1步驟除於烴溶劑之存在下進行以外，亦可於醚溶劑之存在下進行。
作為可於第1步驟中使用之醚溶劑，例如可列舉：二乙醚等碳數2~20之二烷基醚，四氫呋喃、1,3-二烷、1,4-二烷等環構成原子數為5~12之環狀醚，及二乙二醇二甲醚、二乙二醇二乙醚、二丙二醇二甲醚等碳數4~12之(聚)烷二醇二烷基醚。作為可於第1步驟中使用之醚溶劑，較佳為可列舉環構成原子數為5~12之環狀醚，更佳為可列舉四氫呋喃。
於在第1步驟中使用醚溶劑之情形時，醚溶劑之使用量相對於烴溶劑1重量份，通常為1重量份以下，較佳為0.25重量份以下。
作為第1步驟中所使用之鹼金屬氫氧化物，例如可列舉氫氧化鋰、氫氧化鈉及氫氧化鉀。作為第1步驟中所使用之鹼金屬氫氧化物，較佳可列舉為氫氧化鋰。鹼金屬氫氧化物可為水溶液，亦可為水合物。
烴溶劑所含之水分、鹼金屬氫氧化物所含之水分(亦包含水合物之水分)及附著於第1步驟之脫水處理中所使用的反應槽等上之水分係藉由第1步驟進行脫水處理。第1步驟結束後之混合物(以下有時記為混合物[1])中所含之水量較佳為0.8重量%以下，更佳為0.5重量%以下。
若具體地說明第1步驟，則例如可列舉：自存在包含鹼金屬氫氧化物及烴溶劑之混合液之反應槽中，於常壓下或減壓下，於20℃~100℃之溫度範圍內、較佳為40℃~80℃之溫度範圍內餾去含有水之烴溶劑，另外使調整至0.8重量%以下、較佳為0.5重量%以下之含水量的烴溶劑混合之方法(以下有時記為A法)；及將以與上述相同之方式自該反應槽中餾去之烴溶劑分液，使水分減少之烴溶劑回流至該反應槽中之方法(以下有時記為B法)。於以B法進行第1步驟之情形時，為了使其於上述溫度範圍內回流，較佳為於減壓下進行。
於第1步驟中所獲得之鹼金屬氫氧化物與含烴溶劑之溶液的混合物中所含的烴溶劑之含量，相對於鹼金屬氫氧化物1重量份，通常為0.1~1000重量份，較佳為1~50重量份。
第1步驟之處理時間只要為將含水量調整至0.8重量%以下為止，則並無特別限制。第1步驟之處理時間通常為1~24小時之範圍。
就鹽(4)及衍生物(1)之產率之觀點而言，於第1步驟之反應溶液中不含化合物(2)。所謂於第1步驟之反應溶液中不含化合物(2)，係指相對於後述之第2步驟中所使用之化合物(2)100重量份，第1步驟之反應溶液中所含之化合物(2)的含量為5重量份以下，較佳為1重量份以下，更佳為0.1重量份以下。
第2步驟為使於第1步驟中經脫水處理之混合物、及式(2)
(式中，Ar表示亦可具有取代基之苯基，R1表示亦可具有取代基之烴基。該烴基中所含之-CH2-亦可經雜原子或羰基取代)
所表示之化合物即化合物(2)進行反應之步驟。
化合物(2)中之Ar表示式(5)
所表示之苯基等亦可具有取代基的苯基。
式(5)中之R4~R8分別獨立地表示氫原子、鹵素原子、烷基、鹵代烷基、烷氧基、烷氧基烷基、鹵代烷氧基、烷硫基、鹵代烷硫基、氰基、硝基、亦可具有取代基之苯基或亦可具有取代基之苯氧基，或表示R4~R8中之鄰接的2個以末端鍵結且以-CH=CH-CH=CH-表示之基、亦可具有鹵素原子之亞甲二氧基、或亦可具有烷基之伸烷基。該伸烷基中所含之亞甲基(-CH2-)亦可經氧原子(-O-)取代。
此處，作為R4~R8所表示之鹵素原子，例如可列舉：氟原子、氯原子、溴原子及碘原子。
作為R4~R8所表示之烷基，例如可列舉直鏈狀或支鏈狀之碳數1~5(以下有時記為C1~C5)之烷基，具體而言，例如可列舉：甲基、乙基、正丙基、異丙基及第三丁基。所謂鹵代烷基，係指上述烷基之氫原子的一部分或全部經鹵素原子取代之基。作為R4~R8所表示之鹵代烷基，例如可列舉於鹵代烷基中含有1~11個鹵素原子之直鏈狀或支鏈狀之C1~C5烷基，具體而言，例如可列舉三氟甲基、四氟乙基及七氟丙基。
作為R4~R8所表示之烷氧基，例如可列舉直鏈狀或支鏈狀之C1~C5之烷氧基，具體而言，例如可列舉甲氧基、乙氧基、正丙氧基及異丙氧基。作為R4~R8所表示之烷氧基烷氧基，例如可列舉直鏈狀或支鏈狀之(C1~C3)烷氧基(C1~C3)烷氧基，具體而言，例如可列舉甲氧基甲氧基。作為R4~R8所表示之鹵代烷氧基，例如可列舉經相同或不同之1~11個鹵素原子取代之直鏈狀或支鏈狀的C1~C5烷氧基，具體而言，例如可列舉三氟甲氧基、二氟甲氧基及四氟乙氧基。
作為R4~R8所表示之烷硫基，例如可列舉直鏈狀或支鏈狀之C1~C5烷硫基，具體而言，例如可列舉甲硫基、乙硫基。作為R4~R8所表示之鹵代烷硫基，例如可列舉經相同或不同之1~11個鹵素原子取代之直鏈狀或支鏈狀的C1~C5烷硫基，具體而言，例如可列舉三氟甲硫基。
所謂R4~R8所表示之亦可具有取代基之苯基，係指亦可具有1~5個相同或不同之取代基之苯基。所謂R4~R8所表示之亦可具有取代基之苯氧基，係指亦可具有1~5個相同或不同之取代基之苯氧基。作為苯基或苯氧基之取代基，例如可列舉：鹵素原子(氟原子、氯原子、溴原子及碘原子)、C1~C5烷基(例如甲基及乙基)、C1~C5烷氧基(例如甲氧基及乙氧基)、C1~C5烷硫基(例如甲硫基及乙硫基)、C1~C5鹵代烷基(例如三氟甲基等C1~C2鹵代烷基)、C1~C5鹵代烷氧基(例如三氟甲氧基、二氟甲氧基等C1~C2鹵代烷氧基)、C1~C5鹵代烷硫基(例如三氟甲硫基等C1~C2鹵代烷硫基)、氰基。
作為R4~R8所表示之亦可具有鹵素原子之亞甲二氧基，例如可列舉亞甲二氧基及二氟亞甲二氧基。
作為R4~R8所表示之亦可具有烷基(例如甲基等C1~C4烷基)之伸烷基(例如C2~C6伸烷基)，例如可列舉三亞甲基及四亞甲基。作為伸烷基中所含之亞甲基經氧原子取代之伸烷基，例如可列舉-OCH2CH2Cl所表示之基、及-OCH2CH(CH3)Cl所表示之基。
作為Ar，較佳為可列舉苯基、鄰甲苯基、2,6-二甲苯基、2-氯苯基、2,6-二氯苯基等。
作為R1所表示之亦可具有取代基之烴基，例如可列舉：直鏈狀或支鏈狀之C1~C10烷基(例如甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、異丁基、第二丁基、2-甲基丁基、2-乙基丙基及第三丁基)；直鏈狀或支鏈狀之C2~C10烯基(例如1-甲基-2-丙烯基)；直鏈狀或支鏈狀之C2~C10炔基(例如1-甲基-2-丙炔基)；經相同或不同之1~21個鹵素原子取代之直鏈狀或支鏈狀的C1~C10烷基；經相同或不同之1~19個鹵素原子取代之直鏈狀或支鏈狀的C2~C10烯基；經相同或不同之1~17個鹵素原子取代之直鏈狀或支鏈狀的C2~C10炔基；具有直鏈狀或支鏈狀之C1~C5烷氧基之C1~C5烷基(例如甲氧基甲基及1-甲氧基乙基)；具有直鏈狀或支鏈狀之C1~C5烷硫基之C1~C5烷基(例如甲硫基甲基及1-甲硫基乙基)；含有具有相同或不同之1~11個鹵素原子之C1~C5烷氧基，且具有相同或不同之1~10個鹵素原子之直鏈狀或支鏈狀的C1~C5烷基；含有具有相同或不同之1~11個鹵素原子之C1~C5烷硫基，且具有相同或不同之1~10個鹵素原子之直鏈狀或支鏈狀的C1~C5烷基；具有氰基之直鏈狀或支鏈狀之C1~C5烷基(例如1-氰乙基)；具有C1~C5烷氧基羰基之直鏈狀或支鏈狀之C1~C5烷基(例如1-(甲氧基羰基)乙基)；可具有鹵素原子，亦可具有不飽和鍵之C3~C8環烷基(例如環己基及環戊基)；C2~C6烷羰基(例如乙醯基、丙醯基、丁醯基及戊醯基)；C3~C6烯羰基(例如3-丁烯醯基)；C2~C6烷氧基羰基(例如甲氧基羰基、乙氧基羰基及丙氧基羰基)；C3~C6烯氧基羰基(例如烯丙氧基羰基)；C2~C6烷基硫羰基(例如甲基硫羰基、乙基硫羰基及丙基硫羰基)；C3~C6烯基硫羰基(例如烯丙基硫羰基)；亦可具有1~5個相同或不同之取代基之苯基{作為該取代基，例如可列舉：鹵素原子(氟原子、氯原子、溴原子及碘原子)、C1~C5烷基(例如甲基及乙基)、C1~C5烷氧基(例如甲氧基及乙氧基)、C1~C5烷硫基(例如甲硫基及乙硫基)、C1~C5鹵代烷基(例如三氟甲基等C1~C2鹵代烷基)、C1~C5鹵代烷氧基(例如三氟甲氧基、二氟甲氧基等C1~C2鹵代烷氧基)、C1~C5鹵代烷硫基(例如三氟甲硫基等C1~C2鹵代烷硫基)、氰基等}；及亦可具有1~5個相同或不同之取代基之C7~C17芳烷基(例如苄基、α-甲基苄基及α,α-二甲苄基等){作為該取代基，例如可列舉：鹵素原子(氟原子、氯原子、溴原子及碘原子)、C1~C5烷基(例如甲基及乙基)、C1~C5烷氧基(例如甲氧基及乙氧基)、C1~C5烷硫基(例如甲硫基及乙硫基)、C1~C5鹵代烷基(例如三氟甲基等C1~C2鹵代烷基)、C1~C5鹵代烷氧基(例如三氟甲氧基、二氟甲氧基等C1~C2鹵代烷氧基)、C1~C5鹵代烷硫基(例如三氟甲硫基等C1~C2鹵代烷硫基)、及氰基}。
作為化合物(2)，例如可列舉表1所記載之化合物。
化合物(2)係溶解於例如烴溶劑及/或醚溶劑中，較佳為溶解於烴溶劑及醚溶劑之混合溶劑中，並添加於混合物[1]中。作為於該情形時所使用之烴溶劑及醚溶劑，可分別例示與上述相同者。
第2步驟較佳為於烴溶劑與醚溶劑之混合溶劑之存在下進行，更佳為於烴溶劑與四氫呋喃之混合溶劑之存在下進行。
於第2步驟於烴溶劑及醚溶劑之混合溶劑之存在下進行之情形時，烴溶劑及醚溶劑之重量比相對於醚溶劑1重量份，通常為烴溶劑1~5重量份之範圍。第2步驟中之烴溶劑之使用量相對於化合物(2)1重量份，通常為0.1~1000重量份之範圍，較佳為1~10重量份之範圍。
藉由化合物(2)及鹼金屬氫氧化物進行反應而產生水分，故而第2步驟較佳為一面進行脫水一面進行反應。具體可列舉：於減壓下，於20~100℃、較佳為40~80℃之溫度範圍內使化合物(2)及混合物[1]混合之方法。
就鹽(4)及衍生物(1)之產率之觀點而言，較佳為藉由進行脫水而將第2步驟之反應液調整至0.8重量%以下、較佳為0.5重量%以下。
又，於第2步驟中，藉由將混合物[1]與化合物(2)緩慢地混合，可將第2步驟之反應液之含水量容易地調整至0.8重量%以下、較佳為0.5重量%以下。
第2步驟之反應時間只要將混合物[1]之含水量調整至0.8重量%以下、較佳為0.5重量%以下，則並無特別限制。第2步驟之反應時間通常為1~18小時之範圍。
若具體地說明第2步驟，則例如可列舉：<2-I>一面使烴溶劑回流脫水，一面於混合物[1]中混合化合物(2)之方法；<2-II>一面使烴溶劑回流脫水，一面同時混合混合物[1]及化合物(2)之方法；及<2-III>一面使烴溶劑回流脫水，一面於包含化合物(2)之溶液中混合混合物[1]之方法。本發明之第2步驟較佳為以<2-I>之方法進行。
若進行本發明之第1步驟及第2步驟，則可獲得包含式(4)
(式中，A+、Ar及R1分別表示與上述相同之含義)
所表示之鹽(以下有時記為鹽(4))之溶液。
根據本發明，可抑制化合物(2)之R1錯位於羰基之α位的氮原子上之鹽、即式(4')
(式中，A+、Ar及R1表示與上述相同之含義)
所表示之鹽之生成。
又，一般認為於包含鹽(4)之溶液中，不僅存在具有式(4)所表示之結構之鹽，亦存在具有式(4")
(式中，A+、Ar及R1表示與上述相同之含義)
所表示之結構之鹽，即鹽(4)之互變異構物，如上所述般，於在進行第1步驟及第2步驟而獲得之溶液中混合水之情形時，可高產率地獲得化合物(2)，且於在該溶液中進行後述之第3步驟之情形時，可高產率地製造衍生物(1)。
藉由於包含鹽(4)之溶液中，進行使式(3)
R2-O-SO2R3　(3)
(式中，R2表示亦可具有取代基之烴基，R3表示亦可具有取代基之苯基或碳數1~10之烷基)
所表示之化合物(以下有時記為化合物(3))反應之步驟(以下有時記為第3步驟)，可獲得式(1)
(式中，Ar、R1及R2表示與上述相同之含義)所表示之吡唑啉酮衍生物。
作為化合物(3)中之R2所表示之亦可具有取代基之烴基，例如可列舉：直鏈狀或支鏈狀之C1~C10烷基(例如乙基、丙基、異丙基、丁基、異丁基、第二丁基、2-甲基丁基、及2-乙基丙基)；直鏈狀或支鏈狀之C2~C10烯基(例如1-甲基-2-丙烯基等)；直鏈狀或支鏈狀之C2~C10炔基(例如1-甲基-2-丙炔基)；具有相同或不同之1~21個鹵素原子之直鏈狀或支鏈狀的C1~C10烷基；具有相同或不同之1~19個鹵素原子之直鏈狀或支鏈狀的C2~C10烯基；具有相同或不同之1~17個鹵素原子之直鏈狀或支鏈狀的C2~C10炔基；具有直鏈狀或支鏈狀之C1~C5烷氧基之C1~C5烷基(例如1-甲基-2-甲氧基乙基)；具有直鏈狀或支鏈狀之C1~C5烷硫基之C1~C5烷基(例如1-甲基-2-甲硫基乙基)；含有具有相同或不同之1~11個鹵基之C1~C5烷氧基，且經相同或不同之1~10個鹵基取代之直鏈狀或支鏈狀的C1~C5烷基；具有經相同或不同之1~11個鹵基取代之C1~C5烷硫基，且具有相同或不同之1~10個鹵素原子之直鏈狀或支鏈狀的C1~C5烷基；經氰基取代之直鏈狀或支鏈狀之C1~C5烷基(例如1-甲基-2-氰乙基)；具有C1~C5烷氧基羰基之直鏈狀或支鏈狀之C1~C5烷基(例如2-甲氧基羰基乙基)；可具有鹵素原子，亦可具有不飽和鍵之C3~C8環烷基(例如環己基及環戊基)；亦可經相同或不同之1~5個取代基取代之C7~C17芳烷基(例如苄基及α-甲基苄基){作為該取代基，例如可列舉：鹵素原子(氟原子、氯原子、溴原子及碘原子)、C1~C5烷基(例如甲基及乙基)、C1~C5烷氧基(例如甲氧基及乙氧基)、C1~C5烷硫基(例如甲硫基及乙硫基)、C1~C5鹵代烷基(例如三氟甲基等C1~C2鹵代烷基)、C1~C5鹵代烷氧基(例如三氟甲氧基、二氟甲氧基等C1~C2鹵代烷氧基)、C1~C5鹵代烷硫基(例如三氟甲硫基等C1~C2鹵代烷硫基)、及氰基}。
作為R3所表示之C1~C10烷基，例如可列舉：甲基、乙基、正丙基、異丙基及第三丁基。作為R3所表示之亦可具有取代基之苯基，例如可列舉：苯基、2-甲基苯基、3-甲基苯基、4-甲基苯基、2-甲氧基苯基、3-甲氧基苯基、4-甲氧基苯基、2-氟苯基、3-氟苯基、4-氟苯基、2-氯苯基、3-氯苯基、4-氯苯基、2-溴苯基、3-溴苯基、及4-溴苯基。
作為化合物(3)，例如可列舉表2所記載之化合物。
作為鹽(4)與化合物(3)之混合比率，相對於鹽(4)之製備中所使用之化合物(2)1莫耳，化合物(3)例如為0.9~1.5莫耳之範圍。
第3步驟之反應溫度通常為40℃~120℃之範圍，較佳為60℃~100℃之範圍。
若具體地說明第3步驟，則例如可列舉：<3-I>於包含鹽(4)之溶液中混合包含化合物(3)的溶液之方法；<3-II>於烴溶劑及/或醚溶劑中同時混合包含鹽(4)之溶液及包含化合物(3)的溶液之方法；及<3-III>於包含化合物(3)之溶液中混合包含鹽(4)的溶液之方法。第3步驟較佳為以<3-II>之方法進行。
第3步驟中之反應之進行較佳為利用氣相層析儀、高效液相層析儀等裝置確認化合物(3)之消耗量，並使化合物(3)反應直至不消耗為止。第3步驟之反應時間通常為5分鐘~72小時之範圍。
於第3步驟中，藉由反應而不產生水分，較佳為不於第3步驟之反應系統內添加水分。具體而言，第3步驟之反應液中所含之水量為0.8重量%以下，較佳為0.5重量%以下，更佳為0.3重量%以下。
作為衍生物(1)，例如可列舉表3所記載之化合物。
根據本發明，可以優異之產率獲得衍生物(1)。又，由於抑制上述式(4')所表示之鹽之生成，故而有於第3步驟中所獲得之反應產物中，抑制衍生物(1)中之R1與R2交替而成之雜質的生成之傾向，因此較佳。進而，於不進行自烴溶劑向醚溶劑之置換之情況下高產率地獲得衍生物(1)。
包含藉由第3步驟所獲得之衍生物(1)與烴溶劑之溶液例如可藉由對烴溶劑進行減壓濃縮等方法而獲得衍生物(1)。所獲得之衍生物(1)亦可利用再結晶、層析儀等進行純化。
實施例
以下，基於實施例更詳細地說明本發明。實施例、參考例中之「%」及「份」只要無特別記載，則為重量%及重量份。反應液之含水量係藉由卡爾費歇爾法而求出。
(實施例1)
第1步驟係使用圖1之裝置(10)而進行。首先，對圖1進行說明。於反應槽(1)中具備套管以使得能夠進行加熱。反應槽(1)係經由配管(2)而與冷凝器(3)連接，冷凝器(3)係經由配管(4)而與分離器(9)連接。分離器(9)之上層(6)與反應槽(1)係經由配管(5)而連接。
[第1步驟]
於反應槽(1)中添加二甲苯159重量份、氫氧化鋰一水合物12.1重量份，並進行減壓直至錶壓約成為10 kPa為止。繼而，使反應槽(1)內之二甲苯溶液升溫直至成為約67℃為止，結果水與二甲苯之共沸蒸氣經由配管(2)而於冷凝器(3)中冷卻，並移送至分離器(9)中。於分離器(9)內分液之二甲苯經由配管(5)回流至反應槽(1)中。自分離器(9)之下層(7)中回收4.7重量份之水。
反應槽(1)內之混合物[1]之含水量為0.19重量%。
[第2步驟]
繼而，將包含5-胺基-3-側氧基-4-鄰甲苯基-2,3-二氫吡唑-1-硫甲酸S-烯丙基酯(表1中之化合物編號(2-1)所表示之化合物)80重量份、二甲苯240重量份、四氫呋喃80重量份之溶液，花費11小時自配管(8)中滴加至反應槽(1)內之混合物[1]中。於滴加中，水與二甲苯之共沸蒸氣經由配管(2)於冷凝器(3)中冷卻，並移送至分離器(9)中。自分離器(9)之下層(7)中回收4.7重量份之水。
每1小時自反應槽(1)內取樣，並求出含水量，結果為0.19~0.22重量%。
對滴加結束後之溶液[2]進行取樣，向該樣品中添加水，並以液相層析儀進行測定，結果將相當於化合物(2)之5-胺基-3-側氧基-4-鄰甲苯基-2,3-二氫吡唑-1-硫甲酸S-烯丙基酯設為100%(層析之面積)，5-胺基-3-側氧基-4-鄰甲苯基-2,3-二氫吡唑-2-硫甲酸S-烯丙基酯(式(1)中之Ar為2-甲基苯基、R1為氫原子、R2為CH2=CH-CH2-S-C(=O)-之化合物，即式(4')所表示之化合物之氮陰離子成為NH的化合物)為1.72%(層析之面積)。可知鋰陽離子係經與化合物(2)之羰基之α位的氮原子鍵結之氫原子選擇性地取代。
[第3步驟]
於與上述反應槽(1)及(1')不同，但形狀相同之反應槽(1")中，添加四氫呋喃241重量份，使其升溫至85℃為止並回流。繼而，花費1.5小時向反應槽(1")中滴加包含於第2步驟中獲得之溶液[2]273重量份(5-胺基-3-側氧基-4-鄰甲苯基-2,3-二氫吡唑-1-硫甲酸S-烯丙基酯為84重量份)與甲磺酸異丙酯51.9重量份之二甲苯溶液，進而於相同溫度下使其回流20小時。
以液相層析法(內標準法)對所獲得之反應溶液進行定量，結果5-胺基-2-異丙基-3-側氧基-4-鄰甲苯基-2,3-二氫吡唑-1-硫甲酸S-烯丙基酯(式(1)中之Ar為2-甲基苯基，R1為異丙基，R2為CH2=CH-CH2-S-C(=O)-。表3中之化合物編號(1-1)所表示之化合物)之產率為82.3%。
(參考例1)
向具備回流冷卻器之反應槽中添加二甲苯500重量份及5-胺基-3-側氧基-4-鄰甲苯基-2,3-二氫吡唑-1-硫甲酸S-烯丙基酯105重量份，並使所獲得之混合物升溫至約78℃為止。於進行減壓直至該混合物沸騰為止之後，一面餾去二甲苯，一面添加氫氧化鋰一水合物15.2重量份。對於所獲得之反應液，進而於相同溫度下花費4小時餾去二甲苯(二甲苯之餾去量為360重量份)。向所獲得之反應液中添加水，並以液相層析儀進行測定，結果將相當於化合物(2)之5-胺基-3-側氧基-4-鄰甲苯基-2,3-二氫吡唑-1-硫甲酸S-烯丙基酯設為100%(層析之面積)，5-胺基-3-側氧基-4-鄰甲苯基-2,3-二氫吡唑-2-硫甲酸S-烯丙基酯(式(1)中之Ar為2-甲基苯基、R1為氫原子、R2為CH2=CH-CH2-S-C(=O)-之化合物，相當於式(4')所表示之化合物的氮陰離子成為NH之化合物)為16.7%(層析之面積)。可知於餾去二甲苯之情形時，與化合物(2)中之羰基之β位鍵結的CH2=CH-CH2-S-C(=O)-較多地錯位於羰基之α位上。
產業上之可利用性
作為可以優異之產率製造衍生物(1)之方法，本發明可於產業上加以利用。
(1)．．．反應槽
(2)．．．自反應槽(1)向冷凝器(3)之配管
(3)．．．冷凝器
(4)．．．自冷凝器(3)向分離器(9)之配管
(5)．．．自分離器(9)之上層(6)向反應槽(1)之配管
(6)．．．分離器(9)之上層，於實施例中為二甲苯層
(7)．．．分離器(9)之下層，於實施例中為水層
(8)．．．向反應槽(1)之添加用配管
(9)．．．分離器
(10)．．．反應裝置
圖1係於第1步驟及第2步驟中所使用之反應裝置之一例。

Claims (10)

  1. 一種式(4)所表示之鹽之製造方法， (式中，A+、Ar及R1分別表示與下述相同之含義)其特徵在於包括如下步驟：對包含烴溶劑、及下述式A+OH-(式中，A+表示鹼金屬陽離子)所表示之鹼金屬氫氧化物的混合物(但，不含以下述式(2)表示之化合物)進行脫水處理之第1步驟；以及使於第1步驟中經脫水處理之混合物、及式(2) (式中，Ar為式(5) 所表示之亦可具有取代基的苯基，此處，R4~R8分別獨立地表示氫原子、鹵素原子、C1~C5烷基、C1~C5鹵代烷基、C1~C5烷氧基、(C1~C3)烷氧基(C1~C3)烷氧基、C1~C5鹵代烷氧基、C1~C5烷硫基、C1~C5鹵代烷硫基、氰基、硝基、亦可具有取代基之苯基或亦可具有取代基 之苯氧基，或表示R4~R8中之鄰接的2個以末端鍵結且以-CH=CH-CH=CH-表示之基、亦可具有鹵素原子之亞甲二氧基、或亦可具有烷基之伸烷基，該伸烷基中所含之亞甲基(-CH2-)亦可經氧原子(-O-)取代；R1表示亦可具有取代基之烴基，該取代基為：C1~C10烷基、C2~C10烯基、C2~C10炔基、C1~C10鹵代烷基、C2~C10鹵代烯基、C2~C10鹵代炔基、具有C1~C5烷氧基之C1~C5烷基、具有C1~C5鹵代烷硫基之C1~C5鹵代烷基、C1~C5氰基烷基、具有C1~C5烷氧基羰基之C1~C5烷基、可具有鹵素原子亦可具有不飽和鍵之C3~C8環烷基、C2~C6烷羰基、C3~C6烯羰基、C2~C6烷氧基羰基、C3~C6烯氧基羰基、C2~C6烷基硫羰基、C3~C6烯基硫羰基、亦可具有1~5個取代基之苯基{該取代基可為：鹵素原子、C1~C5烷基、C1~C5烷氧基、C1~C5烷硫基、C1~C5鹵代烷基、C1~C5鹵代烷氧基、C1~C5鹵代烷硫基、氰基}、亦可具有1~5個取代基之C7~C17芳烷基{該取代基可為：鹵素原子、C1~C5烷基、C1~C5烷氧基、C1~C5烷硫基、C1~C5鹵代烷基、C1~C5鹵代烷氧基、C1~C5鹵代烷硫基、及氰基}，該烴基中所含之-CH2-亦可經雜原子或羰基取代)所表示的化合物進行反應之第2步驟。
  2. 如請求項1之製造方法，其中第2步驟為一面使於第1步驟中經脫水處理之混合物、及式(2)所表示之化合物脫水，一面使該等反應之步驟。
  3. 如請求項2之製造方法，其中第2步驟為一面將第2步驟之反應液中所含之水量調整至0.8重量%以下，一面使於第1步驟中經脫水處理之混合物、及式(2)所表示的化合物進行反應之步驟。
  4. 如請求項2或3之製造方法，其中第2步驟為於減壓下於20~100℃之溫度範圍內，一面使於第1步驟中經脫水處理之混合物、及式(2)所表示之化合物進行共沸脫水，一面使該等反應之步驟。
  5. 如請求項1之製造方法，其中於第1步驟中經脫水處理之混合物中所含之水量為0.8重量%以下。
  6. 如請求項1之製造方法，其中第1步驟為於減壓下於20~100℃之溫度範圍內進行共沸脫水之步驟。
  7. 如請求項1之製造方法，其中鹼金屬氫氧化物為氫氧化鋰。
  8. 如請求項1之製造方法，其中烴溶劑為芳香族烴溶劑。
  9. 如請求項1之製造方法，其中第2步驟為於醚溶劑之存在下，使於第1步驟中經脫水處理之混合物、及式(2)所表示之化合物進行反應之步驟。
  10. 一種式(1)所表示之吡唑啉酮衍生物之製造方法， (式中，Ar、R1及R2分別表示與下述相同之含義)其特徵在於包括如下步驟：對包含烴溶劑、及下述式 A+OH-(式中，A+表示鹼金屬陽離子)所表示之鹼金屬氫氧化物的混合物(但，不含以下述式(2)表示之化合物)進行脫水處理之第1步驟；使於第1步驟中經脫水處理之混合物、及式(2) (式中，Ar為式(5) 所表示之亦可具有取代基的苯基，此處，R4~R8分別獨立地表示氫原子、鹵素原子、C1~C5烷基、C1~C5鹵代烷基、C1~C5烷氧基、(C1~C3)烷氧基(C1~C3)烷氧基、C1~C5鹵代烷氧基、C1~C5烷硫基、C1~C5鹵代烷硫基、氰基、硝基、亦可具有取代基之苯基或亦可具有取代基之苯氧基，或表示R4~R8中之鄰接的2個以末端鍵結且以-CH=CH-CH=CH-表示之基、亦可具有鹵素原子之亞甲二氧基、或亦可具有烷基之伸烷基，該伸烷基中所含之亞甲基(-CH2-)亦可經氧原子(-O-)取代；R1表示亦可具有取代基之烴基，該取代基為：C1~C10烷基、C2~C10烯基、C2~C10炔基、C1~C10鹵代烷基、C2~C10鹵代烯基、C2~C10鹵代炔基、具有C1~C5烷氧基之C1~C5烷 基、具有C1~C5鹵代烷硫基之C1~C5鹵代烷基、C1~C5氰基烷基、具有C1~C5烷氧基羰基之C1~C5烷基、可具有鹵素原子亦可具有不飽和鍵之C3~C8環烷基、C2~C6烷羰基、C3~C6烯羰基、C2~C6烷氧基羰基、C3~C6烯氧基羰基、C2~C6烷基硫羰基、C3~C6烯基硫羰基、亦可具有1~5個取代基之苯基{該取代基可為：鹵素原子、C1~C5烷基、C1~C5烷氧基、C1~C5烷硫基、C1~C5鹵代烷基、C1~C5鹵代烷氧基、C1~C5鹵代烷硫基、氰基}、亦可具有1~5個取代基之C7~C17芳烷基{該取代基可為：鹵素原子、C1~C5烷基、C1~C5烷氧基、C1~C5烷硫基、C1~C5鹵代烷基、C1~C5鹵代烷氧基、C1~C5鹵代烷硫基、及氰基}，該烴基中所含之-CH2-亦可經雜原子或羰基取代)所表示之化合物進行反應之第2步驟；以及使於第2步驟中所獲得之產物與式(3)R2-O-SO2R3 (3)(式中，R2表示亦可具有取代基之烴基，該取代基為：C1~C10烷基、C2~C10烯基、C2~C10炔基、C1~C10鹵代烷基、C2~C10鹵代烯基、C2~C10鹵代炔基、具有C1~C5烷氧基之C1~C5烷基、具有C1~C5烷硫基之C1~C5烷基、具有C1~C5鹵代烷氧基之C1~C5鹵代烷基、具有C1~C5鹵代烷硫基之C1~C5鹵代烷基、C1~C5氰基烷基、具有C1~C5烷氧基羰基之C1~C5烷基、可具有鹵素原子亦可具有不飽和鍵之C3~C8環烷基、亦可經1~5個取代基取代 之C7~C17芳烷基{該取代基可為：鹵素原子、C1~C5烷基、C1~C5烷氧基、C1~C5烷硫基、C1~C5鹵代烷基、C1~C5鹵代烷氧基、C1~C5鹵代烷硫基、及氰基}，R3表示苯基、2-甲基苯基、3-甲基苯基、4-甲基苯基、2-甲氧基苯基、3-甲氧基苯基、4-甲氧基苯基、2-氟苯基、3-氟苯基、4-氟苯基、2-氯苯基、3-氯苯基、4-氯苯基、2-溴苯基、3-溴苯基、4-溴苯基或碳數1~10之烷基)所表示的化合物進行反應之第3步驟。
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